[技术]元件内部场分析仪：FMM [复制链接]

摘要 jJ$\WUQ.  
m:@y_:X0  
%>+uEjbT  
Be6Yh~m  
元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。 W+h2rv  
p-4$)w~6i  
元件内部场分析仪：FMM K%q5:9m  
7;jD>wp9D  
!XPjRdq  
元件内部场分析器：FMM是光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 +B*]RL[th  
g~hMOI?KK^  
评估模式的选择 B+W7zv  
   "U\RN  
8dE0y
P  
为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。 (&}[2pb!  
U5Hi9fe  
评价区域的选择 yE}\4_0I/  
   *5)UIRd  
\jfK']P/H  
]az(w&vqg2  
元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。 U1 _"D+XB  
]Lv3XMa  
不同光栅结构的场分布 u/=hueR<^  
o=rR^Z$G   
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子： ~$J;yo
~  
(*S<2HN5  
~?\U];l  
光栅结构的采样 63l3WvoK  
X4%uY  
虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。 'z|Da&d P  
g5y+F
]'I  
Y`g oV  
ebBi zc=  
分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 <K CI@  
|Y3w6!$  
光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 aC1z.?!U  
wAHuPQ&_Q  
n]g"H  
输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） Ul8HWk[6Iw  
7yE\,  
=@U5/J  
对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 Lm[,^k  
_=HaE&  
输出数据的采样：二维周期光栅 hO"!q;<eS  
2Mx\D  
当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。 2;gvo*k