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]T'8O` 内容简介 8^+|I, Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 MymsDdQ] 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 eu" m0Q 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 .pWRV<25 p?>J86%[ 讯技科技股份有限公司 fcEm:jEZ*
hBX.GFnw 目录 ~`&4?c3p Preface 1
..E_M$} 内容简介 2 M j[+h|e 目录 i rhQ+ylt8I 1 引言 1 #*.4Jv<R 2 光学薄膜基础 2 Z(tJd, 2.1 一般规则 2 Q2Ey RFT 2.2 正交入射规则 3 MbCz*oW 2.3 斜入射规则 6 nVWU\$Ft 2.4 精确计算 7 VnSO>O 2.5 相干性 8 Uz,P^\8^$ 2.6 参考文献 10 Y\_mqd 3 Essential Macleod的快速预览 10 XrTc5V 4 Essential Macleod的特点 32 Z0zEX?2mb 4.1 容量和局限性 33 JUA%l 4.2 程序在哪里? 33 r9u'+$vmF 4.3 数据文件 35
yW1N&$n 4.4 设计规则 35 ,&4
[`d 4.5 材料数据库和资料库 37 @H$am 4.5.1材料损失 38 AJLzLbV+ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 @w= =*.x 4.5.2 材料库 41 okRt^qe 4.5.3导出材料数据 43 N?{Zrff2"O 4.6 常用单位 43 aC1 xt( 4.7 插值和外推法 46 @q<h.#9 4.8 材料数据的平滑 50 faLfdUimJ 4.9 更多光学常数模型 54 #S/~1{ 4.10 文档的一般编辑规则 55 j -o 4.11 撤销和重做 56 cwaR#-# 4.12 设计文档 57 /_cpSq 4.10.1 公式 58 ^Ff fc@= 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 [= E=H*j 4.10.3 沉积密度 59 2BO H8Mp9 4.10.4 平行和楔形介质 60 bt=D<YZk 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 l2Py2ZI-b 4.10.4 性能 61 V4"o.G3\o 4.10.5 保存设计和性能 64 e[T3,2C 4.10.6 默认设计 64 @]X!#&2> 4.11 图表 64 ~!TrC<ft 4.11.1 合并曲线图 67 bupW*fD: 4.11.2 自适应绘制 68 !K*3bY`# 4.11.3 动态绘图 68 K
~\b+ 4.11.4 3D绘图 69 jzDPn<WQ 4.12 导入和导出 73 ;_<
Yzl 4.12.1 剪贴板 73 w\d1 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 w].DLoz 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 cqh1,h$sG 4.13 背景 77 u];\v%b 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 QrmGrRH 4.15 生成Rugate 84 ]OKKR/: 4.16 参考文献 91 aF"PB
h= 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 U/U_q-z] 5.1 Jobs 92 E]a,2{&8< 5.2 创建一个新Job(工作) 93 <MhODC") 5.3 输入材料 94 C&d,|e "\ 5.4 设计数据文件夹 95 T^|6{ S\ 5.5 默认设计 95 Q"pZPpl& 6 细化和合成 97 ri"=)] 6.1 优化介绍 97 5 YIk 6.2 细化 (Refinement) 98 6S%KUFB+e 6.3 合成 (Synthesis) 100 65&+Fv 6.4 目标和评价函数 101 p'/%" 6.4.1 目标输入 102 #CeWk$)m 6.4.2 目标 103 S,+|A)\# 6.4.3 特殊的评价函数 104 Vz,"vBds
6.5 层锁定和连接 104 $dt*
4n ' 6.6 细化技术 104
6 ;\>, 6.6.1 单纯形 105 "el3mloR8 6.6.1.1 单纯形参数 106 sV~|9 /r 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ) { "}bMf 6.6.2.1 Optimac参数 108 >]\oVG 6.6.3 模拟退火算法 109 Tt0]G_ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 x?R1/iHv 6.6.4 共轭梯度 111 LGRhCOP: 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 /4*>.Nmb,f 6.6.5 拟牛顿法 112 :VRQd}$Pi 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 z*^vdi0 6.6.6 针合成 113 BXl
Y V" 6.6.6.1 针合成参数 114 %.IW H9P7 6.6.7 差分进化 114 kafj?F 6.6.8非局部细化 115 c_ 1. 6.6.8.1非局部细化参数 115 J72kjj&C 6.7 我应该使用哪种技术? 116 .ddf'$6h 6.7.1 细化 116 d{'u97GDc 6.7.2 合成 117 Bb5RZ#oa 6.8 参考文献 117 !|
GD8i 7 导纳图及其他工具 118 R/c-sV 7.1 简介 118 ve/|"RB 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 &ujq6~# 7.2.1 四分之一波长规则 119 <^A1.o<GN 7.2.2 导纳图 120 Q@l.p-:^U 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 LCpS}L; 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 5@Xy) z 7.5 斜入射导纳图 141 r$d'[ZcX 7.6 对称周期 141 c$%I^f}' 7.7 参考文献 142 2mvp|<" 8 典型的镀膜实例 143 7bam`)n 8.1 单层抗反射薄膜 145 _vE[TFy 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 %i9*2{e#~ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 1,G f;mcQ 8.4 W-膜层 148 UbwD2> 8.5 V-膜层 149 ]:]w+N%7 8.6 V-膜层高折射基底 150 /{X2:g { 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 r?n3v[B 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 uchz<z1 8.9 四层抗反射薄膜 153 pB]+c%\ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 klC48l 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 0',-V2 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 O:O
+Q!58 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 gtb,}T=1 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 Q|HOy8O}Z 8.15十五层宽带抗反射膜 159 a<Ptm(, 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 Q(YQ$i"S 8.17 1/4波长堆栈 162 _"";SqVB 8.18 陷波滤波器 163 }%eXGdC 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 >_?Waz% 8.20 褶皱 165 ji|tc9#6 8.21 消偏振分光器1 169 V IU4QEW`x 8.22 消偏振分光器2 171 m&r |