课程编号CS240016 KOmP-q=6 iP!Y4 F 时间地点 gP`!Ml Y@ Hwc{%.% ae 主办单位：讯技光电科技（上海）有限公司；苏州黉论教育咨询有限公司
qA~ D*= 授课时间：2024年12月4 (三）-6（五）共3天 AM 9:00-PM 16:00
f C^l9CRY 授课地点：上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室
FSQ&J|O 课程讲师：讯技光电高级工程师&资深顾问
v|/3Mi9mz 课程费用：4800RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐)
o6y,M!p@ &=?`; K 特邀专家介绍 7 IHD?pnZ 
1`}fbX;"m) 易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，主要从事
光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率
激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空
镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。
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随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计
模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。
dq8 /^1P 3'"M31iA 课程大纲 -+9x 0- P uv-W/ p 1. Essential Macleod软件介绍1.1 介绍
软件 4y1> !~f 1.2 创建一个简单的设计1.3 绘图和制表来表示性能
vl5n%m H>^ 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann）
cV{ZD q 1.6 特定设计的公式技术1.7 交互式绘图
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o 2. 光学薄膜理论基础2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算
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2.2 后表面对光学薄膜特性的影响
3. 材料管理 VA%"IAl 3.1 材料模型3.2 介质薄膜光学常数的提取
eTF8B<? 3.3 金属薄膜光学常数的提取3.4 基板光学常数的提取
7XDV=PQ[ 4. 光学薄膜设计优化方法4.1 参考
波长与g
NqZRS>60v 4.2 四分之一规则4.3 导纳与导纳图
I1myu Z 4.4 斜入射光学导纳4.5 光学薄膜设计的进展
uTU4Fn\$L 4.6 Macleod软件的设计与优化功能4.6.1 优化目标设置
3opLLf_g 4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法）4.6.3 膜层锁定和链接
8Wj=|Ow-q 5. 光学薄膜系统设计与分析案例与应用5.1 减反射薄膜
w }Upa(dU 5.2 分光膜5.3 高反射膜
ZW ?7 g+P 5.4 干涉截止滤光片5.5 窄带滤光片
~^^ey17 5.6 负滤光片5.7 非均匀膜与Rugate滤光片
yo*iv+l 5.8 仿生蛾眼/复眼结构5.9 颜色膜
&
.?HuK 5.10 Vstack薄膜设计示例5.11 Stack应用范例说明
L,
{rMLM% 6. 薄膜性能分析6.1 电场分布
rEh f_[Dv 6.2 公差与灵敏度分析6.3 反演工程
X}*o[;2G 6.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真
7. 真空技术 vaj6 6nV 7.1 常用真空泵介绍7.2 真空密封和检漏
N4To#Q1w 8. 薄膜制备技术8.1 常见薄膜制备技术
KCk?)Qv 9. 薄膜制备工艺9.1 薄膜制备工艺因素
hf<$vRti> 9.2 薄膜均匀性修正技术9.3 光学薄膜监控技术
\u]CD}/ 10. 激光薄膜10.1 薄膜的损伤问题
| sFe:TX 10.2 激光薄膜的制备流程10.3 激光薄膜的制备技术
^-IsK#r. k 11. 光学薄膜特性测量11.1 薄膜
光谱测量
\ZFQ?e,d 11.2 薄膜光学常数测量11.3 薄膜应力测量
\B2 d(=~4 11.4 薄膜损伤测量11.5 薄膜形貌、结构与组分分析
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