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    [培训]线下培训-衍射及微纳光学系统的分析、设计与加工技术 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-25
    时间地点 9W-" mD;  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 )b%zYD9p  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 ,+Ocb-*  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 %S`Wu|y  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 vo:h"ti  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) (QojIdHt  
    课程概要 ,c`Wmp^AY  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 F( /Ka@  
    X%og}Cfi  
    7wY0JS$fz  
    iZ/iMDfC  
    课程大纲 [5!{>L`  
    1.波动光学基础 a6A~,68/V  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 J0f!+]~G3  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 UHk)!P>  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 V@y&n1?6  
    2.衍射元件概述 zFDtC-GF  
    □ 衍射光学元件概念 RkTYvAk|kY  
    □ 衍射光学元件优点 .F%jbnKd_  
    □ 光束分束、整形、扩散 OXl0R{4  
    □ 傅里叶变换 X>pCkGE  
    □ 角谱理论 #}Xsi&:XU  
    □ 工作装置类型 ang~_Ec.  
    3.衍射光学元件理念及设计 {~#PM>f  
    □ 基本理念 <EE^ KR96  
    透镜和衍射光学元件的作用 BW3Q03SW6  
    □ 分束、整形和扩散的实质 .h/2-pQ>  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 ePR9r}  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 h3GUFiZ.  
    4.IFTA简介 M+j*5wNy  
    □ 基本设计步骤 ] M#LB&Pe  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 ;;C2t&(  
    参数估算——周期和线宽的估算 B\aVE|~PB  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 ?|Z~mE  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 cdGBo4  
    5.衍射元件设计案例 )_>'D4l ?  
    □ 衍射分束器参数选择 w/PE)xA  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 ]Nssn\X7  
    □ 衍射整形器参数选择 C7AD1rl  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 iv],:|Mbd  
    □ 衍射扩散器参数选择 j0Cj&x%qF}  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 [wJ\.9<Oa  
    6.光栅模拟分析 zTPNQ0=|  
    □ 构建stack 'R- g:X\{  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 \"L0d1DK)  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 ZzQLbCV  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 x TH3g^E  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 KW ZEi?  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 3xdJ<Lrq  
    7.光栅概述 W1LR ,:$  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 d0Ubt  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 qu'D"0  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 K3WaBcm  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 @Cx goX^  
    8.微纳光学元件制作 4#:Eq=(W  
    □ 多阶器件加工 #W.vX=/*  
    □ 连续器件加工 yc`3)  
    □ 传统套刻法 @,2,(=l*C  
    激光直写法 VfDa>zV3  
    □ 纳米光子器件制作概述 G;[O~N3n.  
    □ 衍射光学元件公差分析 4b, +;  
    9.答疑 Hr7pcz/#l  
    对此课程有兴趣的可以扫码加微咨询 r1}1lJ>7H  
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