线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1339
时间地点 I+;-p]~  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 uTvv(f  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 m~`>`4  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ,mFsM!|  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 ;4#D,zlO^  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
>-)h|w i  
特邀专家介绍 AuiFbRFi  
0$P/jt  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ,,<PVTd  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 b~0N^p[&%  
课程概要 =o=1"o[  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 HOi C  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 [=%YV# O  
课程大纲 = +Xc4a  
1. Essential Macleod软件介绍 -yx/7B5@  
1.1 介绍软件 r':TMhzHq?  
1.2 创建一个简单的设计 bGXR7u&K  
1.3 绘图和制表来表示性能 adO&_NR  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 lWZuXb,G  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) Y)I8eU{Wl(  
1.6 特定设计的公式技术 cO#oH2}  
1.7 交互式绘图 ^U  q  
2. 光学薄膜理论基础 Iy7pt~DJ,  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 MXvXVhCU  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 'r} fZ  
3. 材料管理 O m'(mr  
3.1 材料模型 k9si| '  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 O&Z' r  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 xytr2V ]aV  
3.4 基板光学常数的提取 =y]$0nh  
4. 光学薄膜设计优化方法 ?.bnIwQe  
4.1 参考波长与g [`_io>*g  
4.2 四分之一规则 F[`ZqW  
4.3 导纳与导纳图 eC`pnE  
4.4 斜入射光学导纳 M8;lLcgu.  
4.5 光学薄膜设计的进展 =U-r*sGLN  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 _YHu96H;  
4.6.1 优化目标设置 u5E]t9~Pq  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) j|(Z#3J  
4.6.3 膜层锁定和链接 ;?L\Fz(<   
5. Essential Macleod中各个模块的应用 3:CO{=`\7B  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Qvoqx>2p5  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 5z/Er".P  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 m:CTPzAt  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 .p6+l!"  
5.5 如何在Function中编写脚本 0Bolv_e  
6. 光学薄膜系统案例 uOi&G:=  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 O>0VTW  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 9@VO+E$7L  
6.3 Stack应用范例说明 fP-|+Ty O  
7. 薄膜性能分析 6LUC!Sh  
7.1 电场分布 `sHuM*  
7.2 公差与灵敏度分析 I4_d[O9  
7.3 反演工程 uQ Co6"e  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 peVq+(=.  
8. 真空技术 2 h|e  
8.1 常用真空泵介绍 l}g;'9ZB  
8.2 真空密封和检漏 v90T{1+M|4  
9. 薄膜制备技术 }=}>9DS M  
9.1 常见薄膜制备技术 m~l F`?  
10. 薄膜制备工艺 7*H:Ob)9k  
10.1 薄膜制备工艺因素 C;B}3g&  
10.2 薄膜均匀性修正技术 y&J@?Hc>  
10.3 光学薄膜监控技术 {bNXedZ\  
11. 激光薄膜 7,$z;Lr0S  
11.1 薄膜的损伤问题 Ka_S n  
11.2 激光薄膜的制备流程 j ) vlM+  
11.3 激光薄膜的制备技术 ZU&"73   
12. 光学薄膜特性测量 BN_7Ay/k  
12.1 薄膜光谱测量 ||B;o-  
12.2 薄膜光学常数测量 Wsj=!Obc  
12.3 薄膜应力测量 -p,x&h,p  
12.4 薄膜损伤测量 T=Z.U$  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 bha?eN  
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有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
hP@(6X,"  
内容简介 D^F{u Dlb  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 #=e;?w  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ik,lSTBD  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 }E^S]hdvz  
alFjc.~}  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
irBDGT~  
目录 v Y|!  
Preface 1 &~DTZg Y  
内容简介 2 n]!fO 6kj  
目录 i Ju` [m  
1  引言 1 &~sfYW  
2  光学薄膜基础 2 [Gr*,nVvB  
2.1  一般规则 2 >um!Eo  
2.2  正交入射规则 3 D$e B ,~  
2.3  斜入射规则 6 F1azZ (  
2.4  精确计算 7 <&!]K?Q9i  
2.5  相干性 8 ,K9f_bv  
2.6 参考文献 10 p#d+>7  
3  Essential Macleod的快速预览 10 4g _"ku  
4  Essential Macleod的特点 32 (zo^Nn9VJ  
4.1  容量和局限性 33 N]/!mo?  
