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6x h:/j3 内容简介 f,V<;s Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 96 q_K84K 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Qy^1*j<@& 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 UDL!43K x(hE3S#+ 讯技科技股份有限公司 pm*xb]8y
>XY`*J^ 目录 VL%UR{ Preface 1 1rv)&tKs 内容简介 2 9N9L}k b 目录 i Cdas P9"1 1 引言 1 Mn9dqq~a 2 光学薄膜基础 2 A<5ZF27 2.1 一般规则 2 ,sA[)wP { 2.2 正交入射规则 3 <j&DK2u=i 2.3 斜入射规则 6 ]+|~cRQ9I 2.4 精确计算 7 Q<h-FW8z 2.5 相干性 8 b8V~S'6VqO 2.6 参考文献 10 $FlW1E j 3 Essential Macleod的快速预览 10 E~%jX
}/ 4 Essential Macleod的特点 32 0Fk5kGD,&K 4.1 容量和局限性 33 1<BX]-/tP 4.2 程序在哪里? 33 jNLw= 4.3 数据文件 35 xIxn"^' 4.4 设计规则 35 FME3sa$ 4.5 材料数据库和资料库 37 _A+s)]} 4.5.1材料损失 38 uJFdbBDSh 4.5.1材料数据库和导入材料 39 i=i(%yQ% 4.5.2 材料库 41 J?Ra bYd ~ 4.5.3导出材料数据 43 ]Y2RqXA* 4.6 常用单位 43 :n0vQ5a 4.7 插值和外推法 46 J6U$qi 4.8 材料数据的平滑 50 b%<9Sn
4.9 更多光学常数模型 54 (d(hR0HKE 4.10 文档的一般编辑规则 55 "OQ^U_ 4.11 撤销和重做 56 0J?~N`#O| 4.12 设计文档 57 3&u&x( 4.10.1 公式 58 tE@;X= 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ~i~7na| 4.10.3 沉积密度 59 :bz}c48% 4.10.4 平行和楔形介质 60 e?7&M 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 P%{^ i] 4.10.4 性能 61 y.WEj?EL 4.10.5 保存设计和性能 64 NWM8[dI 4.10.6 默认设计 64 k.uMp<)D 4.11 图表 64 cWi}V 4.11.1 合并曲线图 67 ~-EOjX(X'E 4.11.2 自适应绘制 68 V}dJ.I /# 4.11.3 动态绘图 68 =x<ge _Y 4.11.4 3D绘图 69 }dp=?AFg 4.12 导入和导出 73 A%`[mc]4# 4.12.1 剪贴板 73 (iL|Sq&}b 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 {$R' WXVs 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ptDY3n~' 4.13 背景 77 wQe_vY 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 m=}B,']O 4.15 生成Rugate 84 =at@ Vp/y 4.16 参考文献 91 @&X|5p"[g 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 x7~r,x(xM 5.1 Jobs 92 KVD8YfF 5.2 创建一个新Job(工作) 93 8g&?
Cc 5.3 输入材料 94 `&D|>tiz 5.4 设计数据文件夹 95 >sK!F$ 5.5 默认设计 95 MC<PM6w 6 细化和合成 97 S-k8jm 6.1 优化介绍 97 $lLz3YS 6.2 细化 (Refinement) 98 c- }X_)U } 6.3 合成 (Synthesis) 100 QlJ)F{R8il 6.4 目标和评价函数 101 K Pt5=a 6.4.1 目标输入 102 sC='_h 6.4.2 目标 103 AQ_|: 6.4.3 特殊的评价函数 104 ~nrK>% 6.5 层锁定和连接 104 pL{U `5S 6.6 细化技术 104 kdl:Wt*4o 6.6.1 单纯形 105 hS)'a^FV 6.6.1.1 单纯形参数 106 DV _2P$tT| 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 my}-s 6.6.2.1 Optimac参数 108 ZaL.!g 6.6.3 模拟退火算法 109 Z/t+8;TMR, 6.6.3.1 模拟退火参数 109 f6p-s
y> 6.6.4 共轭梯度 111 hnDBFQ{ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 D|Q#gcWp o 6.6.5 拟牛顿法 112 +R|z{M)* 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 .w0s%T,8}^ 6.6.6 针合成 113 Kac' ;1 6.6.6.1 针合成参数 114 MOn 6.6.7 差分进化 114 a>GyO&+Dkg 6.6.8非局部细化 115 zxC#0@qX07 6.6.8.1非局部细化参数 115
k~jP'aD 6.7 我应该使用哪种技术? 116 9 D7+[`r(- 6.7.1 细化 116
\4v]7SV 6.7.2 合成 117
8xccp4 6.8 参考文献 117 fp+gyTnd3 7 导纳图及其他工具 118 FQqI<6; 7.1 简介 118 eD*A) 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 U-R6xxPZ 7.2.1 四分之一波长规则 119 {&\jW!&n 7.2.2 导纳图 120 4A_[PM 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 <})2#sZO! 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 "x 3lQ 7.5 斜入射导纳图 141 ><gG8MH0' 7.6 对称周期 141 c.>oe*+ 7.7 参考文献 142 X)7x<?DAy 8 典型的镀膜实例 143 'H
\9:7 8.1 单层抗反射薄膜 145 R}q>O5O 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 Yy)tmq 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 .
r[Hu40p 8.4 W-膜层 148 x
"^Xj]- 8.5 V-膜层 149 0V'nK V"| 8.6 V-膜层高折射基底 150 {TX]\ufG 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 vTlwRG=5 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 K95p>E`9e 8.9 四层抗反射薄膜 153 (Q.waI 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ^yyC
[Mz 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 yIDD@j=l 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 wPwXM! 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 kw"SwdP5 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 w*oQ["SL 8.15十五层宽带抗反射膜 159 UrYZ`J
8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 8]M_z:F7F 8.17 1/4波长堆栈 162 e^< |