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Udf\;G@ 内容简介 Efoy]6P\ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 K:% MhH- 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 um%s9 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 <f =<r*6 feH&Ug4?G 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 rP,| 目录 /D yig Preface 1 epG]$T![ 内容简介 2 SL`; `// 目录 i _00}O+GLM4 1 引言 1 2^"!p;WQ 2 光学薄膜基础 2 6`%|-o
: 2.1 一般规则 2 bxO[y<|XL 2.2 正交入射规则 3 AZ4:3} 2.3 斜入射规则 6 gPA8A>U)[ 2.4 精确计算 7 X$G:3uoN 2.5 相干性 8 p!)PbSw# 2.6 参考文献 10 ~C3J-z< 3 Essential Macleod的快速预览 10 U#- 5",X| 4 Essential Macleod的特点 32 W$Xr:RU 4.1 容量和局限性 33 ZoYllk 4.2 程序在哪里? 33 1f1D^| 4.3 数据文件 35 BHS@whj 4.4 设计规则 35 ,Z
:2ba 4.5 材料数据库和资料库 37 Q[%G`;e # 4.5.1材料损失 38 S,udpQ7 4.5.1材料数据库和导入材料 39 j^v<rCzc( 4.5.2 材料库 41 LNrM`3%2- 4.5.3导出材料数据 43 "=KFag 4.6 常用单位 43 >|gXE> 4.7 插值和外推法 46 O*lIZ,!n 4.8 材料数据的平滑 50 7xY&7 x(v 4.9 更多光学常数模型 54 GMkni'pV 4.10 文档的一般编辑规则 55 {.0I!oWv 4.11 撤销和重做 56 +fKV/tSWi 4.12 设计文档 57 f}KV4'n 4.10.1 公式 58 KY0<N9{ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 \TnK<83 4.10.3 沉积密度 59 W5e>Z&& 4.10.4 平行和楔形介质 60 H3pZfdh?w 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ydRS\l 4.10.4 性能 61 ;j[gE
4.10.5 保存设计和性能 64 ew~uOG+ 4.10.6 默认设计 64 PR AP~P&^ 4.11 图表 64 7q 5 \]J[ 4.11.1 合并曲线图 67 uZ@qlq8 4.11.2 自适应绘制 68 [}
d39 4.11.3 动态绘图 68 lPC{R k.\C 4.11.4 3D绘图 69 A[`c+& 4.12 导入和导出 73 jsF5q~F 4.12.1 剪贴板 73 53.jx38xS 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ftRdK>a
D 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 (lq%4h 4.13 背景 77 tNOOaj9mw 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 nB[B
FVkU 4.15 生成Rugate 84 [9}<N2,9z 4.16 参考文献 91 7L6^IK 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 k8SY=HP 5.1 Jobs 92 /QCg E~ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 > PL}7f&: 5.3 输入材料 94 NXz/1ut% 5.4 设计数据文件夹 95 "(~fl<; 5.5 默认设计 95 3j[<nBsn. 6 细化和合成 97 :uqEGnEut 6.1 优化介绍 97 G9#3
|B-? 6.2 细化 (Refinement) 98 M\Wg|gpy 6.3 合成 (Synthesis) 100 teLZplC=f 6.4 目标和评价函数 101 E0aFHC[ 6.4.1 目标输入 102 9"/=D9o9 6.4.2 目标 103 (JE&1 @ 6.4.3 特殊的评价函数 104 ae2I,Qt% 6.5 层锁定和连接 104 9Uz2j$p7 6.6 细化技术 104 6Bd:R}yZP7 6.6.1 单纯形 105 h+cOOm-) 6.6.1.1 单纯形参数 106 .)1u0 (? 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 t: ,lz8Y~ 6.6.2.1 Optimac参数 108 y1Wb/ d 6.6.3 模拟退火算法 109 V' i@N 6.6.3.1 模拟退火参数 109 BvH I}= 6.6.4 共轭梯度 111 P.=Dd"La 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ?VTP|Z 6.6.5 拟牛顿法 112 AT2D+Hi=E 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 zP@\rZ @4 6.6.6 针合成 113 P8w56 6.6.6.1 针合成参数 114 jd"YaZOQ 6.6.7 差分进化 114 V,\}|_GY 6.6.8非局部细化 115 \[8uE,=| 6.6.8.1非局部细化参数 115 w*(1qUF#% 6.7 我应该使用哪种技术? 116 D.a\O9q"&{ 6.7.1 细化 116 `d
x.<R#, 6.7.2 合成 117 M?n}{0E4 6.8 参考文献 117 goD#2lg 7 导纳图及其他工具 118 $%ztP
Ta 7.1 简介 118 !HW?/-\,O 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 e;"%h%' 7.2.1 四分之一波长规则 119 \9sJ`,T? 7.2.2 导纳图 120 62[_u]<Yub 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 $z5C+K@ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 mVK^gJ3 7.5 斜入射导纳图 141 b=L|GV@$ 7.6 对称周期 141 /"R{1 7.7 参考文献 142 =~dXP 8 典型的镀膜实例 143 ?fpI,WFu 8.1 单层抗反射薄膜 145 ,ob)6P^rw 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 /
=v1.9( 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 c.>OpsF 8.4 W-膜层 148 ]*{tno 8.5 V-膜层 149 jT-tsQ ., 8.6 V-膜层高折射基底 150 78]( ZYJV 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 C6D
Eq>v 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 F7=&CW 0 8.9 四层抗反射薄膜 153 !Pd) 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 F)S?>P& 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ytfr'sr/ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 xp\6,Jyh 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 {Z~ze` N/ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 rC ,ZRFF 8.15十五层宽带抗反射膜 159 G49`a*Jn 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 ;`a~9uG 8.17 1/4波长堆栈 162 i*+N[#yp 8.18 陷波滤波器 163 /AUX7
m.8 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 8` WaUB% 8.20 褶皱 165 NnY+=#j7L 8.21 消偏振分光器1 169 \YsLVOv%:d 8.22 消偏振分光器2 171 sHSg _/| 8.23 消偏振立体分光器 172 5j5}c`: 8.24 消偏振截止滤光片 173 $n::w c
8.25 立体偏振分束器1 174 - KaU@t 8.26 立方偏振分束器2 177 1f2*S$[*L 8.27 相位延迟器 178 QGXR< |