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<|9s {z 内容简介 .E}fk,hLB Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ZZk6 @C 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 unu%\f>^4 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 >5-z"f O& k+;r 讯技科技股份有限公司 vpu20?E>5z
%K[_;8 目录 7.7P>U Preface 1 "
UaUaSg# 内容简介 2 9nF;$HB 目录 i 7\I,;swo 1 引言 1 %~Vgz(/ 2 光学薄膜基础 2 gFlUMfKh 2.1 一般规则 2 <yzgZXxIaS 2.2 正交入射规则 3 VsEMF i= 2.3 斜入射规则 6 A (z
lX_ 2.4 精确计算 7 N T+%u- 2.5 相干性 8 s8;/'?K 2.6 参考文献 10 @9S3u#vP 3 Essential Macleod的快速预览 10 tDn{;ED< 4 Essential Macleod的特点 32 [~e{58}J| 4.1 容量和局限性 33 r5yp
jT^ 4.2 程序在哪里? 33 9>,$q"M}? 4.3 数据文件 35 ?/"Fwjau 4.4 设计规则 35 C3 >X1nU 4.5 材料数据库和资料库 37 T=Q"|S]V 4.5.1材料损失 38 &L6xagR7M 4.5.1材料数据库和导入材料 39 %%`Q5I 4.5.2 材料库 41 p2T<nP<Pt 4.5.3导出材料数据 43 %6Wv-:LY 4.6 常用单位 43
/6)6 4.7 插值和外推法 46 =(\
/+
0-[ 4.8 材料数据的平滑 50 'MZX"t 4.9 更多光学常数模型 54 Q'-g+aN 4.10 文档的一般编辑规则 55 ~1e?9D 4.11 撤销和重做 56 (
-^- 4.12 设计文档 57 #+$pE@u7A 4.10.1 公式 58 >a;0<Ui&Q 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 s*%pNE U 4.10.3 沉积密度 59 .3Ex=aQcX 4.10.4 平行和楔形介质 60 4#D=+70' 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 K(bid0Y 4.10.4 性能 61 es]S]}JV 4.10.5 保存设计和性能 64 ErZYPl 4.10.6 默认设计 64 `s[77V> 4.11 图表 64 iIrH&}2 4.11.1 合并曲线图 67 g Mhn\ 4.11.2 自适应绘制 68 \X&LrneR"t 4.11.3 动态绘图 68 ^\|Hz\"* 4.11.4 3D绘图 69 Y\#+-E 4.12 导入和导出 73 Tgxxm 4.12.1 剪贴板 73 2Cy">Exl 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 WGy3SV ) 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ynkPI6o 4.13 背景 77 ~:h-m\=8Y 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 c j-_ 4.15 生成Rugate 84 B_Qi 4.16 参考文献 91 N0U6N< w 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 p\xi5z 5.1 Jobs 92 P|M#S9^] 5.2 创建一个新Job(工作) 93 :.xdG>\n3 5.3 输入材料 94 x.gRTR`7( 5.4 设计数据文件夹 95 *c"tW8uR 5.5 默认设计 95 ]*fiLYe9 6 细化和合成 97 #s"|8# 6.1 优化介绍 97 ,UOAGu<_gb 6.2 细化 (Refinement) 98 wD9Gl.uQ 6.3 合成 (Synthesis) 100 uLr9*nxd 6.4 目标和评价函数 101 a-nf5w>&q 6.4.1 目标输入 102 e* 2ay1c 6.4.2 目标 103 lawjGI 6.4.3 特殊的评价函数 104 G'>?/l# 6.5 层锁定和连接 104 Ed&;d+NM 6.6 细化技术 104 kd0~@rPL 6.6.1 单纯形 105 Z]Zs"$q@ 6.6.1.1 单纯形参数 106 z>n<+tso 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ,Oqd4NS 6.6.2.1 Optimac参数 108 gW0{s[}T 6.6.3 模拟退火算法 109 Y@&1[Z 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Ky6.6Y<.| 6.6.4 共轭梯度 111 l;u_4`1H 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ,gdf7&r 6.6.5 拟牛顿法 112 (t^&L 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 f[S$Gu4- 6.6.6 针合成 113 fDq`.ZW)s 6.6.6.1 针合成参数 114 4VPJv>^ 6.6.7 差分进化 114 j?eWh#[K" 6.6.8非局部细化 115 CuS"Wj 6.6.8.1非局部细化参数 115 hu=b, 6.7 我应该使用哪种技术? 116 h ~\bJ*Zp 6.7.1 细化 116 49/j9#hr 6.7.2 合成 117 -;VKtBXP</ 6.8 参考文献 117 G{4~{{tI 7 导纳图及其他工具 118 [1Os.G2 7.1 简介 118 Yh^~4S? 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 6[iu CMOZ 7.2.1 四分之一波长规则 119 0u,OW 7.2.2 导纳图 120 ,[ogh 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 aWtyY[= 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Kz v*` 7.5 斜入射导纳图 141 0O_acO4 7.6 对称周期 141 VW,"
dmC 7.7 参考文献 142 E~k_4z%M 8 典型的镀膜实例 143 lDBn3U&z> 8.1 单层抗反射薄膜 145
*jAw 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 @(;zU~l/ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 'yrU_k,h 8.4 W-膜层 148 Dg:2*m_!j{ 8.5 V-膜层 149 ;p$KM-?2D 8.6 V-膜层高折射基底 150 #gHs!b-g@ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 IV#kF}9$ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Jl,mYFEZ 8.9 四层抗反射薄膜 153 !'ylh8} 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 b[mAkm?9+1 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 8Gw0;Uu8D 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 O@n1E'S/ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 y)5U*\b 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 @A-*XJNS": 8.15十五层宽带抗反射膜 159 d;Uzl1; 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 c5 jd
q[0 8.17 1/4波长堆栈 162 9/La_:K 8.18 陷波滤波器 163 @D<KG 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Sk'S`vH 8.20 褶皱 165 I eQF+Xz 8.21 消偏振分光器1 169 ;k<n}shD 8.22 消偏振分光器2 171 9`3%o9V9Y 8.23 消偏振立体分光器 172 Cfz020u`g 8.24 消偏振截止滤光片 173 319 &: 8.25 立体偏振分束器1 174 K1vm
[Ne 8.26 立方偏振分束器2 177 d=q&UCC 8.27 相位延迟器 178 < |