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1. 建模任务 E~^'w.1 1.1. 模拟条件 {Wo7=aR 光源: EML Emitter (Unit source) wYG0*!Vj 偶极子方向: Polarization ~G:7*:[b Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization) >j3N-;o@? 波长: 380~780 nm (10 nm step) Z]d]RL&r 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step) iSHl_/I< @Iu-F4YT 1.2 堆栈结构 _TF>c:m3 _#B/#^a
ak[)+_k_ EVsZ:Ra^k 2. 建模过程 Nig-D>OS AF6'JxG7 2.1创建新的项目文件 #J_i 5KmXJ Y2EN!{YU
ibyA~YUN/ ,vPF=wq 2.2 使用材质或层定义 1D 结构 b??1Up I"4B1g
d.A0(*k, -f=hL7NW 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter) Lw`\J|%p ~l~g0J
|{T2|iJI `Fj(g!` 3. 结果分析 2wCRT}C 5FxU=M1gF 极坐标图结果 _rd{cvdR "f_Z.6WMY
5mU_S\)4:z ZtVa*xl 等高线图结果 yhaYlYv[_3 kns]P<g
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