4.2  程序在哪里? 33 vlWw3>4  
4.3  数据文件 35 B)SLG]72f  
4.4  设计规则 35 +*nGp5=^GE  
4.5  材料数据库和资料库 37 9L eNe}9v  
4.5.1材料损失 38 \&xl{64  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 Bn wzcl  
4.5.2 材料库 41 h+7>#*DH  
4.5.3导出材料数据 43 eOl KbJU  
4.6  常用单位 43 . 5HQ   
4.7  插值和外推法 46 %oykcf,#  
4.8  材料数据的平滑 50 > 6CV4 L  
4.9 更多光学常数模型 54 /ci]}`'ws  
4.10  文档的一般编辑规则 55 FpV`#6i7  
4.11 撤销和重做 56 tl8O6`<Z  
4.12  设计文档 57 ]5CNk+`'  
4.10.1  公式 58 JHV)ZOO  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 > dZ3+f  
4.10.3  沉积密度 59 Dma.r  
4.10.4 平行和楔形介质 60 pR o s{Uq"  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 QOFvsJ<s  
4.10.4  性能 61 ~fN%WZ;_  
4.10.5  保存设计和性能 64 M7}Q=q\9  
4.10.6  默认设计 64 ~XM[>M\qB  
4.11  图表 64 T8J4C=?/  
4.11.1  合并曲线图 67 FVWfDQ$&v  
4.11.2  自适应绘制 68 N0TeqOi4Y  
4.11.3  动态绘图 68 [2Mbk~  
4.11.4  3D绘图 69 ,i}|5ozj4  
4.12  导入和导出 73 w; TkkDH  
4.12.1  剪贴板 73 !AN^ ,v]D  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 U\<-mXv  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 {[G`Z9]z&-  
4.13  背景 77 lPq\=V  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 qc-,+sn(  
4.15  生成Rugate 84 wGKo.lt   
4.16  参考文献 91 f_mhD dq  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92  .jg0a  
5.1  Jobs 92 >=,ua u7  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 x!7yU_ls`  
5.3  输入材料 94 /="HqBI#i  
5.4  设计数据文件夹 95 eb:A1f4L  
5.5  默认设计 95 mX# "+X|  
6  细化和合成 97 y2Bh?>pg  
6.1  优化介绍 97 BNm4k7 ]M  
6.2  细化 (Refinement) 98 {ShgJ ;! Q  
6.3  合成 (Synthesis) 100 _kraMQ>  
6.4  目标和评价函数 101 AHh#Fx+K  
6.4.1  目标输入 102 Q s(Bnb;  
6.4.2  目标 103 Zc5 :]]  
6.4.3  特殊的评价函数 104 ,{}#8r`+*  
6.5  层锁定和连接 104 J\co1kO9/  
6.6  细化技术 104 f[~1<;|-  
6.6.1  单纯形 105 ETw]! br  
6.6.1.1 单纯形参数 106 $xW **&  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 x1[?5n6  
6.6.2.1 Optimac参数 108 85Y|CN] vQ  
6.6.3  模拟退火算法 109 2Oc$+St~8  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 Y*YFB|f?  
6.6.4  共轭梯度 111 %e%7oqR?  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 HMQI&Lh=U  
6.6.5  拟牛顿法 112 UPh=+s #Q  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 j'rS&BI G  
6.6.6  针合成 113 K'b*A$5o  
6.6.6.1 针合成参数 114 y;`eDS'0.N  
6.6.7 差分进化 114 RVM&4#E  
6.6.8非局部细化 115 JJk#,AP  
6.6.8.1非局部细化参数 115 F 1W+o?B  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 ^$?qT60%d|  
6.7.1  细化 116 !c(QSf502  
6.7.2  合成 117 MiGcA EF;  
6.8  参考文献 117 r|Zi3+  
7  导纳图及其他工具 118 FvImX  
7.1  简介 118 P'[<A Z  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 e1(h</MU2  
7.2.1  四分之一波长规则 119 +oy*Kxs7  
7.2.2  导纳图 120 :{}_|]>K  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 bH9Le  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 oN,s.Of  
7.5  斜入射导纳图 141 '1+.t$"/tU  
7.6  对称周期 141 nB@UKX  
7.7  参考文献 142 !k&)EWP?  
8  典型的镀膜实例 143 F'W> 8  
8.1  单层抗反射薄膜 145 4('JwZw\!  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 fEqC] *s  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ZXXiL#^  
8.4  W-膜层 148 8I#D`yVKc  
8.5  V-膜层 149 W'$kZ/%[  
8.6  V-膜层高折射基底 150 HYClm|   
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 i57( $1.  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 g:~+P e  
8.9  四层抗反射薄膜 153 5w3Fqu>39?  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 *g7DPN$aQ  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 *@M3p}',M  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 McP.9v}H0_  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 s (PY/{8  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 aj7dH5SZl  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 _/x& <,3  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 8F6h#%9  
8.17  1/4波长堆栈 162 JZx%J)  
8.18  陷波滤波器 163 A~71i&  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ;h=S7M9.  
