UID:313472
UID:295883
UID:326042
UID:326212
UID:318142
ouyuu:和离子源能量强度有关,哪怕同一个离子源,新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 z wL3,!t 1,用氧离子氧化表面的脏污(脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧,氧化后都变成气体挥发了) M o}H_8y 2,用重离子把表面打出凹凸不平的效果,增加表面的结合力。 'aD6>8/Hj 所以也和你清洗效果,清洗 .. (2024-05-17 08:57) FXx.$W
UID:326510
ouyuu:和离子源能量强度有关,哪怕同一个离子源,新栅网和旧栅网的能量差距也有50%以上。前处理的目的主要是 [4p=X=B 1,用氧离子氧化表面的脏污(脏污的主要成分是碳、氮、氢、氧,氧化后都变成气体挥发了) C` pp 2,用重离子把表面打出凹凸不平的效果,增加表面的结合力。 &.zj5*J 所以也和你清洗效果,清洗 .. (2024-05-17 08:57) jZRh KT