摘要 |<,qnf | -
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M?" 4 { @ tm2Y%Y! 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
F{E @snc !6=;dX 元件内部场分析仪：FMM G&{yM2:E @gK`RmhGE5 *pa hZiO 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
?96r7C| oOpEpQ}}q 评估模式的选择 (l{8Ix s HJ 7A/XW #&Tm%CvB 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
v9:J 55x QjY}$ 评价区域的选择 Sc >m w
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>ceC8"}J5M zl :by? 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
h@$SJe(hl n~ad#iN 不同光栅结构的场分布 z.-yL,Rc`- Ba m.B6- 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
vkTu:3Qe ?;~E*kzO& q< q IT 光栅结构的采样 D r(0w{5 e3SnC:OWf 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
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$\J5l$tU &!X<F, 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
TF :'6#p {TNORbZ z 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
-\f7qRW^U u.X]K:Yow kiM:(=5 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） !VWA4 e!+ aH1CX<3)~ v3 Vve:}+ 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
gxVr1DIkN <jV,VKL# 输出数据的采样：二维周期光栅 \KhcNr?ja= ' 9f0UtT|[ 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
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