摘要 4(aesZ8h
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^ Nsl5 @>9p2u) = 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
5GJ0E Z'X uCu,'F,6Y 元件内部场分析仪：FMM j^%i?BWw ^CK)q2K>[ Ar<OP'C 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
}qD.Ek ]R4)FH|>< 评估模式的选择 Yi p9K[ amBz75N{ rp'fli? 0e 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
d(@A b(SV_.4,' 评价区域的选择 D@ ^F6am% Pm1
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o` 77gkLO Rm*}<JN31 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
Z@[ ,"{Sn i `>X5Da5 不同光栅结构的场分布 ?UfZ VyHv+ & 16bZw 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
EkL\~^ R$fna[Xw@/ H*\[:tPa 光栅结构的采样 q~^:S~q fiZv+R<x1 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
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0wkLM-lN N/%#GfXx 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
z;/'OJ[. .u*].As= 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
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%O$zu x>J3tp$2 kW!:bh 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） 4jz] c"p- 7P`1)juA9 $dnHUBB 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
pMquu&Td yhdG 93 输出数据的采样：二维周期光栅 \Zv =?\ q8h{-^" 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
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