:c[T@[ 内容简介 k.Z?BNP Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
R3BK\kf& 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
Au )%w 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
|IWm:[H3 讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
ZU9Rvtb KB Mw;^`ZxT 目录 " M&zW& Preface 1
"KY]2v. 内容简介 2
%Si3LQf 目录 i
U[@B63];0 1 引言 1
:f R GXrn 2 光学薄膜基础 2
I=K<%. 2.1 一般规则 2
lg jY\? 2.2 正交入射规则 3
"1ZVuI 2.3 斜入射规则 6
,#.^2O9-^ 2.4 精确计算 7
v[m1R' 2.5 相干性 8
/q`f3OV" 2.6 参考文献 10
&#]||T- 3 Essential Macleod的快速预览 10
Nn5sD3z# 4 Essential Macleod的特点 32
F@X8a/;F- 4.1 容量和局限性 33
$)(Zt^ 4.2 程序在哪里? 33
Pv8AWQQJ 4.3 数据文件 35
CT{X$N 4.4 设计规则 35
OadGwa\:s 4.5 材料数据库和
资料库 37
-]MZP:s 4.5.1材料损失 38
*>j4tA{b@v 4.5.1材料数据库和导入材料 39
). HnK 4.5.2 材料库 41
w:9n/[ 4.5.3导出材料数据 43
79M`?xm 4.6 常用单位 43
o6:p2W 4.7 插值和外推法 46
~eGtoEY 4.8 材料数据的平滑 50
nyd'79~>G 4.9 更多光学常数模型 54
xx%*85 < 4.10 文档的一般编辑规则 55
E>}3MfL 4.11 撤销和重做 56
N8]d0 4.12 设计文档 57
8DlRD$_:& 4.10.1 公式 58
RYX=;n 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
(Yc}V 4.10.3 沉积密度 59
/vFdhh 4.10.4 平行和楔形介质 60
mz .uK2l{ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
n11eJEtm 4.10.4 性能 61
uacVF[9|W 4.10.5 保存设计和性能 64
x$V[xX 4.10.6 默认设计 64
"1$hfs 4.11 图表 64
?u M2|Nk 4.11.1 合并曲线图 67
Ob7F39):N 4.11.2 自适应绘制 68
xV5eKV 4.11.3 动态绘图 68
Hh<}~s 4.11.4 3D绘图 69
}Xy<F?Mh 4.12 导入和导出 73
pd}af iF 4.12.1 剪贴板 73
+p)kemJ~ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
km!jxs 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
'[Ch8Yf\ 4.13 背景 77
>c8EgSZJ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
9m_Hm')VG 4.15 生成Rugate 84
GVzG 4.16 参考文献 91
}o#6g|"\sY 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
{= l9{K`~ 5.1 Jobs 92
'd=B{7k@ 5.2 创建一个新Job(工作) 93
L[ 7Aa"R 5.3 输入材料 94
W-@}q}A 5.4 设计数据文件夹 95
\!:^=2VF 5.5 默认设计 95
I)X33X, 6 细化和合成 97
3+$~l5LY 6.1 优化介绍 97
WJ$!W 6.2 细化 (Refinement) 98
4P}<86xk 6.3 合成 (Synthesis) 100
@,v.Y6Ge 6.4 目标和评价函数 101
m]:|j[!*M 6.4.1 目标输入 102
TW?A/GoXI 6.4.2 目标 103
gS4@3BOw&. 6.4.3 特殊的评价函数 104
|Orp:e! 6.5 层锁定和连接 104
2AI~Jm# 6.6 细化技术 104
,v+~vXO&\ 6.6.1 单纯形 105
N!:&Xz 6.6.1.1 单纯形
参数 106
yGtGhP8 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
Qf}b3WEAI 6.6.2.1 Optimac参数 108
ey>V^Fj 6.6.3 模拟退火算法 109
?Dk&5d^d 6.6.3.1
模拟退火参数 109
b7h0V4w 6.6.4 共轭梯度 111
elf2! 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
rXlJW]i 6.6.5 拟牛顿法 112
jO#5ZhG 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
Z-,'M tD 6.6.6 针合成 113
&]Q\@;]Aq 6.6.6.1 针合成参数 114
@'{m-?* 6.6.7 差分进化 114
c:MP^PWc 6.6.8非局部细化 115
h*9s^`9) 6.6.8.1非局部细化参数 115
fPW(hb; 6.7 我应该使用哪种技术? 116
4r'f/s8"# 6.7.1 细化 116
`-L{J0xq 6.7.2 合成 117
eE/E#W8 6.8 参考文献 117
7Z+4F=2ff 7 导纳图及其他工具 118
?oX.$E?( 7.1 简介 118
@NS= 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
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