线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:922
时间地点 is64)2F](  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 U`:lAG  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 _F! :(@}  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 mi*:S%;h  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 Y"r3i]  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
=;kRk .qzy  
特邀专家介绍 *oKgP8CF  
EPQ&?[6  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 5dbX%e_OP  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 ;|Y2r^c  
课程概要 Ar\IZ_Q  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 I|GV :D  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 c`rfKr&z  
课程大纲 { +i;e]c  
1. Essential Macleod软件介绍 s4^[3|Zrr0  
1.1 介绍软件 f<Va<TL6-  
1.2 创建一个简单的设计 ['Hp?Q|k  
1.3 绘图和制表来表示性能 Y+|L 3'H  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 -HO6K) ur  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) ?,.HA@T%  
1.6 特定设计的公式技术 40`9t Xn  
1.7 交互式绘图 x& mz-  
2. 光学薄膜理论基础 mABwM$_  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 B7NmET4  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 iuvtj]/  
3. 材料管理 XHU<4l:kl  
3.1 材料模型 l|4xKBCV]  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 z:0-aDe M  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 T2c_vY   
3.4 基板光学常数的提取 iKP\/LR<n  
4. 光学薄膜设计优化方法 @h,h=X  
4.1 参考波长与g (:tTx>V#  
4.2 四分之一规则 WM~J,`]J  
4.3 导纳与导纳图 sa\|"IkD2  
4.4 斜入射光学导纳 yHa:?u6  
4.5 光学薄膜设计的进展 V\e13cL]  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 @vVRF Z  
4.6.1 优化目标设置 ?yK%]1O  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) fRca"vV  
4.6.3 膜层锁定和链接 j TB<E=WC  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 TWl(\<&+)  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 eSQzjR*  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 vV$hGS(f~  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 !W+p<F1i  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 N]O{T_5-0  
5.5 如何在Function中编写脚本 N|j;=y!  
6. 光学薄膜系统案例 %zIl_/s  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 X#f+m) S  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 /)eNx  
6.3 Stack应用范例说明 =:ya;k&  
7. 薄膜性能分析 J?|K#<%  
7.1 电场分布 Ty e$na&$}  
7.2 公差与灵敏度分析 'p|Iwtjn>  
7.3 反演工程 V PLCic,T  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 .O@q5G  
8. 真空技术 gKm@B{rC  
8.1 常用真空泵介绍  YiY&; )w  
8.2 真空密封和检漏 mTI\,x%<OC  
9. 薄膜制备技术 YokZar2a0  
9.1 常见薄膜制备技术 auyKLT3C  
10. 薄膜制备工艺 VDb,$i.Z0  
10.1 薄膜制备工艺因素 O=!)})YG  
10.2 薄膜均匀性修正技术 =0!\F~  
10.3 光学薄膜监控技术 3& fIO  
11. 激光薄膜 {m*V/tX  
11.1 薄膜的损伤问题  01UR  
11.2 激光薄膜的制备流程 @?^LxqAWA  
11.3 激光薄膜的制备技术 d-#u/{jG)  
12. 光学薄膜特性测量 ]Lb?#S  
12.1 薄膜光谱测量 Wzf1-0t  
12.2 薄膜光学常数测量 9wDBC~.  
12.3 薄膜应力测量 +cE tm  
12.4 薄膜损伤测量 mv9E{m  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 GP7) m  
U`8^N.Snrp  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
[iO$ c]!H  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
9wYtOQ{g  
内容简介 Vm,f3~  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。  7KSGG1ts  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 8KL_PwRX_f  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ;ow~vO,x  
,SE$Rh  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
H2FFw-xW  
目录 _:fO)gs|1  
Preface 1 :+%h  
内容简介 2 _ \y0 mc4  
目录 i y T1Qep  
1  引言 1 w?$u!X  
2  光学薄膜基础 2 6E\\`FE4y  
2.1  一般规则 2 M~{P',l*  
2.2  正交入射规则 3 M_e$l`"G  
2.3  斜入射规则 6 :(?hLH.W[  
2.4  精确计算 7 w;SH>Ax:  
2.5  相干性 8 "<jEI /  
2.6 参考文献 10 r~D~7MNl  
3  Essential Macleod的快速预览 10 ,p/b$d1p  
4  Essential Macleod的特点 32 l SVW}t  
4.1  容量和局限性 33 S'-`\%@7  
4.2  程序在哪里? 33 rM >V=|9,  
4.3  数据文件 35 vX0I^ 8.  
