Zemax光学设计从入门到精通	《杂散光抑制与评估技术》	Zemax光学设计实践基础(陈家璧)	光学设计与光学元件
讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商	双11活动：领红包、购物券啦！	CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape	计算光学带来的成像革命(第2季)

[技术]设计和分析GRIN扩散器 [复制链接]

离线infotek

只看楼主倒序阅读楼主发表于: 2024-10-30

1.建模任务

 这个案例将演示设计与分析一个折射率调制的扩散器图层以生成Top Hat图案。
 设计包括两个步骤：
- 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
- 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
 如果想要更详细的解释设计和分析步骤，请参见教程Tut565。

照明光束参数

 波长：632.8nm
 激光光束直径（1/e2）：700um

理想输出场参数

 直径：1°
 分辨率：≤0.03°
 效率：>70%
 杂散光：<20%

2. 设计相位函数

 相位的设计请参考会话编辑器Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp
 设计没有离散相位级的phase-only传输。

3.计算折射率调制

 最大折射率调制
△n=+0.05
 如果是GRIN层，那么厚度：12.656um
 折射率调制假设与相位调制成正比（薄元近似）。
 为得到细节请参见教程Tut565。
 优化系统文件Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd。

4.模拟结果

角强度分布

（参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd）

5.结论
 VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。
 优化的GRIN元件可以生成任意二维强度分布。
 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。

分享到


	http://www.opticsky.cn 访问内容超出本站范围，不能确定是否安全


	关闭您还没有登录，快捷通道只有在登录后才能使用。立即登录还没有帐号？赶紧注册一个