[技术]元件内部场分析仪：FMM [复制链接]

摘要 XFmnZpqXH  
\XMl8G  
vsoj] R$C  
N{P (ym2yR  
元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。 Np|iXwl1  
/Os)4yH\  
元件内部场分析仪：FMM HqOSQ<-Fo  
b_Ba0h=  
"S[VtuxPCU  
元件内部场分析器：FMM是光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 ~srmlBi6  
KEYM@,'  
评估模式的选择 X\$
|oiR  
   <g,k[  
Qkqn~>  
为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。 Dw[w%
uz  
GWA_,/jS%  
评价区域的选择 :":W(O  
   0+r/>-3]  
X/i8$yqv  
FL/y{;  
元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。 ;=)CjC8)  
Rl3KE)<  
不同光栅结构的场分布 %DPtK)X1  
&r DOqj  
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子： p//">l=Ps  
Z1\_[GA  
Ylt[Ks
<2  
光栅结构的采样 a+weBF#Z  

`?=AgGg  
虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。 "VcGr#zW  
rIge6A>I  
oi"Bf7{  
pBL{DgX  
分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 NZeIqhj  
A2rr>  
光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。  T X6Ydd  
3O#7OL68v  
2[M:WZ.1  
输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） mL6/NSSz  
=nid #<X  
S~Q7>oNm  
对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 X[Y!=e4z  
u0XGtu$4  
输出数据的采样：二维周期光栅 YLobBtXc9  
fEQ<L!'  
当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。 @4$F%[g h