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3T,&?r 内容简介 XnUO*v^] Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 cA;js;x@ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 D>sYPrf 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 RuAlB* .ve *Vp 讯技科技股份有限公司 zAScRg$:?
l@~LV}BI 目录 \#dl6:" Preface 1 .T.5TMiOSq 内容简介 2 NZXjE$<Vr 目录 i GsV4ZZ 1 引言 1 <@,$hso7: 2 光学薄膜基础 2 >SCGK_Cr2 2.1 一般规则 2 &ak6zM 2.2 正交入射规则 3 S>_27r{ 2.3 斜入射规则 6 Jb(Y,LO^ 2.4 精确计算 7 @q8an 2.5 相干性 8 uS5o?fg\e 2.6 参考文献 10 KMjg;!y 3 Essential Macleod的快速预览 10 #DI$Oc 4 Essential Macleod的特点 32 t\R; < x 4.1 容量和局限性 33 g9mG`f 4.2 程序在哪里? 33 ]tt} # 4.3 数据文件 35 3|kgTB- 4.4 设计规则 35 6s xz_f 4.5 材料数据库和资料库 37 &M"ouy Zo9 4.5.1材料损失 38 [}o~PN:sT( 4.5.1材料数据库和导入材料 39 <GIwRVCU 4.5.2 材料库 41 F0dI/+ 4.5.3导出材料数据 43 /"#4T^7& 4.6 常用单位 43 `
2%6V)s 4.7 插值和外推法 46 $3P`DJo 4.8 材料数据的平滑 50 4j'd3WGpbN 4.9 更多光学常数模型 54 rVryt<2:@r 4.10 文档的一般编辑规则 55 ~+n,1]W_ 4.11 撤销和重做 56 RtV.d\ 4.12 设计文档 57 %XRN]tsu 4.10.1 公式 58 H;KDZO9W 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 e~\QE0Oe : 4.10.3 沉积密度 59 aXR%;]<Dw 4.10.4 平行和楔形介质 60 VOgi7\ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 M}F~_S0h 4.10.4 性能 61 ;;&F1@3tBa 4.10.5 保存设计和性能 64 r%=[},JQ 4.10.6 默认设计 64 Q~,YbZ-7 4.11 图表 64
<!'M} s 4.11.1 合并曲线图 67 VWf %v 4.11.2 自适应绘制 68 Dy9\O77> 4.11.3 动态绘图 68 Ewo~9
4{ 4.11.4 3D绘图 69 2qj{n+ 4.12 导入和导出 73 45+{nN[ 4.12.1 剪贴板 73 ;e s^R?z 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 -l*g~7|j 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 TT}]wZ 4.13 背景 77 \M+L3*W 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 y{=NP 4.15 生成Rugate 84 \7 a4uc 4.16 参考文献 91 <+]f`c*Z 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 i g71/'D 5.1 Jobs 92 S`q%ypy 5.2 创建一个新Job(工作) 93 t@B(+ 5.3 输入材料 94 +V8b 5.4 设计数据文件夹 95 9%DT0.D}$j 5.5 默认设计 95 T~>#2N-Z 6 细化和合成 97 (.X]F_*sc 6.1 优化介绍 97 d>i13dAI 6.2 细化 (Refinement) 98 _a
-]?R 6.3 合成 (Synthesis) 100 B@K[3 6.4 目标和评价函数 101 g1[&c+=U`P 6.4.1 目标输入 102 BGWAh2w6 6.4.2 目标 103 ;st\I 6.4.3 特殊的评价函数 104 $&{IKP)u 6.5 层锁定和连接 104 9O98Q6-s 6.6 细化技术 104 wyY*:{lZ 6.6.1 单纯形 105 i@$*Csj\9* 6.6.1.1 单纯形参数 106 \U @3` 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 %u!XzdG 6.6.2.1 Optimac参数 108 t&RruwN_; 6.6.3 模拟退火算法 109 $|<m9CW 6.6.3.1 模拟退火参数 109 !{%G0(Dv 6.6.4 共轭梯度 111 .{so 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 +!O-kd 6.6.5 拟牛顿法 112 .5Z_E
O 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 0D[@u3W 6.6.6 针合成 113 AXW!]=?X 6.6.6.1 针合成参数 114 Q:o7G|C 6.6.7 差分进化 114 t1i(;|8| 6.6.8非局部细化 115 3N4.$#>#9@ 6.6.8.1非局部细化参数 115 46XN3r 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Pv){sYUh 6.7.1 细化 116 _<Dt
z 6.7.2 合成 117 ?d-70pm 6.8 参考文献 117 "yh Pm 7 导纳图及其他工具 118 FC>d_=V 7.1 简介 118 5cTY;@@ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ^eh/HnJs 7.2.1 四分之一波长规则 119 K{DAOQ.z 7.2.2 导纳图 120 w6zBVi 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 CZ=0mWfF 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 G\~^&BAC 7.5 斜入射导纳图 141 a G27%(@ 7.6 对称周期 141 SkP[|g'56 7.7 参考文献 142 &RY |