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3rZPVR$)) dtV*CX.D.7 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
3NZK$d=4 Zw4%L? 元件内部场分析仪：FMM #D(= [F '-~J.8-</ j C:D> 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
ldU ><xc2 `'r~3kP*NT 评估模式的选择 ;[Xf @xf opn6 C ) (6H 7?n v 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
BuAzO> = 3qu?qD 评价区域的选择 2YQBw,gG xrY >Or 
Ed;!A(64r <o|k'Y(- 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
L`O7-'` <jFov`^ 不同光栅结构的场分布 e{4e<hd pwSkw J] 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
)eSQce7H 2RqV\Jik mo4F\$2N 光栅结构的采样 S}Z@g P A *U\ 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
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Ps 0<CUyI 'tQp&p j 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
{pre|r\ E)p [^1WC 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
k $ SMQ6 wwR}h I( X$t!g` 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） 0&kmP ' XMI5j7C L !)J$f _88D 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
G f~^ Xv!T Jfv'M<I 输出数据的采样：二维周期光栅 " ~K ph0- ns/*WH&[x 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
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