课程编号CS240016 ~&Y %yN^ :3 By7BZgj 时间地点 sKGR28e >I * uo.OF 主办单位：讯技光电科技（上海）有限公司；苏州黉论教育咨询有限公司
E9PD1ADR 授课时间：2024年12月4 (三）-6（五）共3天 AM 9:00-PM 16:00
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i 授课地点：上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室
IM&l%6[). 课程讲师：讯技光电高级工程师&资深顾问
,Q>wcE6v 课程费用：4800RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐)
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R?xj 特邀专家介绍 iK e68kx 
Mp`i@p m+ 易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，主要从事
光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率
激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空
镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。
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`g)| $}Ky6sBnvO 课程简介 5s=L5]]r_j f-a+&DB9 随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计
模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。
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iW 课程大纲 f!+G1z}iA OE_A$8L 1. Essential Macleod软件介绍1.1 介绍
软件 JAP4Vwj%j 1.2 创建一个简单的设计1.3 绘图和制表来表示性能
}1pG0V4 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann）
q b7ur; 1.6 特定设计的公式技术1.7 交互式绘图
dpI! {'"M 2. 光学薄膜理论基础2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算
{qPu }? 0 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响
3. 材料管理 Y|N.R(sAs& 3.1 材料模型3.2 介质薄膜光学常数的提取
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~-A 3.3 金属薄膜光学常数的提取3.4 基板光学常数的提取
?UV!^w@L:0 4. 光学薄膜设计优化方法4.1 参考
波长与g
iP+3) 4.2 四分之一规则4.3 导纳与导纳图
;\)N7SJ 4.4 斜入射光学导纳4.5 光学薄膜设计的进展
R7~#7qKQB 4.6 Macleod软件的设计与优化功能4.6.1 优化目标设置
J+=+0{} 4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法）4.6.3 膜层锁定和链接
dI $M9; 5. 光学薄膜系统设计与分析案例与应用5.1 减反射薄膜
b f-V Q7 5.2 分光膜5.3 高反射膜
56^#x 5.4 干涉截止滤光片5.5 窄带滤光片
?cD2EX%( 5.6 负滤光片5.7 非均匀膜与Rugate滤光片
cuo'V*nWQ 5.8 仿生蛾眼/复眼结构5.9 颜色膜
Jx4"~ 4 5.10 Vstack薄膜设计示例5.11 Stack应用范例说明
kESnlmy@J 6. 薄膜性能分析6.1 电场分布
O2C&XeB:4 6.2 公差与灵敏度分析6.3 反演工程
4Q
n5Mr@< 6.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真
7. 真空技术 4]%v%6 4U 7.1 常用真空泵介绍7.2 真空密封和检漏
+'QE-#%{= 8. 薄膜制备技术8.1 常见薄膜制备技术
v* /}s :a 9. 薄膜制备工艺9.1 薄膜制备工艺因素
$g!~T!p= 9.2 薄膜均匀性修正技术9.3 光学薄膜监控技术
rk .tLk 10. 激光薄膜10.1 薄膜的损伤问题
6=i@t tAK 10.2 激光薄膜的制备流程10.3 激光薄膜的制备技术
a C< 11. 光学薄膜特性测量11.1 薄膜
光谱测量
2C_ /T8 11.2 薄膜光学常数测量11.3 薄膜应力测量
7\sR f/ 11.4 薄膜损伤测量11.5 薄膜形貌、结构与组分分析
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