8.20  褶皱 165 2P}I'4C-  
8.21  消偏振分光器1 169 PZOORjF8A  
8.22  消偏振分光器2 171 I,P!@  
8.23  消偏振立体分光器 172 ww,Z )m  
8.24  消偏振截止滤光片 173 :JV\){P  
8.25  立体偏振分束器1 174 dr]&kqm  
8.26  立方偏振分束器2 177 19I:%$U3  
8.27  相位延迟器 178 OgMI  
8.28  红外截止器 179 2VYvO=KA  
8.29  21层长波带通滤波器 180 gxM[V>[  
8.30  49层长波带通滤波器 181 AzjMv6N   
8.31  55层短波带通滤波器 182 SMO*({/  
8.32  47 红外截止器 183 TA;,>f*  
8.33  宽带通滤波器 184 Z3;=w%W  
8.34  诱导透射滤波器 186 i^/54  
8.35  诱导透射滤波器2 188 qi\n]I  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 |5ONFd e"0  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 P|}\/}{`  
8.35  增益平坦滤波器 193 I'A:J  
8.38  啁啾反射镜 1 196 l>Av5g)  
8.39  啁啾反射镜2 198 el*9 Ih  
8.40  啁啾反射镜3 199 0xP:9rm  
8.41  带保护层的铝膜层 200 jgRCs.6  
8.42  增加铝反射率膜 201 2Ow<`[7  
8.43  参考文献 202 I~RcOiL)  
9  多层膜 204 F6&P~H  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 Wo3'd|Y~i  
9.2  内部透过率 204 sp{j!NSL  
9.3 内部透射率数据 205 7^wE$7hS  
9.4  实例 206 <!!nI%NC  
9.5  实例2 210 z93nYY$`Y  
9.6  圆锥和带宽计算 212 7A0dl}:  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ITvHD-,\  
10  光学薄膜的颜色 216 %!wq:~B1  
10.1  导言 216 J|?[.h7tO  
10.2  色彩 216 XGk}e4;_  
10.3  主波长和纯度 220 !E0fGh  
10.4  色相和纯度 221 cG(0q[  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 %8<2>  
10.6 色差 226 *1,=qRjL  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 D pNX66O  
10.8  颜色渲染指数 234 /j %_t  
10.9  色差计算 235 6o(lObfo  
10.10  参考文献 236 D;C5,rN t  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 am (#Fa  
11.1  短脉冲 238 Cqa3n[Mhw1  
11.2  群速度 239 AS q`)Rz  
11.3  群速度色散 241 .h6Y< E  
11.4  啁啾(chirped) 245 Ou!)1UFI  
11.5  光学薄膜—相变 245 kPedX  
11.6  群延迟和延迟色散 246 )<Ob  
11.7  色度色散 246 @7X\tV.Z  
11.8  色散补偿 249 2%]t3\XW  
11.9  空间光线偏移 256 8J^d7uC  
11.10  参考文献 258 W U0UG$o`  
12  公差与误差 260 w= B  
12.1  蒙特卡罗模型 260 1O4D+0@  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 &m4f1ZO*  
12.2.1  误差工具 267 o{g@Nk'f  
12.2.2  灵敏度工具 271 8E=vR 8  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 C\/b~HU  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ~QO< B2hS}  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 CQ jV!d0j  
12.3  参考文献 276 BiE$mM  
13  Runsheet 与Simulator 277 > XZg@?Iw  
13.1  原理介绍 277 Sy:K:Z|[U  
13.2  截止滤光片设计 277 'N|2vbi<  
14  光学常数提取 289 %cd]xQpCp  
14.1  介绍 289 d4V 2[TX  
14.2  电介质薄膜 289 E s:5yX!  
14.3  n 和k 的提取工具 295 $Uy#/MX  
14.4  基底的参数提取 302 9M nem*  
14.5  金属的参数提取 306 x@Sra@  
14.6  不正确的模型 306 W=F3XYS  
14.7  参考文献 311 > `0| X  
15  反演工程 313 Qw}xGlF,  
15.1  随机性和系统性 313 W*3o|x   
15.2  常见的系统性问题 314 (\tq<h0  
15.3  单层膜 314 nHE+p\  
15.4  多层膜 314 ^|r`"gOJ3  
15.5  含义 319 tRkrV]K  
15.6  反演工程实例 319 ~V!EtZG$  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 z 3Zu C{  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 G1A$PR  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 -z&9 DWH  
16.1  光学性质的热致偏移 329 Q.<giBh  
16.2  应力工具 335 qPp]K?.  
