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S0/@y'q3en 内容简介 `B) ~ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ?'CIt5n+\{ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 !tCw)cou 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 1lfkb1BM 8NudY3cU! 讯技科技股份有限公司 H:#b(&qw2
sI/Hcm 目录 tS#EqMf&o Preface 1 w4:S>6X 内容简介 2 d{hbgUSj 目录 i 1d7oR`qr 1 引言 1 s6OnHX\it7 2 光学薄膜基础 2 gZ
2.1 一般规则 2 TU$/3fp* 2.2 正交入射规则 3 Y4){{bEp 2.3 斜入射规则 6 }+#-\a2 2.4 精确计算 7 i&-g 0
2.5 相干性 8 UMm<HQ 2.6 参考文献 10 !e&ZhtTuC 3 Essential Macleod的快速预览 10 Z*.fSmT8) 4 Essential Macleod的特点 32 m;WUp{' 4.1 容量和局限性 33 iN0pYqY* 4.2 程序在哪里? 33 { >{|3 4.3 数据文件 35 <oI{:KH 4.4 设计规则 35 7S7gU\qOj 4.5 材料数据库和资料库 37 UAnq|NJO 4.5.1材料损失 38 Zn1+} Z@I 4.5.1材料数据库和导入材料 39 /'QNlP[L; 4.5.2 材料库 41 SOE#@{IXBa 4.5.3导出材料数据 43 1s-k=3) 4.6 常用单位 43 Sh=E.! 4.7 插值和外推法 46 ?Vb=W)Es 4.8 材料数据的平滑 50 @j`_)Y\ 4.9 更多光学常数模型 54 'j !!h4 4.10 文档的一般编辑规则 55 @L {x; 4.11 撤销和重做 56 O4$ra;UM` 4.12 设计文档 57 Y]{<IF:
4.10.1 公式 58 a~Sf~ka 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 "Fy34T0N 4.10.3 沉积密度 59 Id
*Gs>4U 4.10.4 平行和楔形介质 60 'C1=(PE%` 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 }.3F|H 4.10.4 性能 61 k[6@\D- 4.10.5 保存设计和性能 64 -?!|W-}@G= 4.10.6 默认设计 64 [N$da=`wv 4.11 图表 64 VFT
G3,kI 4.11.1 合并曲线图 67 A,W-=TC 4.11.2 自适应绘制 68 yX,2`&c 4.11.3 动态绘图 68 xoTS?7 4.11.4 3D绘图 69 ;tf1#6{ 4.12 导入和导出 73 3q R@$pm 4.12.1 剪贴板 73 5znLpBX<N 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 }IC$Du# 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 R@5jEf 4.13 背景 77 >T%Jlj3ZG 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 @X>k@M 4.15 生成Rugate 84 6i(V+ 4.16 参考文献 91 fa=#S 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 c ^G\w+_ 5.1 Jobs 92 /wK5YN.em 5.2 创建一个新Job(工作) 93 y<m{eDV7 5.3 输入材料 94 }Y(Q7l 5.4 设计数据文件夹 95 |A8Ar 7) 5.5 默认设计 95 (sW:^0 p 6 细化和合成 97 f-y4V} 6.1 优化介绍 97 W,`u5gbT 6.2 细化 (Refinement) 98 N;>>HN[bBP 6.3 合成 (Synthesis) 100 *DLv$/(0 6.4 目标和评价函数 101 KZ6}),p 6.4.1 目标输入 102 ,ZJI]Q=! 6.4.2 目标 103 n!|K# 6.4.3 特殊的评价函数 104 >Gk<[0U 6.5 层锁定和连接 104 #E2`KGCzW 6.6 细化技术 104 X"(!\{ySI; 6.6.1 单纯形 105 ?;0=>3p*0 6.6.1.1 单纯形参数 106
yUq,9.6Ig 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 GIWgfE? 6.6.2.1 Optimac参数 108 2xZg, \ 6.6.3 模拟退火算法 109 !3DWz6u 6.6.3.1 模拟退火参数 109 K?BWl:^x 6.6.4 共轭梯度 111 UIv TC
S 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 0Tp?ED_ 6.6.5 拟牛顿法 112 O4@Ki4f3A% 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 )?%FU?2jrn 6.6.6 针合成 113 r6Lb0PzMf 6.6.6.1 针合成参数 114 q+x4Od3 6.6.7 差分进化 114 {DI_i +2 6.6.8非局部细化 115 y+(<Is0w 6.6.8.1非局部细化参数 115 h.%VWsAO7 6.7 我应该使用哪种技术? 116 7ZET@ 6.7.1 细化 116 -3qB,KT 6.7.2 合成 117 nR6~oB{- 6.8 参考文献 117 H.7gSB 1 7 导纳图及其他工具 118 ZF51|b 7.1 简介 118 -fj;9('YJ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 \_!FOUPz( 7.2.1 四分之一波长规则 119 Uey.@ 2Q 7.2.2 导纳图 120 5hB&]6n 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 R9o:{U] 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 6^wg'u]c 7.5 斜入射导纳图 141 O*z x{a6 7.6 对称周期 141 %bt2^ 7.7 参考文献 142 ;J2U5Y NO 8 典型的镀膜实例 143 doFp53NhV 8.1 单层抗反射薄膜 145 Qf414 oW 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 k)[} 3oq 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 9|v 8.4 W-膜层 148 H+F?)VX}oA 8.5 V-膜层 149 ba%[! 8.6 V-膜层高折射基底 150 29Kuq ;6 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 l'&l!D& 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 itm;, Sbg 8.9 四层抗反射薄膜 153 LOX[h$ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
p[0Ws460 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 &m5 |