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~NgA 内容简介 B
IEO,W| Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 pad*oPH, 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 M^Yh|%M 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 bP#:Oi0v` \w>y`\6mX 讯技科技股份有限公司 ZoqZap6e
2|y"!JqE1 目录 I|!OY`ko Preface 1 /N+dQe 内容简介 2 ,KZ~?3$yj 目录 i o[4}h:> dq 1 引言 1 "cGk)s 2 光学薄膜基础 2 #zy:a% 2.1 一般规则 2 k'Hs}z eNn 2.2 正交入射规则 3 g-k|>-h 2.3 斜入射规则 6 @;4zrzQi7 2.4 精确计算 7 `hm-.@f,9 2.5 相干性 8 z9Mfd#5?>P 2.6 参考文献 10 bj^5yX;2 3 Essential Macleod的快速预览 10 \K{
z 4 Essential Macleod的特点 32 qZh/IW 4.1 容量和局限性 33 CW K7wZM 4.2 程序在哪里? 33 {z|)Njhg 4.3 数据文件 35 a!SiX 4.4 设计规则 35
XJB)rP 4.5 材料数据库和资料库 37 I,DS@SK 4.5.1材料损失 38 uMv,zO5 4.5.1材料数据库和导入材料 39 :4w ?# 4.5.2 材料库 41 ?R
'r4P, 4.5.3导出材料数据 43 :Ov6_x]* 4.6 常用单位 43 M0"_^? 4.7 插值和外推法 46 zI uJ-8T" 4.8 材料数据的平滑 50 V &T~zh1 4.9 更多光学常数模型 54 Kw^ 7>\ 4.10 文档的一般编辑规则 55 A\DCW 4.11 撤销和重做 56 !|uWH 4.12 设计文档 57 H41?/U,{ 4.10.1 公式 58 ;;t yoh~t 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 7EEl+;wK 4.10.3 沉积密度 59 I
34>X`[o 4.10.4 平行和楔形介质 60 gVuFHHeUz 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 MjRHA^b 4.10.4 性能 61 #X$\&,Yn" 4.10.5 保存设计和性能 64 T763:v 4.10.6 默认设计 64 DCa^
u'f 4.11 图表 64 = svN#q5s 4.11.1 合并曲线图 67 H8jpxzXv 4.11.2 自适应绘制 68 `}\
"Aw c 4.11.3 动态绘图 68 JR|ck=tq 4.11.4 3D绘图 69 372rbY 4.12 导入和导出 73 N~gzDQ3 4.12.1 剪贴板 73 :OZrH<SW 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 t?gic9
q 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 r5/0u(\LB 4.13 背景 77 ^76]0`gS 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 9FR5Jw>t 4.15 生成Rugate 84 V0YZp 4.16 参考文献 91 6MW{,N 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ~~P5k: 5.1 Jobs 92 kD%( _K5 5.2 创建一个新Job(工作) 93 l'qg8 5.3 输入材料 94 }<r)~{UV 5.4 设计数据文件夹 95 Ml5w01O 5.5 默认设计 95 X?',n
1 6 细化和合成 97 ?V=ZIGj 6.1 优化介绍 97 o|:b;\)b 6.2 细化 (Refinement) 98 #{6/ (X 6.3 合成 (Synthesis) 100 eByz-,{P 6.4 目标和评价函数 101 =nS3p6>rZ 6.4.1 目标输入 102 *&W"bOMH* 6.4.2 目标 103 HC8e>kP9b 6.4.3 特殊的评价函数 104 WH} y"W 6.5 层锁定和连接 104 "S]TP$O D 6.6 细化技术 104 p
l0\2e) 6.6.1 单纯形 105 xC TML!H 6.6.1.1 单纯形参数 106 BU_nh+dF 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 T^KKy0ZGM 6.6.2.1 Optimac参数 108 X_h}J=33Q 6.6.3 模拟退火算法 109 cI*;k.KU 6.6.3.1 模拟退火参数 109 8<.Oq4ku 6.6.4 共轭梯度 111 cq]6XK-W 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 L2z[ 6.6.5 拟牛顿法 112 <'*LRd$1 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 7$=InK 6.6.6 针合成 113 w@E3ZL^ 6.6.6.1 针合成参数 114 f6Ah6tb 6.6.7 差分进化 114 HV|,}Wks6s 6.6.8非局部细化 115 h]gp ^?= 6.6.8.1非局部细化参数 115 >bW#Zs,6 6.7 我应该使用哪种技术? 116 oPM96
( 6.7.1 细化 116 CdQ!GS<'y 6.7.2 合成 117 Y3b *a".X 6.8 参考文献 117 @9s$4DS 7 导纳图及其他工具 118 ~?BXti<! 7.1 简介 118 7:1Lol-V 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 5j(k:a+!H 7.2.1 四分之一波长规则 119 &QgR*,5eo 7.2.2 导纳图 120 i/4>2y9/F4 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 $&td=OK 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 T~e.PP 7.5 斜入射导纳图 141 K0>zxqY 7.6 对称周期 141 .k !{* 7.7 参考文献 142 { < |