线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:698
时间地点 ~uUN\qx52  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 _Hp[}sv4)  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 Y8s.Q  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 -wdd'G  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 $sfDtnRy  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
'zUWO_(  
特邀专家介绍 :(?F(Q^  
ge[hAI2I  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 h!zev~u1)`  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 CAJ]@P#Xj+  
课程概要 rFJPeK7  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 VfFXH,j  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 G+S MH`h  
课程大纲 O8mmS!  
1. Essential Macleod软件介绍 >Ohh) $  
1.1 介绍软件 z,f  
1.2 创建一个简单的设计 1SwKd*aRR?  
1.3 绘图和制表来表示性能 a3wk#mH  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 JtbwY@R  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) ^sP-6 ^  
1.6 特定设计的公式技术 cH7Gb|,M  
1.7 交互式绘图 YqEB%Y~N+  
2. 光学薄膜理论基础 2 {I(A2  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 8-_\Q2vG  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 sI OT6L^7  
3. 材料管理 |z 8Wh  
3.1 材料模型 4~DW7 (  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 P2t9RCH  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 <l`xP)] X  
3.4 基板光学常数的提取 Z'cL"n\9R]  
4. 光学薄膜设计优化方法 N ,0&xg3  
4.1 参考波长与g >s;>"]  
4.2 四分之一规则 bMvHAtp  
4.3 导纳与导纳图 R[bI4|t  
4.4 斜入射光学导纳 -"} mmTa*<  
4.5 光学薄膜设计的进展 6qF9+r&e ?  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ;3P~eeQR  
4.6.1 优化目标设置 Pe`eF(J  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) H3Zs m)+:  
4.6.3 膜层锁定和链接 H\^zp5/  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 L Rn)  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 6%\&m|S  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 VQ(l=k:}2  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 1R"?X'w  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 @ rG=>??k  
5.5 如何在Function中编写脚本 '>U&B}  
6. 光学薄膜系统案例 {~0r3N4Zl  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 Q G8X{'  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 Pq<]`9/w^w  
6.3 Stack应用范例说明 #bZT&YE^  
7. 薄膜性能分析 7|Bg--G1  
7.1 电场分布 KwxO%/-}S  
7.2 公差与灵敏度分析 Y$K[@_dv=  
7.3 反演工程 )oCb9K:km  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 ]dU/;8/%  
8. 真空技术 tEl_a~s*3?  
8.1 常用真空泵介绍 Qs #7<NQ  
8.2 真空密封和检漏 EpdSsfDP  
9. 薄膜制备技术 '^ob3N/Y [  
9.1 常见薄膜制备技术 I?~iEO\nh  
10. 薄膜制备工艺 t` f.HJe  
10.1 薄膜制备工艺因素 Bf+7;4-  
10.2 薄膜均匀性修正技术 syB.Z-Cpd  
10.3 光学薄膜监控技术 /^9KZj  
11. 激光薄膜 sF!nSr  
11.1 薄膜的损伤问题 .j l|? o  
11.2 激光薄膜的制备流程 T^1]|P  
11.3 激光薄膜的制备技术 *L+)R*|:&  
12. 光学薄膜特性测量 n~C!PXE  
12.1 薄膜光谱测量 #Ks2a):8  
12.2 薄膜光学常数测量 mZ! 1Vh  
12.3 薄膜应力测量 KL^hYjC  
12.4 薄膜损伤测量 R\ZyS )~l  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 72akOx   
{OGv1\ol&  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 )zYm]\@  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 2nkUvb%=  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Ce-D^9kC  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 (I0QwB  
/j(3 ~%]o4  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
p0bMgP  
目录 xa]e9u%  
Preface 1 $5v:z   
内容简介 2 P(Wr[lH\y  
目录 i /^^wHW:  
1  引言 1 i-E/#zni  
2  光学薄膜基础 2 r?:xD(}Q  
2.1  一般规则 2  Unc_e  
2.2  正交入射规则 3 _=ziw|zI  
2.3  斜入射规则 6 DB>.Uf"  
2.4  精确计算 7 /+g)J0u  
