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    [技术]构造二维周期性光栅结构 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-05-06
    复杂光栅结构被广泛应用于光谱仪、近眼显示系统等领域。VirtualLab Fusion 软件用傅立叶模态法(FMM,或者RCWA)一种简易的仿真方法来严格分析任意的光栅结构。使用图形用户界面,可以设置堆栈的几何图形,从而生成复杂的光栅结构。 此例程主要用于构建具有二维周期性特征的光栅。
    • 光栅工具箱中构建二维光栅的方法 − 基于介质定义的类型 − 基于界面定义的类型 DuaOi1Gw  
    • 计算之前修改高级选项和检查定义的结构的方法。 H'0S;A+Y6  
    • 提示:在VirtualLab软件中的光栅结构中,表现为二维周期性的被称作 三维光栅。同样的,层状光栅(一维周期性)被称作二维光栅。 <_}u5E)7(  
    lEJTd3dMi  
    初始化光栅工具箱 u<[Y6m  
    • 初始化 R~o?X ^^O  
    − 开始菜单栏 (Start) ay2.C BF  
    光栅菜单栏(Grating)  3i<*,@CY  
    通用光栅光路图(三维光栅) General Grating Light Path   Diagram(3D Gratings) zB4gnVhus|  
    • 提示:对于特殊类型的光栅,例如柱形光栅, W/+0gh7`,(  
    可以在光栅工具箱中直接点击柱形光栅光路 :DEZ$gi  
    图(三维光栅)(Pillar Grating Light cVU[>gkg_  
    Path Diagram(3D Gratings)) 0< !BzG  
    A-kI_&g\Og  
    设置光栅结构 2gi`^%#k]  
    D<:9pLD(  
    • 首先,需要定义基底(Base Block)的厚度和介质。 YRl2e`&jt  
    • VirtualLab中光栅结构在堆栈(stack) 中定义。 *l}q,9iQ-  
    • 可以在基底的前表面、后表面或者前后表面同时添加堆栈(stack)。
    i4l?q#X  
    • 例如,图中在前表面添加了堆栈(stack)。 uKplPze?  
    基于材料定义光栅的类型(例程: 柱形光栅) K-/fq=z  
    堆栈编辑器 ?6|EAKJ`lK  
    4GJsVA(d|  
    在堆栈编辑器(Stack Editor)中,界面和材料可以从中目录(catalog) 中添加。 Z^b1i`v  
    • 为了用一种特殊的介质定义光栅,需要添加两个平面界面,作为介质的边界。 '{EDdlX  
    3 ;&N3:,X  
    两个平面之间的介质类型可以是均匀介质(homogenous)或者调制介质(modulated)。 6<2 7}S  
    • 使用调制介质,就可以非常有效地描述复杂光栅结构,如柱形光栅。
    柱形光栅介质 y37@4p^@9  
    2Tp.S3  
    • 在目录类别中LightTrans预设(LightTrans Defined)下柱形介质类(pillar media)中可以添加铬柱(Chromium Pillars)。 F"_SCA?9?  
    • 这种介质可以仿真柱形结构或者在基底表面打孔的结构。 ~FJd{$2x`  
    • 此例程中,矩形排布的金属铬圆柱位于熔融石英基底表面。 (RQ kwu/  
    • 在堆栈编辑器的视图中,不同材料根据折射率的高低表示为不同深浅的颜色 Vki3D'.7N  
    (颜色越深,折射率越高)。 Gg_i:4F  
    • 注意:堆栈编辑器固定显示x-z平面的横截面视图。
    nI-\HAX  
    v vFX\j3  
    • 请注意:界面添加的顺序固定由基底表面开始算起。 yzYPT}t  
    • 选中的界面会以红色突出显示。 9G&l{7=  
    • 此外,无法在此处定义光栅前面的介质(指 3.Y/ZWON  
    最后一个界面后的介质)。它会自动从光栅部件前面的材料中提取。 tjGQ0-Lo  
    • 可以在光学参数设置编辑器(Optical Setup Editor)中更改这处材料。
    SOd(& >  
    &BP%~  
    • 堆栈周期(Stack Period)可以控制整个结构的周期。 yB&s2J  
    • 对于二维周期性光栅,必须在x和y方向分别定义周期。 I-^Y$6-  
    • 该周期也是FMM算法的周期边界条件。 B>Mk "WjQ  
    • 对于简单的光栅结构,建议选择与介质周期一致 (Dependent from the Period of Medium) 选项,并选择合适的周期性介质的序号。 Rv }e+5F  
     
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