摘要
^MHn2Cv/~ ^r_lj$:+$ 高
数值孔径物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在
聚焦模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
#]DZrD&q {3(.c, q@ uBq3.+,x* UZ\*]mxT 建模任务
HU[nN* dX@A%6#? H..ZvGu xhkWKB/7 入射平面波
EN)A" 波长 2.08 nm
TWR$D 光斑直径: 3mm
SslY]d] 沿x方向线偏振
1 j^c zMYd|2bc 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
rYFau1 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
.83v~{n {I-a;XBX 概览
DGZY~(] •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
/3[9{r •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
"x|NG,<[9 OW^2S_H5 )ozcr^ 光线追迹模拟
zYG,x*IH •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
IbJ[Og^Qyu •点击Go!
3[=`uO0\7 •获得3D光线追迹结果。
n1>,#|# ^'[@M'`~L h [IYA1/y pP0Vg'V 光线追迹模拟
$?)3&\)R •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
i,IM?+4 •单击Go!
OOBcJC •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
G4`Ut1g^ +:,`sdv6o ft/^4QcyAM {y^|ET7 光场追迹模拟
},fo+vRM •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
.^LL9{? •单击Go!
[Yy\> j|&DP-@g/ !/nx=vgp mUt,Z^ l` 光场追迹结果(照相机探测器)
i2:+h}o$e Sc/`=h]T •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
^V: "zzn& •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
{b,2;w}95 #$t}T@t> N2tkCkl^x9 f#v#)Gp+ 光场追迹结果(电磁场探测器)
$Pd|6 G*(K UG> •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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