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)(; 课程编号CS240016 * rs_k/2( {I2j Lc 时间地点 'Z&A5\~ )0d3sJ8 主办单位：讯技光电科技（上海）有限公司；苏州黉论教育咨询有限公司
! B )Em 授课时间：2024年12月4 (三）-6（五）共3天 AM 9:00-PM 16:00
BwBv 'p+n 授课地点：上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室
`pcjOM8u 课程讲师：讯技光电高级工程师&资深顾问
@[JQCQ#r 课程费用：4800RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐)
}:h dAZ+z +JQN=nTA Za01z^ 特邀专家介绍 sk],_ l< 
Jn:GqO 易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，主要从事
光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率
激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空
镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。
CF>NyY:_ l{y~N zxsnrn;| 课程简介 o^AK@\e:^Z 7z+NR&' M$ 随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计
模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。
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课程大纲 (cCB3n\20 TAGqRYgi 1. Essential Macleod软件介绍1.1 介绍
软件 O~xc>
w 1.2 创建一个简单的设计1.3 绘图和制表来表示性能
% l5J 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann）
!J6k \$r 1.6 特定设计的公式技术1.7 交互式绘图
XE>X zsnC 2. 光学薄膜理论基础2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算
(oTx*GP>Y 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响
3. 材料管理 %Y!lEzB5 3.1 材料模型3.2 介质薄膜光学常数的提取
"dkvk7zCP 3.3 金属薄膜光学常数的提取3.4 基板光学常数的提取
kU#$ 4. 光学薄膜设计优化方法4.1 参考
波长与g
#FeM.k6 4.2 四分之一规则4.3 导纳与导纳图
]*v%(IGK 4.4 斜入射光学导纳4.5 光学薄膜设计的进展
%_/_klxnO 4.6 Macleod软件的设计与优化功能4.6.1 优化目标设置
$T*kpUXH} 4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法）4.6.3 膜层锁定和链接
_e?(Gs0BM 5. 光学薄膜系统设计与分析案例与应用5.1 减反射薄膜
$%!]tNGS 5.2 分光膜5.3 高反射膜
2j_L
jY'7 5.4 干涉截止滤光片5.5 窄带滤光片
z1YC%Y|R 5.6 负滤光片5.7 非均匀膜与Rugate滤光片
ZB%7Sr0 5.8 仿生蛾眼/复眼结构5.9 颜色膜
p_mP' 5.10 Vstack薄膜设计示例5.11 Stack应用范例说明
cZHlW|$R 6. 薄膜性能分析6.1 电场分布
sM-k,0z 6.2 公差与灵敏度分析6.3 反演工程
:K W 6.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真
7. 真空技术 Z4rK$ B 7.1 常用真空泵介绍7.2 真空密封和检漏
Y gVZq\AV" 8. 薄膜制备技术8.1 常见薄膜制备技术
7DT9\BT 9. 薄膜制备工艺9.1 薄膜制备工艺因素
M'[J0*ip 9.2 薄膜均匀性修正技术9.3 光学薄膜监控技术
ThFI=K 10. 激光薄膜10.1 薄膜的损伤问题
:MJTmpq, 10.2 激光薄膜的制备流程10.3 激光薄膜的制备技术
= [:ruE 11. 光学薄膜特性测量11.1 薄膜
光谱测量
ZgzrA&6 11.2 薄膜光学常数测量11.3 薄膜应力测量
3lLO. 11.4 薄膜损伤测量11.5 薄膜形貌、结构与组分分析
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