[求助]H4冲氧不稳，应该怎么排除？ [复制链接]

我们有台镀膜机H4电子枪充氧量用的压控，设计充到1.0-2，但每一锅都不太稳定，有时候充到7.5-3，有时候充到8.3-3，也有能充到1.0-2的，H4是手动熔的，一般就镀普通AR,导致分光变来变去，稳定不住 ，请教大佬们，这种情况是药里面杂质多还是压控控制系统有问题？应该怎么排除？

坐等分析

控制软件PID参数调整一下，一般是可以恒压的，当然，如果放气量很不稳定也可能导致控制失败 -_ .f&l8  

1.手动融料重复性不好 q5 I2dNE  
2镀膜机真空度是否有漏气现象 sVZb[|zSri  
3.充氧控制改固定参数 j,80EhZ  
4.真空计污染导致真空不准确

yzhuang:控制软件PID参数调整一下，一般是可以恒压的，当然，如果放气量很不稳定也可能导致控制失败 sRE$*^i
 
 (2024-09-20 09:09)  ]cc4+}L~  

5>t&)g  
感谢回复，我们这个只能设定数值，PID调不了

度魔银:1.手动融料重复性不好 w(J-[t118  
2镀膜机真空度是否有漏气现象 [{Fr{La`D'  
3.充氧控制改固定参数 zek\AQN  
4.真空计污染导致真空不准确 (2024-09-20 09:54)  #v:<\-MjN  

HoT5 5v!o  
感谢回复，我们先定量充氧试试

真空计和冲氧口的位置和距离很重要，如果压力周期性波动的话，就调整真空计位置。 Y3-Tg~/~W  
但是现在看来好像是冲氧的压控问题。 B
C(f1  
真空计一般是用电压信号，要保证压控仪和真空计用的电压定义是一样的。 N,(@k[uta  
另外要排除信号干扰，如果真空信号受干扰了，那么肯定无法稳定的进行控制。 bC$n+G>6k  
最后一个应该就是压控仪本身的问题，比如PID参数过大导致调节缓慢。 `
.MM|6  

ouyuu:真空计和冲氧口的位置和距离很重要，如果压力周期性波动的话，就调整真空计位置。 .a;-7|x  
但是现在看来好像是冲氧的压控问题。 {EW}Wd  
真空计一般是用电压信号，要保证压控仪和真空计用的电压定义是一样的。 \M:,Vg  
另外要排除信号干扰，如果真空信号受干扰了，那么肯定无法稳定的进行控制。 w V;y]'  
最后一个应 .. (2024-10-22 22:50)  DMfC(w.d  

9tl Fbu  
感谢大佬解惑，充氧口是固定的，真空计玻璃规的位置我们每次换没注意位置，才知道这个也会影响真空数据，我们现在定量充氧40，分光比原来稳定了很多，但每层H4充氧后的真空度都有差异

学习中成长