[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 ]_G!(`Udh  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 ep>*]'  
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场景 }lvD 5  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 *fQ$s  
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系统构建块 60ccQ7
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组件求解器 K; ,2ag  
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系统构建块 ;'CWAJK  
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总结 f?}~$agc  
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几何光学仿真 )GhMM  
通过光线追迹 )L fXb9}  
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结果：光线追迹 kqxX!  
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快速物理光学仿真 !#s1'x{o  
通过场追迹 tu{y  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 sz}YXR=m  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 |a/1mUxQ&  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ]"?+R+  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 nW?DlECo?  
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总结 ,2h
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