4.4  设计规则 35 j~L1~@  
4.5  材料数据库和资料库 37 #Wc #fP  
4.5.1材料损失 38 >%p m "+h{  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 c] >&6-;rf  
4.5.2 材料库 41 ;iC'{S  
4.5.3导出材料数据 43 ID)gq_k[8,  
4.6  常用单位 43 &fd4IO/O  
4.7  插值和外推法 46 6nWx>R<  
4.8  材料数据的平滑 50 b\0Q:  
4.9 更多光学常数模型 54 J"2ODB5"  
4.10  文档的一般编辑规则 55  n wZr3r  
4.11 撤销和重做 56 <Ec)m69P  
4.12  设计文档 57 C"Y]W-Mgg  
4.10.1  公式 58 cVHE}0Xd(  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 M}oFn}-T9a  
4.10.3  沉积密度 59 2bn@:71`  
4.10.4 平行和楔形介质 60 UK <DcM~n  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 IL6f~!  
4.10.4  性能 61 ME10dr  
4.10.5  保存设计和性能 64 ox=7N{+`J  
4.10.6  默认设计 64 e9_O/iN  
4.11  图表 64 lKhh=Pc2  
4.11.1  合并曲线图 67 ~j&:)a'^  
4.11.2  自适应绘制 68 \Af|$9boHz  
4.11.3  动态绘图 68 %Rsf6rJ  
4.11.4  3D绘图 69 $-9@/%Y  
4.12  导入和导出 73 -z 5k4Y  
4.12.1  剪贴板 73 nM.?Q}yO~  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 yDyeP{  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 C94UF7al  
4.13  背景 77 eZod}~J8  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 dbUZGn~  
4.15  生成Rugate 84 FeeWZe0i  
4.16  参考文献 91 v{{2<,l  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 @Rb1)$~#  
5.1  Jobs 92 s^?sJUj  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 >eTgP._  
5.3  输入材料 94 q>:&xR"ra  
5.4  设计数据文件夹 95 7CL@i L Tq  
5.5  默认设计 95 HJ1\FO9\  
6  细化和合成 97 w$;*~Qc  
6.1  优化介绍 97 aLk2#1$g  
6.2  细化 (Refinement) 98 (DMnwqr  
6.3  合成 (Synthesis) 100 6BN(^y#-X  
6.4  目标和评价函数 101 n25tr'=  
6.4.1  目标输入 102 -%V-'X5  
6.4.2  目标 103 OZ14-}Lr5  
6.4.3  特殊的评价函数 104 *;yMD-=  
6.5  层锁定和连接 104 jKV?!~/F  
6.6  细化技术 104 $~@096`QL<  
6.6.1  单纯形 105 7RFkHME  
6.6.1.1 单纯形参数 106 V1#aDfiW  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 6ym)F!t8l  
6.6.2.1 Optimac参数 108 d<'Yt|zt  
6.6.3  模拟退火算法 109 MirBJL  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 ZUJOBjb` K  
6.6.4  共轭梯度 111 UG'U D"  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 H'\EA(v+  
6.6.5  拟牛顿法 112 LP-Q'vb<=  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 <.(/#=2  
6.6.6  针合成 113 Y4qyy\}  
6.6.6.1 针合成参数 114 JIKxY$GS  
6.6.7 差分进化 114 Bt7v[Ot   
6.6.8非局部细化 115 'CO[s.03  
6.6.8.1非局部细化参数 115 !K~$ -jlT  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 ^r :A^q  
6.7.1  细化 116 ;GT)sI   
6.7.2  合成 117 7-IeJ6,D  
6.8  参考文献 117 yi;t  
7  导纳图及其他工具 118 LbbQ3$@ WD  
7.1  简介 118 D=sc41]  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 Z:$b)+2:\  
7.2.1  四分之一波长规则 119 9x{prCr  
7.2.2  导纳图 120 +vSE}  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 .) ;:K  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 A y[L{!)2{  
7.5  斜入射导纳图 141 T|2%b*/  
7.6  对称周期 141 _:p_#3s$  
7.7  参考文献 142 j4r,_lH^r  
8  典型的镀膜实例 143 Lbp6I0&n  
8.1  单层抗反射薄膜 145 z ;Nk& <?  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 9ufs6 z  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Z2jb>%  
8.4  W-膜层 148 [gp:nxyfQm  
8.5  V-膜层 149 TPFmSDq  
8.6  V-膜层高折射基底 150 /(pChY>  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 BIf].RY  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 slfVQ809  
8.9  四层抗反射薄膜 153 \o)4m[oF  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 s;WCz  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 2vQ^519  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 dKTAc":-}  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 9,eR=M]+:  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 !QS<;)N@  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 N4jLbnA  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 'k Z1&_{  
8.17  1/4波长堆栈 162 /-4B)mL  
8.18  陷波滤波器 163 J4#]8!A  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 S5a<L_  
8.20  褶皱 165 + qqN  
8.21  消偏振分光器1 169 : X|7l?{xW  
8.22  消偏振分光器2 171 iZ\z!tHR  
8.23  消偏振立体分光器 172  Bt3=/<.\  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ta., 4R&K  
8.25  立体偏振分束器1 174 M)^9e?  
