Nt/*VYUn 内容简介
%8{' XJ! Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
b: %>TPT 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
u4+VG5.rhT 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
|u;5|i 'inWV* P*g 讯技科技股份有限公司
k7W8$8v 2015年9月3日
R~Xl(O 目录
?+Qbr$] Preface 1
T,?^J-h^ 内容简介 2
M>I}^Zp! 目录 i
kP;Rts8JD 1 引言 1
5gJQr%pS 2 光学薄膜基础 2
PVtQ&m$y 2.1 一般规则 2
o)-Qd3d%S 2.2 正交入射规则 3
CB|z{(&N 2.3 斜入射规则 6
_&w!JzpXT 2.4 精确计算 7
(4c<0<"$ 2.5 相干性 8
>/'WU79TYE 2.6 参考文献 10
'mmyzsQ\6 3 Essential Macleod的快速预览 10
g?@(+\W 4 Essential Macleod的特点 32
Uw)K[T 4.1 容量和局限性 33
-@#AQ\ 4.2 程序在哪里? 33
lXz<jt@5 4.3 数据文件 35
R`$Odplh> 4.4 设计规则 35
,:z@Ji 4.5 材料数据库和
资料库 37
bq
~'jg^# 4.5.1材料损失 38
e dD(s5 4.5.1材料数据库和导入材料 39
((?^B
4.5.2 材料库 41
@ObsW!g 4.5.3导出材料数据 43
@8_K^3-~e 4.6 常用单位 43
iWtWT1n8n 4.7 插值和外推法 46
1^$Io}o:S 4.8 材料数据的平滑 50
ZGp8$Y>r 4.9 更多光学常数模型 54
D@j `'&G 4.10 文档的一般编辑规则 55
;2X1 qw> 4.11 撤销和重做 56
t~bjD V^` 4.12 设计文档 57
m$O@+;>l 4.10.1 公式 58
(cCB3n\20 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
TAGqRYgi 4.10.3 沉积密度 59
?SQT;C3j( 4.10.4 平行和楔形介质 60
7qh_URt@ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
?^@;8m 4.10.4 性能 61
8\ :T*u3 4.10.5 保存设计和性能 64
>eU;lru2Q 4.10.6 默认设计 64
8"S0E(,mu 4.11 图表 64
7tt&/k?Q 4.11.1 合并曲线图 67
*?i~AXJm 4.11.2 自适应绘制 68
9h9Y:i*Gh5 4.11.3 动态绘图 68
4Q!*h8O 4.11.4 3D绘图 69
@w|~:>/g 4.12 导入和导出 73
fCF9 3,?$ 4.12.1 剪贴板 73
WRo#ZVt9$ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
f:HRrKf9 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
2#py>rF(
4.13 背景 77
"2Ye\#BU6 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
2 K`
hH 4.15 生成Rugate 84
z1YC%Y|R 4.16 参考文献 91
&d~6MSk 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
5$9j&&R 5.1 Jobs 92
p- Q1abl 5.2 创建一个新Job(工作) 93
`[`eg<xj 5.3 输入材料 94
EnfSVG8kB8 5.4 设计数据文件夹 95
vmk
c]DC 5.5 默认设计 95
`VS/Xyp 6 细化和合成 97
;%Z)$+Z_)< 6.1 优化介绍 97
xOEj+%M 6.2 细化 (Refinement) 98
%3~jg 6.3 合成 (Synthesis) 100
:MJTmpq, 6.4 目标和评价函数 101
= [:ruE 6.4.1 目标输入 102
\bfNki 6.4.2 目标 103
3lLO. 6.4.3 特殊的评价函数 104
.+ _x|?' 6.5 层锁定和连接 104
v/CXX<^U( 6.6 细化技术 104
M(5l Su 6.6.1 单纯形 105
H'2pmwk 6.6.1.1 单纯形
参数 106
&:Raf5G-E 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
J/)Q{*`_ 6.6.2.1 Optimac参数 108
[,lBY-Kz+ 6.6.3 模拟退火算法 109
zvSfW#
* 6.6.3.1
模拟退火参数 109
gl HHr 6.6.4 共轭梯度 111
0naegy?, 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
C~kw{g+| 6.6.5 拟牛顿法 112
iao_w'tJ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
NO;+:0n 6.6.6 针合成 113
x.}iSE{ 6.6.6.1 针合成参数 114
DQwbr\xy\ 6.6.7 差分进化 114
[{'` | 6.6.8非局部细化 115
-u8 ma%JW 6.6.8.1非局部细化参数 115
"-\I?k 6.7 我应该使用哪种技术? 116
QL 6.7.1 细化 116
ld}-}W-cq 6.7.2 合成 117
.hn"NXy 6.8 参考文献 117
z,$^|'pP 7 导纳图及其他工具 118
$1/yc#w
u 7.1 简介 118
_PQQ&e)E 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
na>UFw7>* 7.2.1 四分之一
波长规则 119
!~PV\DQN 7.2.2 导纳图 120
[&"`2n 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
~#OnA1) 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
>~2oQ[n 7.5 斜入射导纳图 141
T&cf6soo 7.6 对称周期 141
$M#G;W5c 7.7 参考文献 142
0<nk>o 8 典型的镀膜实例 143
Pv/$;R% 8.1 单层抗反射薄膜 145
Pe~[qETv 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
T[q2quXgk 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
<D!"<&N