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ouyuu:和离子源能量强度有关,哪怕同一个离子源,新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 Ppp&3h[dW) 1,用氧离子氧化表面的脏污(脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧,氧化后都变成气体挥发了) HE,wEKp 2,用重离子把表面打出凹凸不平的效果,增加表面的结合力。 %##9.Xm6l 所以也和你清洗效果,清洗 .. (2024-05-17 08:57) 9n%W-R.
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ouyuu:和离子源能量强度有关,哪怕同一个离子源,新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 pJ(l=a 1,用氧离子氧化表面的脏污(脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧,氧化后都变成气体挥发了) FSB$D)4z>b 2,用重离子把表面打出凹凸不平的效果,增加表面的结合力。 zhe5i;M 所以也和你清洗效果,清洗 .. (2024-05-17 08:57) @88 efF