8.26  立方偏振分束器2 177 1u+ (rVQN  
8.27  相位延迟器 178 H5 hUY'O  
8.28  红外截止器 179 %pQ o%<d  
8.29  21层长波带通滤波器 180 gjLgeyyWC  
8.30  49层长波带通滤波器 181 @0'|Uygn  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ACltV"dB^  
8.32  47 红外截止器 183 <j3HT"^[D  
8.33  宽带通滤波器 184 C P{h+yCj  
8.34  诱导透射滤波器 186 )1 j2  
8.35  诱导透射滤波器2 188 Asu"#sd  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 hAyPaS#  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 <t37DnCgI  
8.35  增益平坦滤波器 193 uwA3!5  
8.38  啁啾反射镜 1 196 *G41%uz  
8.39  啁啾反射镜2 198 ZS_f',kE  
8.40  啁啾反射镜3 199 Uk\U*\.  
8.41  带保护层的铝膜层 200 8:fiO|~%  
8.42  增加铝反射率膜 201 SH|$Dg  
8.43  参考文献 202 UOOme)\>  
9  多层膜 204 zAUfd[g  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 pk1M.+  
9.2  内部透过率 204 0+pJv0u  
9.3 内部透射率数据 205 jMbK7 1K%  
9.4  实例 206 V1A3l{>L  
9.5  实例2 210 Ngnjr7Q={T  
9.6  圆锥和带宽计算 212 =LnAMl#9  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 rSn7(3e4^  
10  光学薄膜的颜色 216 +KNr1rG  
10.1  导言 216 cyNLeg+O*  
10.2  色彩 216 Y&:i^k  
10.3  主波长和纯度 220 'VEpVo/  
10.4  色相和纯度 221 `Cxe`w4  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 6u7wfAf  
10.6 色差 226 '7s!N F2  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 q|J]  
10.8  颜色渲染指数 234 _y UFe&  
10.9  色差计算 235 P7-3Vf_L  
10.10  参考文献 236 >`'9V| 1  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 Kx0dOkE  
11.1  短脉冲 238 .vMi <U;  
11.2  群速度 239 ]EQ/*ct  
11.3  群速度色散 241 T 1=M6iJ  
11.4  啁啾(chirped) 245 ,qB081hPG  
11.5  光学薄膜—相变 245 oVW?d]R  
11.6  群延迟和延迟色散 246 lV'83  
11.7  色度色散 246 2wQ CQ"  
11.8  色散补偿 249 PK" C+o;:  
11.9  空间光线偏移 256 to7)gOX(  
11.10  参考文献 258 Xk'.t|  
12  公差与误差 260 sSUd;BYf  
12.1  蒙特卡罗模型 260 W:\VFP f2  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 mN02T@R-  
12.2.1  误差工具 267 7ZZt|bl  
12.2.2  灵敏度工具 271 fZ$2bI=  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 t/|^Nt@XT  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 's<}@-]  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 <lR8MqjM_  
12.3  参考文献 276 ;rgsPVbVf  
13  Runsheet 与Simulator 277 YP l{5 =  
13.1  原理介绍 277 gp=0;#4 4  
13.2  截止滤光片设计 277 ~55>uw<  
14  光学常数提取 289 X;h~s:LM  
14.1  介绍 289 Xl;N= fc  
14.2  电介质薄膜 289 ZV;yXLx|  
14.3  n 和k 的提取工具 295 x5ia<V>=d  
14.4  基底的参数提取 302 UlrY  
14.5  金属的参数提取 306 l<0V0R(  
14.6  不正确的模型 306 ]mSVjF3l  
14.7  参考文献 311 iQF93:#  
15  反演工程 313 X!Q"p$D4(  
15.1  随机性和系统性 313 7Y/_/t~Y  
15.2  常见的系统性问题 314 f$|v  
15.3  单层膜 314 >nX'RE|F  
15.4  多层膜 314 V EzIWNV  
15.5  含义 319 h*LIS@&9C5  
15.6  反演工程实例 319 EX_& wep@1  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 WlUE&=|Oz2  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 |UG)*t/  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 yrw!b\  
16.1  光学性质的热致偏移 329 Jp- hFD  
16.2  应力工具 335 Vs >1%$If  
16.3  均匀性误差 339 &3<]FK  
16.3.1  圆锥工具 339 /NZ R|  
16.3.2  波前问题 341 x>cu<,e$d\  
16.4  参考文献 343 sC>8[Jatd  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 O);V{1P  
17.1  引言 345 *L=CJg  
17.2  操作数 345 L6T_&AiL$  
18  如何在Function中编写脚本 351 * 7CI q  
18.1  简介 351 $3>|R lxYA  
18.2  什么是脚本? 351 SPBXI[[-  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 Z_%>yqDC  
18.4  基础 352 /-T%yuU  
18.4.1  Classes(类别) 352 P+[R0QS  
18.4.2  对象 352 U/>5C:  
18.4.3  信息(Messages) 352 7DD ot_qb  
18.4.4  属性 352 945psG@|  
18.4.5  方法 353 JmkJ^-A 6  
18.4.6  变量声明 353 [{YV<kN  
18.5  创建对象 354 9E5B.qlw$l  
18.5.1  创建对象函数 355 2bqwnRT}  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 Ae1},2py  
18.5.3 丢弃对象 356 OX91b<A  
18.5.4  总结 356 95}"AIi  
18.6  脚本中的表格 357 /9sUp} *  
18.6.1  方法1 357 ,M9'S;&^  
18.6.2  方法2 357 &3rh{"^9  
