[技术]元件内部场分析仪：FMM [复制链接]

摘要 N9pwWg&<+  
6zuze0ud  
L+73aN  
97!H`|u <  
元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。 am2a#4`  
(X*9w##x(  
元件内部场分析仪：FMM bCzdszvg3  
=9(tsB gTX  
:xM}gPj"  
元件内部场分析器：FMM是光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 )PwQ^||{  
4x(F&0  
评估模式的选择 ><X $#  
   |Hfl&3  
!\ZcOk2  
为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。 ;t|,nz4kJ  
9T$u+GX'  
评价区域的选择 Gh'X.?3   
   rfX=*mjt  
VxkEez'|  
\p3v#0R{  
元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。 l/M[am  
y[7C% Wj  
不同光栅结构的场分布 iyc$)"w  
V;k#})_-  
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子： $.9 +{mz  
\KCWYi]  
1#]B^D  
光栅结构的采样 x df?nt  
>4~#%&  
虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。 3+%nn+m  
dkpQZXi9%  
s@PLS5d"  
=D5wqCT(Q  
分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 $,@JYLC2  
Wa<-AZn
h  
光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 p.5e: i^LJ  
e:BDQU  
u3ST;  
输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） L/%Y#  
 jC4O`  
#hy
+ L  
对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 {l@WCR  
jI A#!4  
输出数据的采样：二维周期光栅 2 ZK%)vq0  
Mb1wYh  
当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。 ??j&i6sp