线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:955
时间地点 :2.<JUDM  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 RKPX*(i~  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 IG Ax+3V  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 !pZ<{|cH  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 al"=ld(  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
U,K=(I7OBX  
特邀专家介绍 \^1S:z  
;pw9+zo ^M  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 4a=QTq0p  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 E)`:sSd9  
课程概要 5P{[8PZxbV  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 s o1hC  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 5ZX  
课程大纲 FeZ*c~q  
1. Essential Macleod软件介绍 p,.6sk  
1.1 介绍软件 '3 b'moy  
1.2 创建一个简单的设计 U=WS]  
1.3 绘图和制表来表示性能 PJ YUD5  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 "~mY4WVG  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) .I?~R:(Ig  
1.6 特定设计的公式技术 %Gl1Qi+Po_  
1.7 交互式绘图 ;0U*N& f  
2. 光学薄膜理论基础 8iTB  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 Z2t\4|wr:  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 Ci4; e  
3. 材料管理 .8->n aj|  
3.1 材料模型 g4u 6#.m(  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 y 2)W"PuG  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 Z9.0#Jnu  
3.4 基板光学常数的提取 /xSFW7d1  
4. 光学薄膜设计优化方法 = N;5T  
4.1 参考波长与g UwxszEHC  
4.2 四分之一规则 { V) `6  
4.3 导纳与导纳图 U\u07^h[  
4.4 斜入射光学导纳 !S%0#d2  
4.5 光学薄膜设计的进展 zW\s{  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Y1ks'=c>  
4.6.1 优化目标设置 PXyv);#Q`  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) T%;V_iW-  
4.6.3 膜层锁定和链接 JA*+F1s  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 z-qbe97  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 pztfm'  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 Y]7503J  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 I tb_ H  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟  Q6RTH  
5.5 如何在Function中编写脚本 @dUN3,}  
6. 光学薄膜系统案例 i)'tt9f$  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 |dz"uIrT  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 r6nnRN/S=  
6.3 Stack应用范例说明 _!E&%=f  
7. 薄膜性能分析 aL_/2/@X8  
7.1 电场分布 BN `2UVH  
7.2 公差与灵敏度分析 ;*$e8y2  
7.3 反演工程 KIi:5Y  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 *`rfD*  
8. 真空技术 , /%'""`w  
8.1 常用真空泵介绍 3@qv[yOE  
8.2 真空密封和检漏 gXlcB~!  
9. 薄膜制备技术 0-[naGz  
9.1 常见薄膜制备技术 ? 3OfiGX?  
10. 薄膜制备工艺 EK5$z>k>m  
10.1 薄膜制备工艺因素 ALy7D*Z]w  
10.2 薄膜均匀性修正技术 =@0J:"c  
10.3 光学薄膜监控技术 TZ+ p6M8G  
11. 激光薄膜 $~iZaX8&  
11.1 薄膜的损伤问题 71y{Dwya  
11.2 激光薄膜的制备流程 <zL_6Y2  
11.3 激光薄膜的制备技术 Ix6\5}.c9  
12. 光学薄膜特性测量 ^;'8yE/  
12.1 薄膜光谱测量 p#{y9s4h  
12.2 薄膜光学常数测量 BvsSrse  
12.3 薄膜应力测量 1*yxSU@uY  
12.4 薄膜损伤测量 ccrWk*tr  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 +]nIr'V  
5 ty2e`~K  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
-2; 6Pwmv  
内容简介 jLVG=rOn  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 YR*gO TD  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 y^,QM[&  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Hf@4p'  
gu!!}pwV9  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
/wLGf]0  
目录 >7PQOQMW'  
Preface 1 g{Al:}u>  
内容简介 2 o0]YDX@T  
目录 i "qNFDr(WM  
1  引言 1 =`QYy-b X  
2  光学薄膜基础 2 $Yt|XT+!&  
2.1  一般规则 2 l)vC=V6MG  
2.2  正交入射规则 3 C@6:uiT$  
2.3  斜入射规则 6 @b,H'WvhfS  
2.4  精确计算 7 .@E5dw5  
2.5  相干性 8 W06#|8,{v  
2.6 参考文献 10 )gEE7Ex?  
3  Essential Macleod的快速预览 10 dI ,A;.  
4  Essential Macleod的特点 32 Ai1"UYk\\Y  
4.1  容量和局限性 33  ce9P-}d  
4.2  程序在哪里? 33 T2MC`s|`  
4.3  数据文件 35 A{ ~D_q  
4.4  设计规则 35 dazNwn  
4.5  材料数据库和资料库 37 3"7Q[9Oj  
4.5.1材料损失 38 e{@RBYX@+c  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 <7VLUk}  
4.5.2 材料库 41 ?@9v+Am!  
