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1. 建模任务 ga +dt 1.1. 模拟条件 Nf\LN$ &8 光源: EML Emitter (Unit source) W6Fo6a"< 偶极子方向: Polarization f:}
x7_Q Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization) ?caSb=f 波长: 380~780 nm (10 nm step) y6a3tG 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step) Zy/_
E@C}u ;Y, y 4{H3 1.2 堆栈结构 * EH~_F fJg+ Ryo
2+XAX:YD `c$V$/IT 2. 建模过程 yWSGi#)1 o]V^};B 2.1创建新的项目文件 W=?<<dVYD a7opCmL
g_bLl)g< i
ct]) 2.2 使用材质或层定义 1D 结构 ^2rN>k,?
J&_n9$
PJ#,2=n~ F== p<lrs 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter) wCBplaojJ TWTb?HP
{.Jlbi9! "{t$nVJ 3. 结果分析 flx(HJK "AqB$^S9t 极坐标图结果 DEgXQ[ h(DTa
HoAy_7-5 A#,ZUOPGH 等高线图结果 4xj4=C~i ueNS='+m
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