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t d q;D 内容简介 ^C>i(j& Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 /YHBhoat 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 n?&G>`u* 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 `kyr\+hp N4!YaQQ;} 讯技科技股份有限公司 C2AP
u%a2"G| 目录 TuwH?{
FzK Preface 1 U/yYQZ\) 内容简介 2 w |>:mQnU 目录 i $rs7D}VNc 1 引言 1 c;w
cgU 2 光学薄膜基础 2 L|S#(0 2.1 一般规则 2 "vH@b_>9| 2.2 正交入射规则 3 go6Hb> 2.3 斜入射规则 6 ho#]?Z# 2.4 精确计算 7 R[wy{4<y 2.5 相干性 8 .,l?z 2.6 参考文献 10 Mb3,! 3 Essential Macleod的快速预览 10 s
ZkQJ-> 4 Essential Macleod的特点 32 )Be}Ev#)Zx 4.1 容量和局限性 33 HCb7`(@ 4.2 程序在哪里? 33 =/.[&DG 4.3 数据文件 35 T'\lntN 4.4 设计规则 35 #$K\:V+ 4 4.5 材料数据库和资料库 37 6aCAz2/ 4.5.1材料损失 38 {#=q[jVi%1 4.5.1材料数据库和导入材料 39 -#3B>VY 4.5.2 材料库 41 Mz40([{ 4.5.3导出材料数据 43 e.\d7_T+ 4.6 常用单位 43 vrGRZa 4.7 插值和外推法 46 )oG_x{ 4.8 材料数据的平滑 50 I6YN&9Y 4.9 更多光学常数模型 54 ,":ADO- 4.10 文档的一般编辑规则 55 oQ8W0`bZa 4.11 撤销和重做 56 ~c! XQJ 4.12 设计文档 57 ~?E x?!\9R 4.10.1 公式 58 T*J]e|aF 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 t LS5yT/ 4.10.3 沉积密度 59 +?*,J=/ 4.10.4 平行和楔形介质 60 zjM+F{P8 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 5Tb93Q@c 4.10.4 性能 61 `P)atQ 4.10.5 保存设计和性能 64 8NPt[* 4.10.6 默认设计 64 #`);UAf 4.11 图表 64 <bXfjj6YJ@ 4.11.1 合并曲线图 67 KSqWq:W+ 4.11.2 自适应绘制 68 n:`> QY 4.11.3 动态绘图 68 ]^VC@$\)+ 4.11.4 3D绘图 69 <2diO= 4.12 导入和导出 73 ~k+-))pf 4.12.1 剪贴板 73 xV~`sqf 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 !(w\%$| 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ;-n+=@]7 4.13 背景 77 A
99 .b 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 E>KV1P 4.15 生成Rugate 84 a)Qx43mOS 4.16 参考文献 91 0kQAT# 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 JDD(e_dw 5.1 Jobs 92 ]|Vm*zO 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Ca*^U- 5.3 输入材料 94 !R[o6V5T 5.4 设计数据文件夹 95 <{3VK 5.5 默认设计 95 'd|_ i6:y& 6 细化和合成 97 9@Cqg5Kx' 6.1 优化介绍 97 IM}#k$vM: 6.2 细化 (Refinement) 98 .^l;3*X@ 6.3 合成 (Synthesis) 100 v\c.xtjI5x 6.4 目标和评价函数 101 :a0qm.EN 6.4.1 目标输入 102 U" aFi 6.4.2 目标 103 (VWTYG7 6.4.3 特殊的评价函数 104 :?U1^!$$1 6.5 层锁定和连接 104 o\g",O4- 6.6 细化技术 104 $0AN5 |`g\ 6.6.1 单纯形 105 )`,3/i9C$ 6.6.1.1 单纯形参数 106 @Ej{sC!0T 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 nr!kx)j 6.6.2.1 Optimac参数 108 (YGJw?] 6.6.3 模拟退火算法 109 ]{0
2! 6.6.3.1 模拟退火参数 109 J5mMx)t@ 6.6.4 共轭梯度 111 SE;Jl[PgcL 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 pI( OI>~3 6.6.5 拟牛顿法 112 mmu{K$9}I 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 |bO}|X 6.6.6 针合成 113 R% l=NHB} 6.6.6.1 针合成参数 114 IyL2{5 6.6.7 差分进化 114 [L{q 6.6.8非局部细化 115 UCa(3p^V_ 6.6.8.1非局部细化参数 115 k,0JW=Vh>| 6.7 我应该使用哪种技术? 116 hof:36 < 6.7.1 细化 116 R}#?A%,* 6.7.2 合成 117 <I&X[Sqp 6.8 参考文献 117 J3oH^ 7 导纳图及其他工具 118 -Z-|49I/mN 7.1 简介 118 (m|p|rL 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 2Rc#{A 7.2.1 四分之一波长规则 119 KaauX
m 7.2.2 导纳图 120 f*0[[J0] 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 (c axl^= 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 GghZ".O 7.5 斜入射导纳图 141 DKPX_:: 7.6 对称周期 141 X<OwB -N 7.7 参考文献 142
ry*b"SO 8 典型的镀膜实例 143 %S.
_3`A 8.1 单层抗反射薄膜 145 Z0`Bn5 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 VEkv
JX. 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Ev,>_1#Xm 8.4 W-膜层 148 u v%T0JA/ 8.5 V-膜层 149 P bj &l0C 8.6 V-膜层高折射基底 150 d!D#:l3; 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 *_}ft-*w 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ;*BG{rkr 8.9 四层抗反射薄膜 153 f1rP+l-C< 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 0B>hVaj>- 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 7YV}F9h4 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 z{wJQZ9" 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 P6!c-\ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 bz[U< |