16.3  均匀性误差 339 <kROH0+  
16.3.1  圆锥工具 339 V02309Y  
16.3.2  波前问题 341 8R&z3k;!t  
16.4  参考文献 343 ~xP Szf  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 YdPlN];[  
17.1  引言 345 ^NcTWbs-T  
17.2  操作数 345 s!bHS_\e|  
18  如何在Function中编写脚本 351 C CC4(v  
18.1  简介 351 "[Yip5  
18.2  什么是脚本? 351 7Zhli Y1  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 {6ajsy5=  
18.4  基础 352 ozT._ C  
18.4.1  Classes(类别) 352 9]"\"ka3>  
18.4.2  对象 352 )0'Y et}  
18.4.3  信息(Messages) 352 ='KPT1dW*  
18.4.4  属性 352 TeOFAIU  
18.4.5  方法 353 LPsh?Ca?N  
18.4.6  变量声明 353 HW^{;'kH~  
18.5  创建对象 354 oC5gME"2  
18.5.1  创建对象函数 355 |.^^|@+  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 %`bLmfm  
18.5.3 丢弃对象 356 $cyLI+uz|  
18.5.4  总结 356 Ty)gPh6O  
18.6  脚本中的表格 357 gGF$M `  
18.6.1  方法1 357 *4zoAslU1  
18.6.2  方法2 357 v\J!yz  
18.7 2D Plots in Scripts 358 7$;c6_se  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ;]|m((15G  
18.9  注释 360 u!sSgx =  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 /M5=tW#e  
18.11  一个更高级的脚本 362 rjfc.l#v  
18.12  <esc>键 364 lv*Wnn@k  
18.13 包含文件 365 T]5U_AI@  
18.14  脚本被优化调用 366 avF&F  
18.15  脚本中的对话框 368 BF@m )w.v  
18.15.1  介绍 368 #1gTpb+t  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 NHst7$Y<  
18.15.3  输入框函数 370 =f/avGX  
18.15.4  自定义对话框 371 1Al=v  
18.15.5  对话框编辑器 371 jJiCF,m  
18.15.6  控制对话框 377 vbW\~xf  
18.15.7  更高级的对话框 380 :==UDVP  
18.16 Types语句 384 fo/(()  
18.17 打开文件 385 Lqy|DJ%  
18.18 Bags 387 &Z#Vw.7U  
18.13  进一步研究 388 $u/8Rp  
19  vStack 389 uOy\{5s8  
19.1  vStack基本原理 389 "Wzij&WkQ  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 pP=_@ 3 D  
19.3  五棱镜 393 U`},)$  
19.4 光束距离 396 C`=`Ce~|d  
19.5 误差 399 M$DwQ}Z  
19.6  二向分色棱镜 399 I_{9eG1w?  
19.7  偏振泄漏 404 3?-V>-[G_  
19.8  波前误差—相位 405 9 &?tQ"@x  
19.9  其它计算参数 405 +9& ulr  
20  报表生成器 406 Xmw2$MCB  
20.1  入门 406 l%vhV&  
20.2  指令(Instructions) 406 n=<q3}1Jej  
20.3  页面布局指令 406 fh/)di  
20.4  常见的参数图和三维图 407 G>?x-!9qcH  
20.5  表格中的常见参数 408 #CBo  
20.6  迭代指令 408 476M` gA  
20.7  报表模版 408 SV$ASs  
20.8  开始设计一个报表模版 409 YQlpk@X`2  
21  一个新的project 413 GLoL4el  
21.1  创建一个新Job 414 2l;ge>D J  
21.2  默认设计 415 QZeb+r  
21.3  薄膜设计 416 &QHA_+88W  
21.4  误差的灵敏度计算 420 IrVM|8vT3  
21.5  显色指数计算 422 vErbX3RY2  
21.6  电场分布 424 _ ;v _L  
后记 426 -F~9f>  
mAtG&my)  
oWn_3gzw;  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 s`dkEaS  
Nc^b8& 2J  
《Essential Macleod中文手册》
]MBJ"1F  
xfZ9&g  
目  录 ! 7#froh  
et7T)(k0  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 t2U]CI%  
第1章 介绍 ..........................................................1 D(2kb  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 NC#kI3{  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 ^U|CNB%.  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 m78MWz]Yo  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 knj,[7uh  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 S -mzxj  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 aF_ZV bS  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 KfN`ZZ<  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 R&d_ WB4w  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 s`7 _J9  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 tue%L]hc  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 -t706(#k  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 g#bfY=C  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ]f+D& qZ B  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 M@z_Z+q 9  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ^Xz`hR   
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 Y_TL4  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 XzTH,7[n  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 0 Ci"tA3"  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 GqF.T#|  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 lQ(BEv"2G[  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 smQpIB;  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 ;Bc<u[G  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 >@92K]J  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 QK/+*hr;  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 %v6]>FNP'3  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 WSX@0A.&)  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 s Gm(Aax*0  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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