课程编号CS240016 1:I _ ;O_ Djp;\.$( 时间地点 >(W t 0SZ:C( ] 主办单位：讯技光电科技（上海）有限公司；苏州黉论教育咨询有限公司
CSFE[F63 授课时间：2024年12月4 (三）-6（五）共3天 AM 9:00-PM 16:00
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jM u5f 授课地点：上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室
9.Sv"=5gz 课程讲师：讯技光电高级工程师&资深顾问
fhki!# E8M 课程费用：4800RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐)
QA~Lm j'SGZnsy* 特邀专家介绍 <Um 5w1 
Qer}eg`R 易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，主要从事
光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率
激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空
镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。
dhr- tw Gfle"_4m8 课程简介 OK:YnSk " *W4~.peoE 随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计
模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。
~ #P` 7G 7 C@m(oK 课程大纲 xI5zP?
_v ;'4K g@/ 1. Essential Macleod软件介绍1.1 介绍
软件 x{ VUl 1.2 创建一个简单的设计1.3 绘图和制表来表示性能
rWuqlx# 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann）
zgSv -h+f 1.6 特定设计的公式技术1.7 交互式绘图
*nY$YwHB 2. 光学薄膜理论基础2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算
:rN5HOg^9 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响
3. 材料管理 7}Jn`^! 3.1 材料模型3.2 介质薄膜光学常数的提取
Vf$q3X 3.3 金属薄膜光学常数的提取3.4 基板光学常数的提取
&WVRh =R 4. 光学薄膜设计优化方法4.1 参考
波长与g
^F+7@*u 4.2 四分之一规则4.3 导纳与导纳图
0&6(y*
#Z 4.4 斜入射光学导纳4.5 光学薄膜设计的进展
;.d{$SO 4.6 Macleod软件的设计与优化功能4.6.1 优化目标设置
+tv"j;z 4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法）4.6.3 膜层锁定和链接
\r \wqz7 5. 光学薄膜系统设计与分析案例与应用5.1 减反射薄膜
hJoh5DIE95 5.2 分光膜5.3 高反射膜
w `>g^_xsg 5.4 干涉截止滤光片5.5 窄带滤光片
SKSI\]Cc 5.6 负滤光片5.7 非均匀膜与Rugate滤光片
$w! v 5.8 仿生蛾眼/复眼结构5.9 颜色膜
,@@FAL 5.10 Vstack薄膜设计示例5.11 Stack应用范例说明
jbu+> 6. 薄膜性能分析6.1 电场分布
$"{I| UFC 6.2 公差与灵敏度分析6.3 反演工程
v ,)vW5jGI 6.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真
7. 真空技术 T:w %RF[v9 7.1 常用真空泵介绍7.2 真空密封和检漏
lUM-~ 8. 薄膜制备技术8.1 常见薄膜制备技术
(=QiXX1r 9. 薄膜制备工艺9.1 薄膜制备工艺因素
x /?w1 9.2 薄膜均匀性修正技术9.3 光学薄膜监控技术
(!diPwcv 10. 激光薄膜10.1 薄膜的损伤问题
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A6 = 10.2 激光薄膜的制备流程10.3 激光薄膜的制备技术
!MD uj 11. 光学薄膜特性测量11.1 薄膜
光谱测量
P<R'S 11.2 薄膜光学常数测量11.3 薄膜应力测量
E"t79dD 11.4 薄膜损伤测量11.5 薄膜形貌、结构与组分分析
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