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    [培训]从薄膜原理、设计到工艺(5.16~18日 上海) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 05-07
    faVS2TN4  
    时间地点 FOp_[rR   
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 "jGe^+9uT  
    苏州黉论教育咨询有限公司 s1=u{ET  
    授课时间:2025年5月16日(五)-18日(日)AM 9:00-PM 16:00 +{ab1))/  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 >sV Bj(f  
    课程讲师:讯技光电工程师团队成员 VRhRwdC  
    课程费用:4800RMB(包含课程材料费、开票税金、午餐费) m|dF 30~A  
    Wf1-"Q  
    课程简介 h544dNo&  
    当收到需求者的光学规格及非光学规格如环境测试要求时,既可以着手选用所需的基板,镀膜材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手,例如高反射镜不管波宽大小,开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础,倘若是截止滤光片,则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时,我们需要考虑商业软件或自行设计电脑软件来参与合成或优化,设计好之后,即刻进行制造成功率分析,亦看膜层厚度的误差值的容许度,若是镀膜机的精密度做不到,则要修改设计,重新分析直达合格为止。 >@Khm"/T  
    透明塑料基板质轻价廉,而且容易成型为非球面透镜,被广泛采用在光学系统中,如眼睛镜片、相机透镜、手机镜头、及显示器面板,如OLED,近眼显示应用。但塑性及软性基板的低密度致使其具有吸水性,从而使薄膜与基板的附着性不佳。再者这些塑料基板比较柔软、容易刮伤、需要镀上硬膜保护。因此塑料透镜的镀膜除了抗反射,还要兼具免受刮伤的保护。本课程会从这些方面重点阐述塑料基底的镀制工艺及其物理特性。 we a\8[U3"  
    该课程一天会全面讲解光学薄膜分析软件Essential Macleod的操作方法,第二天和第三天会讲解薄膜设计和工艺上面的应用。 V'yxqI?  
    KgU[  
    课程大纲 qS82/e)7  
    1. Essential Macleod软件介绍 S A3Y:(  
    1.1 介绍软件 WFdem/\kX  
    1.2 运行程序 f[M"EMy  
    1.3 创建一个简单的设计 ST4(|K  
    1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 }q x(z^  
    1.5 约定-程序中使用的各种术语的定义 UJs?9]x>  
    PDZ)*$EE  
    2. 光学薄膜理论基础 |ZuDX87  
    2.1  介质和波 /2'c>  
    2.2 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 qq>44k\|)  
    2.3 后表面对光学薄膜特性的影响 KqY>4tb  
    4+,*sn  
    3. 理论技术 {lKEZirO  
    3.1 参考波长与g m-#d8sD2C  
    3.2 四分之一规则 %J3lK]bv(  
    3.3 导纳与导纳图 {r X5  
    lc-*8eS  
    4. 光学薄膜设计 w`38DF@K  
    4.1 光学薄膜设计的进展 U#l.E 1Z  
    4.2 光学薄膜设计中的一些实际问题 'Sk6U]E~  
    4.3 光学薄膜设计技巧 X)FQ%(H<  
    4.4 特殊光学薄膜的设计方法 $pJ3xp&  
    4.5 优化目标设置 l?N`V2SuR  
    4.6 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) rr6"Y&v  
    n%Rjt!9  
    5. 常规光学薄膜系统设计与分析 3g+ \? L-c  
    5.1 减反射薄膜 'jwTGT5x  
    5.2 分光膜 xKisL=l6Y  
    5.3 高反射膜 \!6t  
    5.4 干涉截止滤光片 c{ZqQtfM  
    5.5 窄带滤光片 f Y2l.H\f  
    5.6 负滤光片 :'TX"E!  
