课程编号CS240016 '_c/CNs rFXdxRP;M 时间地点 @c|=onx5 @v)Z>xv 主办单位：讯技光电科技（上海）有限公司；苏州黉论教育咨询有限公司
Z[ ?n{vD7 授课时间：2024年12月4 (三）-6（五）共3天 AM 9:00-PM 16:00
yv,FzF}7 授课地点：上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室
'09|Y#F 课程讲师：讯技光电高级工程师&资深顾问
Qq, 2V 课程费用：4800RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐)
m{q'RAw &S >{9 y% 特邀专家介绍 pD{ OB 
eRMN=qP.q 易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，主要从事
光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率
激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空
镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。
6 >kU Lp 0*{(R# 课程简介 ;.}L# '0j JxVGzb`8 随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计
模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。
MPB[~#: -@> {q/ 课程大纲 7H Har'=T u^2`$W 1. Essential Macleod软件介绍1.1 介绍
软件
3 ahriZe 1.2 创建一个简单的设计1.3 绘图和制表来表示性能
khy'Y&\F; 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann）
ob 7'''i 1.6 特定设计的公式技术1.7 交互式绘图
%-n) L 2. 光学薄膜理论基础2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算
X$kLBG[o_ 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响
3. 材料管理 a{ 8a[z 3.1 材料模型3.2 介质薄膜光学常数的提取
Hx#YN*\.M 3.3 金属薄膜光学常数的提取3.4 基板光学常数的提取
-@N-i$!;J 4. 光学薄膜设计优化方法4.1 参考
波长与g
i~ u4v3 r= 4.2 四分之一规则4.3 导纳与导纳图
w.m8SvS&b 4.4 斜入射光学导纳4.5 光学薄膜设计的进展
Wb}-H -O 4.6 Macleod软件的设计与优化功能4.6.1 优化目标设置
aT0~C.vT 4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法）4.6.3 膜层锁定和链接
_pdKcE\X 5. 光学薄膜系统设计与分析案例与应用5.1 减反射薄膜
@ m`C%7< 5.2 分光膜5.3 高反射膜
L.;b( bFe 5.4 干涉截止滤光片5.5 窄带滤光片
45yP {+/-Q 5.6 负滤光片5.7 非均匀膜与Rugate滤光片
p $Tk;;wm 5.8 仿生蛾眼/复眼结构5.9 颜色膜
=R5 W
KX 5.10 Vstack薄膜设计示例5.11 Stack应用范例说明
tD8fSV 6. 薄膜性能分析6.1 电场分布
Y:\msq1xp 6.2 公差与灵敏度分析6.3 反演工程
!Rv ;~f/2 6.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真
7. 真空技术 Gk:fw#R 7.1 常用真空泵介绍7.2 真空密封和检漏
)LP' 4* 8. 薄膜制备技术8.1 常见薄膜制备技术
NpVL;6?7T 9. 薄膜制备工艺9.1 薄膜制备工艺因素
VEWW[ T 9.2 薄膜均匀性修正技术9.3 光学薄膜监控技术
//8W"> u 10. 激光薄膜10.1 薄膜的损伤问题
u aIAVBRcS 10.2 激光薄膜的制备流程10.3 激光薄膜的制备技术
+/B 11. 光学薄膜特性测量11.1 薄膜
光谱测量
v H HgZ 11.2 薄膜光学常数测量11.3 薄膜应力测量
/?8 1 Ypt 11.4 薄膜损伤测量11.5 薄膜形貌、结构与组分分析
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