-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-06-05
- 在线时间1977小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
t/\ 内容简介 iCE!TmDT Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ,|{`(y/v
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 MQQm3VaKS 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 U}RBgPX! ;^5k_\ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 { aUnOyX_ 目录 _cX}!d!j Preface 1 Gv_~@MN 内容简介 2 ~w+I2oS$ 目录 i ];OvV ,* 1 引言 1 d )O^(y1r 2 光学薄膜基础 2 7C|!Wno[; 2.1 一般规则 2 5e/YEDP 2.2 正交入射规则 3 lPZ(c%P 2.3 斜入射规则 6 Do/R.Mgy* 2.4 精确计算 7 ?vFy3 2.5 相干性 8 6OAs%QZ 2.6 参考文献 10 }IyF|[ 3 Essential Macleod的快速预览 10 ->8Kd1^F 4 Essential Macleod的特点 32 l1)~WqhE} 4.1 容量和局限性 33 mdWA5p( 4.2 程序在哪里? 33 -B
*W^-;* 4.3 数据文件 35 QQM:[1;RT 4.4 设计规则 35 P>VoA 4.5 材料数据库和资料库 37 Aqmpo3P[+ 4.5.1材料损失 38 tWIs
|n 4.5.1材料数据库和导入材料 39 2'DCB{Jv 4.5.2 材料库 41 fQJ`&9m*BF 4.5.3导出材料数据 43 \8 `7E1d 4.6 常用单位 43 >fH0>W+! 4.7 插值和外推法 46 >R+-mP!nj 4.8 材料数据的平滑 50 j
uA@"SG 4.9 更多光学常数模型 54 ~U0%}Bbh 4.10 文档的一般编辑规则 55 EtKq.<SJ 4.11 撤销和重做 56 _MBhwNBxZ 4.12 设计文档 57 eV[{c %wN: 4.10.1 公式 58 b=,BLe\ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 #ibwD:{ 4.10.3 沉积密度 59 BNfj0e 5b 4.10.4 平行和楔形介质 60 b/M/)o!C 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 x]{P.7IO' 4.10.4 性能 61 wa"0`a:`; 4.10.5 保存设计和性能 64 'D+xs}\ 4.10.6 默认设计 64 ye^x>a[' 4.11 图表 64 |U%NPw5 4.11.1 合并曲线图 67 T$5wH )< 4.11.2 自适应绘制 68 oY)eN?c 4.11.3 动态绘图 68 cx\E40WD 4.11.4 3D绘图 69 /)ZjI
W"| 4.12 导入和导出 73 KD kGQh#9 4.12.1 剪贴板 73 DYf QlA 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 X:GRjoa 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 B\J[O5}, 4.13 背景 77 Kh]es,$D 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 UP-eKK'z 4.15 生成Rugate 84 p&(0e,`z/ 4.16 参考文献 91 /Q1 b%C 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 =Z\q``RBy 5.1 Jobs 92 &}"kF\ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 y%TqH\RKv 5.3 输入材料 94 C4mkt2Eb0a 5.4 设计数据文件夹 95 C- YYG 5.5 默认设计 95 h/Mt<5 6 细化和合成 97 JtFq/&{i 6.1 优化介绍 97 9q`Ewj R 6.2 细化 (Refinement) 98 .>"xp6 6.3 合成 (Synthesis) 100 $--8%gh dG 6.4 目标和评价函数 101 +(+lbCW/ 6.4.1 目标输入 102 u$\.aWol 6.4.2 目标 103 1=5"j]0hY 6.4.3 特殊的评价函数 104 8W&1"h` 6.5 层锁定和连接 104 mdc?~?? 8 6.6 细化技术 104 F5*-HR 6.6.1 单纯形 105 n!4}Hwz! 6.6.1.1 单纯形参数 106 Y=XDN: 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 3r~8:F"g 6.6.2.1 Optimac参数 108 8-;.Ejz!\A 6.6.3 模拟退火算法 109 x6/u+Urn 6.6.3.1 模拟退火参数 109 $bE"3/uf 6.6.4 共轭梯度 111 .x=abA$!9 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 YEv\!%B 6.6.5 拟牛顿法 112 RuHDAJ"&a 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 MT{1/A;`) 6.6.6 针合成 113 ]3v)3Wp 6.6.6.1 针合成参数 114 Hk}P 6.6.7 差分进化 114 Ftyxz&-4$p 6.6.8非局部细化 115 -RP{viGWK 6.6.8.1非局部细化参数 115 Z\0wQ;} 6.7 我应该使用哪种技术? 116 qsj$u-xhX 6.7.1 细化 116
K3zY-yIco 6.7.2 合成 117 a!o%x 6.8 参考文献 117 }R*%q 7 导纳图及其他工具 118 \; XJ$~> 7.1 简介 118 w"v96%"Y 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 qjRbsD> 7.2.1 四分之一波长规则 119 YIN* '!N 7.2.2 导纳图 120 |;J`~H"K 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 nk!uO^ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 L 0Ckw},, 7.5 斜入射导纳图 141 R&!;(k0 7.6 对称周期 141 M&iXdw& 7.7 参考文献 142 v}!lx)# 8 典型的镀膜实例 143 =sWK;` 8.1 单层抗反射薄膜 145 Ea4zC|; 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 CV[ 9i 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 gPn0-)< 8.4 W-膜层 148 ftn10TO * 8.5 V-膜层 149 r;@0F 8.6 V-膜层高折射基底 150 3uw3[
SR1 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 Csu9u'.V 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ",~ZO<P 8.9 四层抗反射薄膜 153 LDegJer-v 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 H0b{`!'Fs: 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 U2`:' 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 tO&n$$ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 m2m
;|rr 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
6(7
56 8.15十五层宽带抗反射膜 159 %Ja0:e 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 c{kpgN 8.17 1/4波长堆栈 162 blomB2vQ 8.18 陷波滤波器 163 p63fpnH 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 PC5$TJnj3 8.20 褶皱 165 fx>QP?Z 8.21 消偏振分光器1 169 rrC\4#H[?? 8.22 消偏振分光器2 171 )W_akUL 8.23 消偏振立体分光器 172 R.1.LB 8.24 消偏振截止滤光片 173 ~"*W;|) 8.25 立体偏振分束器1 174 0`pCgF 8.26 立方偏振分束器2 177 zZd.U\"2 8.27 相位延迟器 178 oHfr
glGX 8.28 红外截止器 179 `j3 OFC{7E 8.29 21层长波带通滤波器 180 QUkP& |