Mzxz- cE 内容简介
iAup',AZg Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
uiHlaMf 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
Z AZQFr'* 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
Nnv&~D> S7N54X2JwL 讯技科技股份有限公司
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e;F@o3 2015年9月3日
nJ2l$J< 目录
U.>n]/& Preface 1
rr9HC]63 内容简介 2
Q5 ohaxjF 目录 i
!gJAK<]iW 1 引言 1
W,w g@2 2 光学薄膜基础 2
j7"E0Wc^o_ 2.1 一般规则 2
EcwHO 2.2 正交入射规则 3
|bd5aRS9 2.3 斜入射规则 6
?]5wX2G^|J 2.4 精确计算 7
^Ko0zz|R/ 2.5 相干性 8
<NS=<'U 2.6 参考文献 10
=PO/Q|-v? 3 Essential Macleod的快速预览 10
\6C"bQ 4 Essential Macleod的特点 32
*%8,G'"r? 4.1 容量和局限性 33
(v(_XlMK 4.2 程序在哪里? 33
XUMCz7&j 4.3 数据文件 35
D8Ni=.ALL 4.4 设计规则 35
*OsXjL`f 4.5 材料数据库和
资料库 37
qZ8lU 4.5.1材料损失 38
|wK)(s 4.5.1材料数据库和导入材料 39
qn4Dm ^ 4.5.2 材料库 41
<_42h|- 4.5.3导出材料数据 43
/dWuHS 4.6 常用单位 43
_KD(V2W 4.7 插值和外推法 46
S93NsrBbY 4.8 材料数据的平滑 50
eb( =V* 4.9 更多光学常数模型 54
G. <9K9K 4.10 文档的一般编辑规则 55
Uv%"45&7 4.11 撤销和重做 56
CsuSg*#X+ 4.12 设计文档 57
[~jhOv^ 4.10.1 公式 58
#yU4X\oO 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
"gK2!N|# 4.10.3 沉积密度 59
kTFN.kQx@ 4.10.4 平行和楔形介质 60
N<:Ra~Ay 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
xES+m/?KlZ 4.10.4 性能 61
%f:'A%'Qb 4.10.5 保存设计和性能 64
hpAIIgn 4.10.6 默认设计 64
-,XS2[ 4.11 图表 64
fnB-?8K< 4.11.1 合并曲线图 67
EE%OD~u&9# 4.11.2 自适应绘制 68
aIqNNR 4.11.3 动态绘图 68
!q7M+j4 4.11.4 3D绘图 69
V(w[`^I>~ 4.12 导入和导出 73
!$_mWz 4.12.1 剪贴板 73
n,V`Y'v) 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
O`@$YXuD 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
XP{ nf9& 4.13 背景 77
I~q}M!v~ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
;q$<]X_S)} 4.15 生成Rugate 84
]FFU,me2 4.16 参考文献 91
ef53~x 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
KP:O]520 5.1 Jobs 92
CTPn'P=\C 5.2 创建一个新Job(工作) 93
y`(z_5ClT 5.3 输入材料 94
:mg#&MZj< 5.4 设计数据文件夹 95
d(]LRIn~1 5.5 默认设计 95
6^ /C+zuX 6 细化和合成 97
x/9`2X`~ 6.1 优化介绍 97
yM#W,@ 6.2 细化 (Refinement) 98
czHO)uQ?d` 6.3 合成 (Synthesis) 100
wv?`3:co 6.4 目标和评价函数 101
Oe;9[=L[ 6.4.1 目标输入 102
o'H$g% 6.4.2 目标 103
MN1|k 6.4.3 特殊的评价函数 104
kg
!@i 7 6.5 层锁定和连接 104
v`v+M4upC 6.6 细化技术 104
4|XE
f, 6.6.1 单纯形 105
|
sQ5`lV? 6.6.1.1 单纯形
参数 106
OSSMIPr 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
5[Q44$a{ 6.6.2.1 Optimac参数 108
8PQ$X2) 6.6.3 模拟退火算法 109
?G8 D6 6.6.3.1
模拟退火参数 109
9_TZ;e 6.6.4 共轭梯度 111
lezdJ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
$s)
^zm~ 6.6.5 拟牛顿法 112
*$hO C%( 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
uIWCVR8`Y 6.6.6 针合成 113
/>$)o7U`+ 6.6.6.1 针合成参数 114
u
|f h!- 6.6.7 差分进化 114
s';jk(i3 6.6.8非局部细化 115
H M76%9! 6.6.8.1非局部细化参数 115
bk>M4l61 6.7 我应该使用哪种技术? 116
G1P m!CM= 6.7.1 细化 116
moc_}( 6.7.2 合成 117
?=PQQx2_*u 6.8 参考文献 117
MJ7!f+!5
7 导纳图及其他工具 118
rc;| ,\ 7.1 简介 118
$jw!DrE 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
g8vN^nQf[ 7.2.1 四分之一
波长规则 119
u' r;-|7 7.2.2 导纳图 120
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