摘要 ed'}ReLK wTf0O@``6H 如今，大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统，结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模，包括所有效应（例如相干、
偏振和
衍射）。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力，该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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E,c ~.jYc 2GqPS 建模任务：专利WO2018/178626 ;}A#ws_CD_ Av.(i2 
p8 7s99 `]LaX&u 任务描述 xp)#a_} V~T jz%< 
"f!*%SR:
1 T9t9]) 光波导元件 Dr6Br<yi 
pEH[fA ] Ook 3B 光波导结构 !Ya
+ >: W)9o 使用光波导组件，可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外，这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构，以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
JEdtj1v{O tPO.^ 
"sAR< 5b rHT8a^MO 光栅#1:一维倾斜周期光栅 i J?8)} 7 z<!2 pqMv YF 几何布局展示了2个光栅：
c`doR(oZ Jgtv i a 
{)4Vv`n •光栅1耦合器：层状（一维周期性），例如倾斜光栅
k{ c ~ •光栅2 EPE和输出耦合器：交叉光栅（二维周期，非正交）
Wn0r[h5t px //q4 U 
z6Su` "*+epC|ks 光栅#2：具有菱形轮廓的二维周期光栅 %bDd Xuh_bW&zF g ?`D8 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
*X niF~M m9#u. Q* 
A'[A!N L% 7 w>"M 可用
参数：
+bdkqdB9 •周期：400纳米
)@R:$l86 •z方向延伸（沿z轴的调制深度）：400nm
?#04x70 •填充系数（非平行情况下底部或顶部）：50%
w2+RX-6Ie •倾斜角度：40º
M 8KfC! ;lYO)Z`3\ 
9?,n+ 1 _5[5K^ 8^dGI9N
总结—元件 Z]w_2- - v|{*y =;Wkg4\5 具有非正交二维周期的菱形（菱形）光栅结构，通过定制接口实现。
zE<vFP-1v HoRLy*nU 
+% U@ y{j>4g$:z 可用参数：
,l0s(Cg •周期（锥间方向）：（461.88纳米，800纳米）
Q=^ }B}G •调制深度：100nm
5VG@Q% •填充系数：65%
*
+OAc `8 •菱形网格的角度：30°
_F@FcFG1Z* A ]H+rx g 
ARQ1H0_B 6\::Ku4_2 总结——元件 PU -~7h+$ ]nfS vPb 
4?%0z) g )s6tj lf8 
P]6pPS ~gBqkZ# y? 结果：系统中的光线 KJ9~"v
3J(STIxg 
A) `M*(~ PY>j?otD 结果：
j<l>+.,
U HH+rib'u 
/OxF5 bN2 4
Qw; r 结果：场追迹 Q7}w Y OcSLRN?t 
58v5Z$%-- Z>M*!mQi VirtualLab Fusion技术 UI!EIZ*~ B"Fg`s+]U 
