[技术]元件内部场分析仪：FMM [复制链接]

摘要 _0GM!Cny  
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元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。 +KcD Y1[  
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元件内部场分析仪：FMM M= ]]kJ:I  
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元件内部场分析器：FMM是光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
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评估模式的选择 ^7p>p8  
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为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。 Zqp<8M2  
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评价区域的选择 !et[Rdbu  
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元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。 MJ%gF=$X  
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不同光栅结构的场分布 Vi:<W0:  
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任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子： WGC
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光栅结构的采样 9$iDK$%  
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虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。 J;R1OJs S  
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分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 %=G*{mK  
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光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 .$s>b#mO  
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输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） \|wUxijJ*,  
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对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 {wS)M  
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输出数据的采样：二维周期光栅 loR,f&80=O  
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当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。 8~6H\.0Q