    5.7 非均匀膜与Rugate滤光片 +0)5H>h  
    5.8 Vstack薄膜设计示例 UvoG<;  
    5.9 Stack应用范例说明 _2xuzmz0  
    7{8)ykBU^  
    6. VR、AR及HUD用光学薄膜 5"]aZMua  
    6.1 背景介绍 i@%L_[MtA  
    6.2 产品特性 lK 9s0t'  
    6.3 典型VR系统光学薄膜设计分析 ec,z6v^9  
    6.4 典型AR系统光学薄膜设计分析 HKT{IP+7(L  
    6.5 典型HUD系统光学薄膜设计分析 ZW`HDrP`  
    72% {Wh/  
    7. 防雾薄膜 gS0,')w  
    7.1 自清洁效应 IrUpExJ  
    7.2 超亲水薄膜 g!z8oPT  
    7.3 超疏水薄膜 mRNHq3  
    7.4 防雾薄膜的制备 -1dIZy  
    7.5 防雾薄膜的性能测试 [)B@  
    UeC 81*XZ  
    8. 材料管理 6YB-}>?  
    8.1 光学薄膜材料性能及应用评述 8VKb*  
    8.2 金属与介质薄膜 VN1# 8{  
    8.3 材料模型 "1E?3PFJ  
    8.4 介质薄膜光学常数的提取 vjY);aQ  
    8.5 金属薄膜光学常数的提取 PP~CZ2Fze  
    8.6 基板光学常数的提取 `\6 +z  
    8.7 光学常数导出遇到的问题及解决思路 WIhIEU7/  
    #zh6=.,7  
    9. 薄膜制备技术 * N2#{eF&]  
    9.1 常见薄膜制备技术 HE4`9$kVLr  
    9.2 光学薄膜制备流程 *(>F'>F1"  
    9.3 淀积技术 Ji)%Y5F  
    9.4 工艺因素 "`H=AX0  
    }C9VTJs|  
    10. 误差、容差与光学薄膜监控技术 ]M02>=1  
    10.1 光学薄膜监控技术 |Sy}d[VKsZ  
    10.2 误差分析与监控决策 \r)_-  
    10.3 Runsheet 与 Simulator应用技巧 "@F*$JGT y  
    10.4 膜系灵敏度分析 U!3uaz'  
    10.5 膜系容差分析 n/,rn>k7:  
    10.6 误差分析工具 Ss*Lg K_  
    11. 反演工程 b*9m2=6  
    11.1 镀膜过程中两种主要的误差(系统误差和随机误差) #h}IUR  
    11.2 用反演工程来控制对设计的搜索 O p!  
    YLr%vnO*NS  
    12. 应力、张力、温度和均匀性工具 hPNQGVv  
    12.1 光学性质的热致偏移 T(t <Ay?c  
    12.2 应力工具 hJs&rpN  
    12.3 均匀性误差(圆锥工具、波前问题) je$R\7B<  
    lUy*549,  
    13. 光学薄膜特性测量 +Px<DX+  
    13.1 薄膜光学常数的测量 |^>L`6uo  
    13.2 薄膜堆积密度的测量 @Wlwt+;fT  
    13.3 薄膜微观结构分析 yAZ.L/jyr  
    13.4 薄膜成分分析 Z)b)v  
    13.5 薄膜硬度、附着性及耐摩擦性的测量 T% jjs  
    13.6 薄膜表面粗糙度的测量 @p?b"?QaB  
    !]UU;8h~  
    14. 项目管理与应用实例 h[M6.  
    14.1 项目管理 mU e@Dud  
    14.2 光学薄膜项目开发过程 4OB~h]Vc  
    14.3 客户需求分析 '2i)#~YO<  
    14.4 文档管理与报表生成 !kjr> :)x  
    oqQ?2k<@  
    15. 其他控制透反射方法 '=@H2T6=  
    15.1 蛾眼抗反射结构 >8.v.;`  
    15.2 线栅偏振片 1GyAQHx,  
    8z3I~yL_`+  
    16. Q&A a`GN@ 8  
    D{3 x}5  
    %<bG%V(  
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