UID:268641
UID:326235
ouyuu:你们那台机是栅网问题。 5K)_w:U X 国产栅网或者旧栅网的效率太低了。 xtLP4VL 数值是1000mA,实际可能500mA的离子都没有。 ^5(d^N 新的原厂栅网一般能达到90%以上的效率。 (2026-03-18 18:43) ,|.}6\zl*{
UID:315847
ouyuu:你们那台机是栅网问题。 n$r`s`} 国产栅网或者旧栅网的效率太低了。 )H{1Xjh- 数值是1000mA,实际可能500mA的离子都没有。 ,f$P[c 新的原厂栅网一般能达到90%以上的效率。 (2026-03-18 18:43) L-C^7[48=
UID:295883
bilong:[图片]我们这个新科隆设备也是这样,150度,射频离子源,钛前面有吸收,镀可见光高反,前面400-550都上不去 ?j.a>{ (2026-03-10 18:27) E2>{se Z
UID:69854
UID:2149
UID:324806
ouyuu:一般是杂质或者膜质不均匀造成的。 n8Qv8 杂质是膜料问题,膜质不均匀是工艺问题,另外Ti2O5本身在短波就有吸收。 o_Zs0/ 充氧可以解决部分膜质不均匀的问题,最好是用射频离子源辅助镀膜。 FQO=}0Hl 离子源能量不够容易造成发雾(散射),这是晶格尺寸造成的。 NC~?4F[ 调整温度可以改善,但是最简单的方法就是 .. (2025-12-18 20:48) lkT :e)w