(89Ji'dc 内容简介
'BY-OA#xJ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
Y;Ap9i* 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
LN4qYp6)G 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
Y25^]ON*\^ `H>b5 讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
l4rMk^>> 目录
xACdZB( Preface 1
#EDEYEW7 内容简介 2
u)a' 目录 i
UUeB;'E+ 1 引言 1
B:<
]Hl$ 2 光学薄膜基础 2
'cV?i&; 2.1 一般规则 2
aBhV3Fd[B 2.2 正交入射规则 3
kZLMtj- 2.3 斜入射规则 6
U3E&n1AA 2.4 精确计算 7
!nd*W"_gQ/ 2.5 相干性 8
>O#grDXb 2.6 参考文献 10
Tkw;pb 3 Essential Macleod的快速预览 10
oKA& An 4 Essential Macleod的特点 32
ZtK\HDdp 4.1 容量和局限性 33
*FK`&(B+} 4.2 程序在哪里? 33
87V1#U ^ 4.3 数据文件 35
\=;uu_v$ 4.4 设计规则 35
$d/&k` 4.5 材料数据库和
资料库 37
*/z??fI27 4.5.1材料损失 38
tu0aD%C 4.5.1材料数据库和导入材料 39
bUZ_UW 4.5.2 材料库 41
1D F/6y 4.5.3导出材料数据 43
d;7uFh|o 4.6 常用单位 43
]E3<UR 4.7 插值和外推法 46
Ow:1?Z{4 4.8 材料数据的平滑 50
BQ/PGY> 4.9 更多光学常数模型 54
5|I55CTx 4.10 文档的一般编辑规则 55
A(8n 4.11 撤销和重做 56
yHeEobvb 4.12 设计文档 57
C3XmK}h 4.10.1 公式 58
/6KIl 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
Pf<[|yu4? 4.10.3 沉积密度 59
=8Ehrlq 4.10.4 平行和楔形介质 60
`y^sITr 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
^B/9{0n' 4.10.4 性能 61
hePPxKQ- 4.10.5 保存设计和性能 64
Wht(O~F 4.10.6 默认设计 64
g5Z#xszj+ 4.11 图表 64
1[;;sSp 4.11.1 合并曲线图 67
~Rpm-^ 4.11.2 自适应绘制 68
x%N\5 V1 4.11.3 动态绘图 68
~rD={&0 4.11.4 3D绘图 69
F'JY? 4.12 导入和导出 73
t<j^q`;@v 4.12.1 剪贴板 73
+nL+N 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
$w#r"= ) 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
e`K)_>^n# 4.13 背景 77
(=4W-z7 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
5fJ[}~ 4.15 生成Rugate 84
\4d.sy0&>- 4.16 参考文献 91
C&~1M}I 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
Ju2l?RrX 5.1 Jobs 92
(`BSVxJH 5.2 创建一个新Job(工作) 93
%JZZ%xc 5.3 输入材料 94
;CHi\+` 5 5.4 设计数据文件夹 95
'heJ"k? 5.5 默认设计 95
])DX%$f 6 细化和合成 97
bFS>) 6.1 优化介绍 97
N K]B? 6.2 细化 (Refinement) 98
S6d`ioi- 6.3 合成 (Synthesis) 100
(1R?s>3o 6.4 目标和评价函数 101
^].jH+7i* 6.4.1 目标输入 102
ao" %WX 6.4.2 目标 103
?, r~= 6.4.3 特殊的评价函数 104
6K`c/) 6.5 层锁定和连接 104
@|}BXQNd 6.6 细化技术 104
e({9] 6.6.1 单纯形 105
H(
jXI 6.6.1.1 单纯形
参数 106
/93l74.w 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
Z?P~z07 6.6.2.1 Optimac参数 108
lbdTQ6R 6.6.3 模拟退火算法 109
YevyN\,}V! 6.6.3.1
模拟退火参数 109
YgUH'P- 6.6.4 共轭梯度 111
cF)/^5Z 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
A-
YBQPE 6.6.5 拟牛顿法 112
7dG79H 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
TjMe?p 6.6.6 针合成 113
?~"bR% 6.6.6.1 针合成参数 114
g>rp@M 6.6.7 差分进化 114
YTQt3=1ii 6.6.8非局部细化 115
}9HmTr| 6.6.8.1非局部细化参数 115
kum#^^4G| 6.7 我应该使用哪种技术? 116
'ly?P8h 6.7.1 细化 116
vbx6I>\Y 6.7.2 合成 117
7?8wyk|x 6.8 参考文献 117
9^"b*&>P 7 导纳图及其他工具 118
fKC3-zm 7.1 简介 118
!Z!g:II
/ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
im} ?rY 7.2.1 四分之一
波长规则 119
Zn=T#o 7.2.2 导纳图 120
VGHWNMT 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
=*qD4qYA 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
8P7"&VYc8 7.5 斜入射导纳图 141
?"#%SKm 7.6 对称周期 141
u]
:m"LM 7.7 参考文献 142
VErv;GyV 8 典型的镀膜实例 143
n\Fp[9+Z\ 8.1 单层抗反射薄膜 145
%W,D;?lEo> 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
.:p2Tbo 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
hz;|NW{u 8.4 W-膜层 148
XC 7?VE 8.5 V-膜层 149
b`yZ|j'ikd 8.6 V-膜层高折射基底 150
]<(]u#g_d 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
9)xUA;Qw?z 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
~R$~&x