摘要 Yy JPHw)Z
,chf~-d
b*mKei vhT_=: x 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
Y' 3}G<'% Koln9'tB 元件内部场分析仪：FMM 0g<K [mPr7 ~; OYtz 4^' 3&vu 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
^, i>'T $7Mtt.d 6 评估模式的选择 6V+ qnUk uH^ PQ KZ: 8[d 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
}^K/?dM Hj1
EGC A 评价区域的选择 2~p[7?sp' X#U MIl U 
/Go
K}W} Zz |MIGHm 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
tNmy&
ns A mN5
8r"!J 不同光栅结构的场分布 kK~IwA +|%Sx 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
3% <C< ( :Ze+% d= w[Ep*-yeI 光栅结构的采样 $H'X V"<o td -3 h,\\ 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
3Gr&p 6 h? yG<>wI 
;; gK@?hJ iY/KSX^~O 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
bT!($?GNdg 2$zU& p7sV 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
j%*7feSNC "n\%_'R\hH :Px\ qh}K 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） jB^OP1 / = #~ 4DO/rtkVq 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
I/COq U 7~ [H"#7t.V-~ 输出数据的采样：二维周期光栅 Rh] P8 TL) O - 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
[~k]{[NJ