4.5.3导出材料数据 43 AN Fes*8j  
4.6  常用单位 43 pOXI*0_g.  
4.7  插值和外推法 46 U-9Aq  
4.8  材料数据的平滑 50 NgDhdOB  
4.9 更多光学常数模型 54 ywAvqT,  
4.10  文档的一般编辑规则 55 \jwG*a  
4.11 撤销和重做 56 hK3-j;eg  
4.12  设计文档 57 ]]PNYa  
4.10.1  公式 58 A.vAk''(}+  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Tse#{  
4.10.3  沉积密度 59 Gu*y7I8  
4.10.4 平行和楔形介质 60 22ON=NN  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 k_,7#:+  
4.10.4  性能 61 Xx{| [2`  
4.10.5  保存设计和性能 64 ICN>kJ\;M  
4.10.6  默认设计 64 G0UaE1n  
4.11  图表 64 6}TunR  
4.11.1  合并曲线图 67 %NrH\v{7Q  
4.11.2  自适应绘制 68 \R<MQ# x  
4.11.3  动态绘图 68 g:M;S"U3*Y  
4.11.4  3D绘图 69 C8|V?bL  
4.12  导入和导出 73 -U/)y:k!%  
4.12.1  剪贴板 73 KMj\A d  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 t2o{=!$WH  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 CW+kKN  
4.13  背景 77 9 8|sWI3 B  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 X[o+Y@bc  
4.15  生成Rugate 84 <R]m(  
4.16  参考文献 91 w 0_P9g:  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 [7I bT:ph  
5.1  Jobs 92 >J7slDRo  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 }ssV"5M  
5.3  输入材料 94 m[}k]PB>  
5.4  设计数据文件夹 95 -i`jS_-Cv-  
5.5  默认设计 95 .t_t)'L  
6  细化和合成 97 A3a//e  
6.1  优化介绍 97 ~.W]x~X$  
6.2  细化 (Refinement) 98 l;iU9<~  
6.3  合成 (Synthesis) 100 eL}w{Hlk T  
6.4  目标和评价函数 101 ?:\/-y)Sp  
6.4.1  目标输入 102 ty,oj33  
6.4.2  目标 103 +-j-)WU?,  
6.4.3  特殊的评价函数 104 G ?$ @6  
6.5  层锁定和连接 104 .yj@hpJM  
6.6  细化技术 104 |fgUW.  
6.6.1  单纯形 105 =x8[%+  
6.6.1.1 单纯形参数 106 y0d=  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 L+8ar9es  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ~bZ$ d{o^  
6.6.3  模拟退火算法 109 ]Lub.r  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 dEJqgp}\p  
6.6.4  共轭梯度 111 <N vw*yA  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 E{orezP  
6.6.5  拟牛顿法 112 M@cFcykK  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 .^wpfS  
6.6.6  针合成 113 `9^tuR,  
6.6.6.1 针合成参数 114 4H#-2LV`  
6.6.7 差分进化 114 s* (a  
6.6.8非局部细化 115 h^\vk!Q-d  
6.6.8.1非局部细化参数 115 AM}2=Ip  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 XRV]u|w=g  
6.7.1  细化 116 1CB&z@  
6.7.2  合成 117 aJ+V]WmA  
6.8  参考文献 117 3YvKHn|V"  
7  导纳图及其他工具 118 `MU~N_  
7.1  简介 118 0vv~G\yM  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 n~ *|JJ*`  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ^lHy)!&A  
7.2.2  导纳图 120 B7 s{yb  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 WWunS|B!  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 jKq*@o~}  
7.5  斜入射导纳图 141 uV5uZ  
7.6  对称周期 141 Vf cIR(  
7.7  参考文献 142 4CM'I~  
8  典型的镀膜实例 143 Ixa0;nxj  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ;QBS0x\f@  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 DG;7+2U  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 sy"}25s  
8.4  W-膜层 148 ~7 i{~<?  
8.5  V-膜层 149 GKt."[seV  
8.6  V-膜层高折射基底 150 Y}ogwg&  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 (GC]=  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ]DVr-f ~  
8.9  四层抗反射薄膜 153 K0.aU  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 9nG^_.}|  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 yD3}USw  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ME)Tx3d  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 1wR[nBg*|  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 yNvAT>H  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 ,Wlt[T(.;  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 KwL_ae6fV  
8.17  1/4波长堆栈 162 b > D  
8.18  陷波滤波器 163 fmW{c mr|  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Jy(G A  
8.20  褶皱 165 yx]9rD1cz  
8.21  消偏振分光器1 169 YlrN^rO  
8.22  消偏振分光器2 171 ZwUBeyxS=c  
8.23  消偏振立体分光器 172 jYp!?%!  
