[技术]二维周期光栅结构（菱形）光波导的应用 [复制链接]

摘要 C)cuy7<  
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如今，大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导系统，结合微结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理光学方法对此类设备进行详细建模，包括所有效应（例如相干、偏振和衍射）。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力，该设备由复杂的一维和二维菱形光栅结构组成。 T'5MO\  
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建模任务：专利WO2018/178626 `nd$6i^#W  
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任务描述 m>DJ w7<  
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光波导元件 =_$Hn>vO  
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使用光波导组件，可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外，这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构，以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。 0>3Sn\gZ(  
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光波导结构 dlDO?T  
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使用光波导组件，可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外，这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构，以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。 R E9`T  
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=GC,1WVEqV  
光栅#1:一维倾斜周期光栅 4=l$wg~;  
mfk^t`w_  
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几何布局展示了2个光栅： \[]4rXZN0  
}u;`k'J@  
XJA];9^  
•光栅1耦合器：层状（一维周期性），例如倾斜光栅 dTQW/kAHQ  
•光栅2 EPE和输出耦合器：交叉光栅（二维周期，非正交） 3 5p)e c  
acow  
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4mm>6w8NT  
光栅#2：具有菱形轮廓的二维周期光栅 iE^=Vf;  
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使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。 &[5pR60  
rb]?"lizi  
^(Wu$\SA  
YLb$/6gj6  
可用参数： 5wC,:c[H7  
•周期：400纳米 kK.[v'[>&  
•z方向延伸（沿z轴的调制深度）：400nm && b;Wr  
•填充系数（非平行情况下底部或顶部）：50% ,#j'~-5  
•倾斜角度：40º sV]I]DR  
[G"Va_A8  
JD]uDuE  
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1H8/bD  
总结—元件 di37  
E^m;Ab=  
+77B656  
具有非正交二维周期的菱形（菱形）光栅结构，通过定制接口实现。 !iW>xo  
sAoxLI  
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可用参数： 9u%(9Ae  
•周期（锥间方向）：（461.88纳米，800纳米） Fz
G>iC}  
•调制深度：100nm XmN8S_M>v  
•填充系数：65% s13
3N?  
•菱形网格的角度：30° `pqTiV  

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总结——元件 xcH&B%;f  

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0!M'z
 
664D5f#EJ  
结果：系统中的光线 -s]@8VJA"  
R$;TX^r'o&  
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结果： $dG:29w  
eg24.W9c  
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-,2CMS#N  
结果：场追迹 J M`[|"R%  
^,aI2vC  
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d{Owz&PL  
VirtualLab Fusion技术 < pZwM  
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