,^e2ma|z 内容简介
RYvcuA) Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
R- >~MLeK] 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
T;B FO5G@ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
M.dX;iM< Cx~;oWZ 讯技科技股份有限公司
s'N < 2015年9月3日
[7PC\ 目录
AlDp+"| Preface 1
g,iW^M 内容简介 2
Y J,"@n_ 目录 i
e?;c9]XO,o 1 引言 1
}xr0m+/ 2 光学薄膜基础 2
\36 G``e 2.1 一般规则 2
O&/nBHu\ 2.2 正交入射规则 3
7{M&9| aK 2.3 斜入射规则 6
6e \?%,H 2.4 精确计算 7
1ED7.#g 2.5 相干性 8
ENqZ=Lyq 2.6 参考文献 10
36co'a4, 3 Essential Macleod的快速预览 10
bR~Xog 4 Essential Macleod的特点 32
kw z6SObQ 4.1 容量和局限性 33
ygja{W. 4.2 程序在哪里? 33
@0EY5{& 4.3 数据文件 35
0#'MR., 4.4 设计规则 35
HP*{1Q@5 4.5 材料数据库和
资料库 37
:F6dXW 4.5.1材料损失 38
M {'(+a[ 4.5.1材料数据库和导入材料 39
5!'1;GLs 4.5.2 材料库 41
a8)2I~j 4.5.3导出材料数据 43
'C7R*
P 4.6 常用单位 43
-32P}58R 4.7 插值和外推法 46
Zbre5&aU 4.8 材料数据的平滑 50
uHacu<$= 4.9 更多光学常数模型 54
p8j4Tc5tQ> 4.10 文档的一般编辑规则 55
E7R%G OH 4.11 撤销和重做 56
LFi{Q{E) 4.12 设计文档 57
40
u
tmC 4.10.1 公式 58
0s//&'*Q 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
,<P"\W 4.10.3 沉积密度 59
Lbrn8,G\ 4.10.4 平行和楔形介质 60
))dqC l 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
?m5"|f\ 4.10.4 性能 61
PtQ[({d3R 4.10.5 保存设计和性能 64
_\IA[-C+O 4.10.6 默认设计 64
!jB}}&Ii 4.11 图表 64
<%wTI<m,- 4.11.1 合并曲线图 67
g*FHZM*N9 4.11.2 自适应绘制 68
`2+TN 4.11.3 动态绘图 68
U:7w8$_ 4.11.4 3D绘图 69
UzSDXhzObf 4.12 导入和导出 73
b-VQn5W 4.12.1 剪贴板 73
X)j%v\#`U 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
*^{j!U37s 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
)Z4iM;4] 4.13 背景 77
h5l_/vd 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
$tW E9_ 4.15 生成Rugate 84
5G'2 Wby'# 4.16 参考文献 91
3TjyKB *! 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
C[TjcHoA 5.1 Jobs 92
"* FjEA6= 5.2 创建一个新Job(工作) 93
E*T6kp^b 5.3 输入材料 94
gIRZ kT` 5.4 设计数据文件夹 95
+Q5'!@8 5.5 默认设计 95
!a V:T&6 6 细化和合成 97
)AieO-4* 6.1 优化介绍 97
[Pq
|6dz 6.2 细化 (Refinement) 98
YwH Fn+ 6.3 合成 (Synthesis) 100
mPPB"uQ 6.4 目标和评价函数 101
rVOF 6.4.1 目标输入 102
mV"F<G; H 6.4.2 目标 103
@S~n^v,) 6.4.3 特殊的评价函数 104
{_4Hsw?s6 6.5 层锁定和连接 104
Y@UW\d*'%I 6.6 细化技术 104
Y/m-EL 6.6.1 单纯形 105
c"CR_ 6.6.1.1 单纯形
参数 106
l(3PxbT 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
B&KIM{j\ 6.6.2.1 Optimac参数 108
)Mflt0fp 6.6.3 模拟退火算法 109
d5
]-{+V+ 6.6.3.1
模拟退火参数 109
n]w%bKc-9 6.6.4 共轭梯度 111
32j#kJ W 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
AGwdM-$iT 6.6.5 拟牛顿法 112
AYoTCi%7E 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
4R01QSbd 6.6.6 针合成 113
Wo9=cYC) 6.6.6.1 针合成参数 114
]CU)#X<J 6.6.7 差分进化 114
96!2@c{ 6.6.8非局部细化 115
9"Dt3>Z 6.6.8.1非局部细化参数 115
0#8lg@e8 6.7 我应该使用哪种技术? 116
rOUQg_y 6.7.1 细化 116
`\ nKPj 6.7.2 合成 117
6P(jc 6.8 参考文献 117
N7 _rVcDe 7 导纳图及其他工具 118
+Swl$ab 7.1 简介 118
0#Q]>V@rO4 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
GX.a!XQ@! 7.2.1 四分之一
波长规则 119
p@DVy2,EY 7.2.2 导纳图 120
a|dgK+[ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
~S
:8M<aB 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
u
XZ ;K. 7.5 斜入射导纳图 141
kyYU 1gfh 7.6 对称周期 141
]w-W 7.7 参考文献 142
wB[
JFy"E 8 典型的镀膜实例 143
1v|0&{lB 8.1 单层抗反射薄膜 145
R5},E 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
K`|V1L.m 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
m\=Cw&( 8.4 W-膜层 148
7oL:C 8.5 V-膜层 149
>)>~S_u 8.6 V-膜层高折射基底 150
`X&