8.24  消偏振截止滤光片 173 i7#4&r  
8.25  立体偏振分束器1 174 11oNlgY&  
8.26  立方偏振分束器2 177  L8`v  
8.27  相位延迟器 178 0ID9=:J  
8.28  红外截止器 179 =~;~hZj  
8.29  21层长波带通滤波器 180 0/GBs~P  
8.30  49层长波带通滤波器 181 RcYUO*  
8.31  55层短波带通滤波器 182 \Bo$ 3  
8.32  47 红外截止器 183 H!IVbL`a{  
8.33  宽带通滤波器 184 pAy4%|(  
8.34  诱导透射滤波器 186 `p()ko  
8.35  诱导透射滤波器2 188 u9"=t  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ZO<,V  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 OFtaOjsyUa  
8.35  增益平坦滤波器 193 &E&~9"^hQL  
8.38  啁啾反射镜 1 196 gzs \C{4D  
8.39  啁啾反射镜2 198 "6jt$-?  
8.40  啁啾反射镜3 199 3x;UAi+&  
8.41  带保护层的铝膜层 200 KfiSQ!{  
8.42  增加铝反射率膜 201 &>\;4E.O5  
8.43  参考文献 202 ;\pVc)\4"  
9  多层膜 204 l2Sar1~1  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 '-v:"%s|  
9.2  内部透过率 204 (h0@;@@7hW  
9.3 内部透射率数据 205 R/~!km  
9.4  实例 206 ^2k jO/  
9.5  实例2 210 gy.UTAs N  
9.6  圆锥和带宽计算 212 GB$`b'x@S  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 [D~]  
10  光学薄膜的颜色 216 <wS J K  
10.1  导言 216 Ih.+-!w  
10.2  色彩 216 0"R>:f}  
10.3  主波长和纯度 220 B'yjMY![  
10.4  色相和纯度 221 M {jXo%C  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 M_E,pg=rWI  
10.6 色差 226 :+"4_f0  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 a&%aads  
10.8  颜色渲染指数 234 ia5%  
10.9  色差计算 235 E+/Nicn=  
10.10  参考文献 236 j=O+U _w  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 uY5|Nmiu  
11.1  短脉冲 238 bN_e~z  
11.2  群速度 239 #Pg#\v|7#>  
11.3  群速度色散 241 % G= cKM  
11.4  啁啾(chirped) 245 6\7c:  
11.5  光学薄膜—相变 245 FsED9+/m  
11.6  群延迟和延迟色散 246 PLz{EQ[cV  
11.7  色度色散 246 hQ|mow@Zmz  
11.8  色散补偿 249 Ic0Sb7c  
11.9  空间光线偏移 256 %tVU Rj  
11.10  参考文献 258 + +L7*1t  
12  公差与误差 260 "&={E{pQ  
12.1  蒙特卡罗模型 260 DSLX/u o1  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 =p;cJ%#2]'  
12.2.1  误差工具 267 |Y!^E % *  
12.2.2  灵敏度工具 271 d ~ M;  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 )]fiyXA  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 77M!2S_E  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 GKoYT{6  
12.3  参考文献 276 +^BTh rB  
13  Runsheet 与Simulator 277 8w:ay,=  
13.1  原理介绍 277 ~<_#%R!  
13.2  截止滤光片设计 277 cP?GRMX@}  
14  光学常数提取 289 4np2I~ !  
14.1  介绍 289 U,U=udsi  
14.2  电介质薄膜 289 ?2"g*Bak  
14.3  n 和k 的提取工具 295 4#(/{6J  
14.4  基底的参数提取 302 D|5mNX %e  
14.5  金属的参数提取 306 AZ!/{1Az  
14.6  不正确的模型 306 uj3`M9  
14.7  参考文献 311 3 P0z$jh"H  
15  反演工程 313 I">">  
15.1  随机性和系统性 313 WXxnOLJr  
15.2  常见的系统性问题 314 r-T1^u  
15.3  单层膜 314 @{@b^tk  
15.4  多层膜 314 +'m9b7+v  
15.5  含义 319 }uDpf0;^  
15.6  反演工程实例 319 U '{PpZ  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 j& 7>ph  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 ~3s ?.[}d  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 sK%b16#  
16.1  光学性质的热致偏移 329 Vs"b  
16.2  应力工具 335 HB )+.e  
16.3  均匀性误差 339 ]C^ #)7  
16.3.1  圆锥工具 339 ' wl})  
16.3.2  波前问题 341 %i\rw*f  
16.4  参考文献 343 M %,\2!$  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 jsAx;Z:QT  
17.1  引言 345 uRy}HLZ"  
17.2  操作数 345 diXWm-ZKL  
18  如何在Function中编写脚本 351 B*G]Dr)e  
18.1  简介 351 b,Eq-Z;  
18.2  什么是脚本? 351 Qy9_tvq X  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 _gVihu  
18.4  基础 352 l=xG<)Okb  
18.4.1  Classes(类别) 352 6?,qysm06  
18.4.2  对象 352 o135Xh$_>'  
18.4.3  信息(Messages) 352 P'h39XoZ  
18.4.4  属性 352 |4DN2P  
18.4.5  方法 353 B6F!"  