18.7 2D Plots in Scripts 358 Ex<loVIrP$  
18.8 3D Plots in Scripts 359 N'4*L=Ut  
18.9  注释 360 q+<TD#xoL  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 &f[[@EF7  
18.11  一个更高级的脚本 362 ^-DK<jZ^  
18.12  <esc>键 364 6`'^$wKs  
18.13 包含文件 365 bkb}M)C  
18.14  脚本被优化调用 366 rS=6d6@  
18.15  脚本中的对话框 368 dpy,;nqzeN  
18.15.1  介绍 368 gbvBgOp  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 =&vV$UtV  
18.15.3  输入框函数 370 [* Lh4K  
18.15.4  自定义对话框 371 qFay]V(O|  
18.15.5  对话框编辑器 371 %lujme  
18.15.6  控制对话框 377 x[]n\\a?  
18.15.7  更高级的对话框 380 #p^D([k \  
18.16 Types语句 384 Q?~l=}2  
18.17 打开文件 385 {2!.3<#  
18.18 Bags 387 nv|&|6?`oK  
18.13  进一步研究 388 #]9yzyb_y  
19  vStack 389 6uDNqq  
19.1  vStack基本原理 389 g%K3ah v  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 t JJaIb6Xj  
19.3  五棱镜 393 {9(N?\S1`a  
19.4 光束距离 396 wEdXaOEB5  
19.5 误差 399 _]B'C  
19.6  二向分色棱镜 399 x,n;GR  
19.7  偏振泄漏 404 cEe>Lyt  
19.8  波前误差—相位 405 (u *-(  
19.9  其它计算参数 405 &TKB8vx=#  
20  报表生成器 406 W )\~T:Kn  
20.1  入门 406 .2`S07Z  
20.2  指令(Instructions) 406 Jg@PhN<9  
20.3  页面布局指令 406 <=WQs2  
20.4  常见的参数图和三维图 407 7uYJ _R  
20.5  表格中的常见参数 408 Hg<]5  
20.6  迭代指令 408 i),W1<A1  
20.7  报表模版 408 *edB3!!  
20.8  开始设计一个报表模版 409 ^hU7QxW  
21  一个新的project 413 v=!]t=P)t  
21.1  创建一个新Job 414 k5((@[  
21.2  默认设计 415 b?y3m +V`  
21.3  薄膜设计 416  E;k'bz  
21.4  误差的灵敏度计算 420 Iu=iC.50}  
21.5  显色指数计算 422 1%H]2@  
21.6  电场分布 424 `w2hJP  
后记 426 -FwOX~s/'  
O0e6I&u :  
 IS!sJc  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 TeQpmhN  
7Y:1ji0l  
《Essential Macleod中文手册》
(Ori].{C.J  
_E3*;  
目  录 (,[Oy6o  
3#W>  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 |*Hw6m  
第1章 介绍 ..........................................................1 f Vw+8[d0  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 K^EW*6vB8O  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 P/4]x@{ih  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 5Osx__6$t  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 ]JbGP{UiN  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 .#@*)1A#t  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 |.X?IJ`  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 8ex{N3  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 6Wl+5 a6V  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 iCnKQG  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116  LGV"WE  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 V|)3l7IC<  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 l@%MS\{  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 -b8Vz}Y  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 ]:d`=V\&N  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 m!V ?xGKJ  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 o/ ozX4C  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Jc95Ki1X  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 4u0=/pfi[  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 Ru `&>E  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 -)PQ&[  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 IOtSAf  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 rLtB^?A z  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 9t9x&.A  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 N[:;f^bH49  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 $C#G8Ck,  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 4 cDjf~n  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 N*y09?/h  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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