18.4.6  变量声明 353 UovN"8W+  
18.5  创建对象 354 }h1BAKg  
18.5.1  创建对象函数 355 \L>XF'o  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 CY?J$sN  
18.5.3 丢弃对象 356 S(3h{Y"#  
18.5.4  总结 356 ubB1a_7  
18.6  脚本中的表格 357 k:n{AoUc  
18.6.1  方法1 357 i?B<&'G  
18.6.2  方法2 357 1R_@C.I  
18.7 2D Plots in Scripts 358 i3 XtrP""  
18.8 3D Plots in Scripts 359 Dh^l :q+c  
18.9  注释 360 6c+29@  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 FTUfJIVN(  
18.11  一个更高级的脚本 362 r~=+>, _  
18.12  <esc>键 364 G>pedE\  
18.13 包含文件 365 ?n<F?~  
18.14  脚本被优化调用 366 0VvY(j:hp  
18.15  脚本中的对话框 368 D;JZ0."  
18.15.1  介绍 368 MY{Kq;FvRP  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 y a$yRsd`  
18.15.3  输入框函数 370 \@PMj"p|:  
18.15.4  自定义对话框 371 JAHmmNlW  
18.15.5  对话框编辑器 371 Q=!QCDO(  
18.15.6  控制对话框 377 #>_t[9;  
18.15.7  更高级的对话框 380 !ldE9 .  
18.16 Types语句 384 n%h00 9 -5  
18.17 打开文件 385 >W+,(kAS  
18.18 Bags 387 VXCB.C"  
18.13  进一步研究 388 V@+sNM  
19  vStack 389 oBmv^=cH  
19.1  vStack基本原理 389 @j\;9>I/  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 }vZfp5Y  
19.3  五棱镜 393 I!F&8B+|  
19.4 光束距离 396 R;AcAJ;  
19.5 误差 399 C=;}7g  
19.6  二向分色棱镜 399 %^W(sB$b  
19.7  偏振泄漏 404 <.g)?nj1  
19.8  波前误差—相位 405 \Uh/(q7  
19.9  其它计算参数 405 s j-oaWt  
20  报表生成器 406 8Ud.t =2  
20.1  入门 406 ,h5 FX^  
20.2  指令(Instructions) 406 Wv3p!zW3I  
20.3  页面布局指令 406 [*K9V/  
20.4  常见的参数图和三维图 407 $lB!Q8a$  
20.5  表格中的常见参数 408 NjS<DzKhK  
20.6  迭代指令 408 #U'}g *  
20.7  报表模版 408 CWZv/>,%  
20.8  开始设计一个报表模版 409 (xfy?N  
21  一个新的project 413 \B 8j9  
21.1  创建一个新Job 414 `?&C5*P  
21.2  默认设计 415 %eF=;q  
21.3  薄膜设计 416 O|m-[]  
21.4  误差的灵敏度计算 420 p8]XNe  
21.5  显色指数计算 422 11S{XbU  
21.6  电场分布 424 R(> oyxA[F  
后记 426 |@rf#,hTDp  
3#fg 2  
U&^(%W#  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 &B8x0 yi  
(CDh,ZN;|  
《Essential Macleod中文手册》
~A/vP-  
Yk{4 3yw  
目  录 }K.)yv n  
H5vg s2R  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 H(?+-72KX  
第1章 介绍 ..........................................................1 %7[d5[U~ZA  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 1h]nE/T.O  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 9u^za!pE  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 3kr. 'O  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 i @M^l`w  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 }uD*\.  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 ME*zMLoF+  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 D(_j;?i  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 W)2k>cS  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 laCVj6Rk  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 ?MRT  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 ?S)Pv53>}  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 nFwg pT  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 w$qdV,s 7  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 Fyz1LOH[X  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 HlxgJw~<  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 7 A{R0@  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 gf;B&MM6  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 Ta8lc %0w3  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 06af{FXsGb  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ,[|i^  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 z9Y}[ pN  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 O8*yho  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Q:b>1  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 R,hwn2@B  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 rgv$MnG  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 RLh%Y>w  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 b5 AP{ #  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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