2.5  相干性 8 KXvBJA$  
2.6 参考文献 10 >xK!J?!K  
3  Essential Macleod的快速预览 10 SM1[)jZ-  
4  Essential Macleod的特点 32 +L>?kr[i[  
4.1  容量和局限性 33 h&O8e;S#  
4.2  程序在哪里? 33 SQ0t28N3h  
4.3  数据文件 35 "79"SSfOc  
4.4  设计规则 35 MzX4/*ba  
4.5  材料数据库和资料库 37 } Rs@  
4.5.1材料损失 38 j c-$l  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 b@?pofZ`k  
4.5.2 材料库 41 d@#wK~I  
4.5.3导出材料数据 43 b 9cY  
4.6  常用单位 43 MbJ|6g99  
4.7  插值和外推法 46 Z`{ZV5  
4.8  材料数据的平滑 50 X|wg7>kh*`  
4.9 更多光学常数模型 54 o|O|e9m(  
4.10  文档的一般编辑规则 55 $Q'S8TU  
4.11 撤销和重做 56 N&K`bmtD  
4.12  设计文档 57 Trz41g  
4.10.1  公式 58 ~ u',Way  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 vpL3XYs`  
4.10.3  沉积密度 59 %IhUQ6  
4.10.4 平行和楔形介质 60 8DO3L "  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 s?pd&_kOv3  
4.10.4  性能 61 K%iA-h  
4.10.5  保存设计和性能 64  HLsG<#  
4.10.6  默认设计 64 =&YhA}l\O  
4.11  图表 64 D g~L"  
4.11.1  合并曲线图 67 QxS=W2iN  
4.11.2  自适应绘制 68 71(C@/J  
4.11.3  动态绘图 68 =}^J6+TVL  
4.11.4  3D绘图 69 w/UZ6fu  
4.12  导入和导出 73 w(-h!d51+  
4.12.1  剪贴板 73 {j!+\neL  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 3sF^6<E  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 o b,%); m  
4.13  背景 77 ?X5Y8n]y\h  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 M# a1ev  
4.15  生成Rugate 84 >Ndck2@  
4.16  参考文献 91 nlsif  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 6L4<c+v_  
5.1  Jobs 92 unZYFA}(  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 8{ooLdpX7  
5.3  输入材料 94 K|^'`FpPO  
5.4  设计数据文件夹 95 f tE2@}  
5.5  默认设计 95 =/zb$d cz  
6  细化和合成 97 N:nhS3N<L  
6.1  优化介绍 97 "2 "gTS  
6.2  细化 (Refinement) 98 /ij)[WK@  
6.3  合成 (Synthesis) 100 `%oJa`  
6.4  目标和评价函数 101 #'lqE)T  
6.4.1  目标输入 102 h#o?O k  
6.4.2  目标 103 Li8$Rb~q  
6.4.3  特殊的评价函数 104 h =E)5&Z  
6.5  层锁定和连接 104 }?KfL$@$  
6.6  细化技术 104 %S9YjMR@  
6.6.1  单纯形 105 wu53e= /  
6.6.1.1 单纯形参数 106 Oiz@tEp=_  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 H68~5lJY^]  
6.6.2.1 Optimac参数 108 o{r<=X ysM  
6.6.3  模拟退火算法 109 |'ML )`c[  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 5N.-m;s  
6.6.4  共轭梯度 111 SNl% ?j| f  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 HJ^SqSm  
6.6.5  拟牛顿法 112 TP R$oO2  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ]~!?(d!J/  
6.6.6  针合成 113 {Z!x]}{M  
6.6.6.1 针合成参数 114 ?=#vp /  
6.6.7 差分进化 114 s. ]<r5v7  
6.6.8非局部细化 115 DITo.PU  
6.6.8.1非局部细化参数 115 3 jR I@  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 S;L=W9=wby  
6.7.1  细化 116 *JT,]7>  
6.7.2  合成 117 r=74 'g  
6.8  参考文献 117 Md[M}d8  
7  导纳图及其他工具 118 ^T&@(|o  
7.1  简介 118 hw9qnSeRy  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 }fT5(+ Wo  
7.2.1  四分之一波长规则 119 i&_&4  
7.2.2  导纳图 120 INjr$'*  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 vnr{Ekg  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 {Uj-x -  
7.5  斜入射导纳图 141 Vz @2_k   
7.6  对称周期 141 $LkTu  
7.7  参考文献 142 lC8Z@wkjO  
8  典型的镀膜实例 143 vOQ 3A%/  
8.1  单层抗反射薄膜 145 68 \73L=  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 8Z[YcLy"({  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 [@;q#.}Z  
8.4  W-膜层 148 l.nd Wv  
8.5  V-膜层 149 ;vuqI5k  
8.6  V-膜层高折射基底 150 *l{GD1ZDk  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 w _ONy9  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 HzQ Y\Y6  
8.9  四层抗反射薄膜 153 0ub0 [A  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 {'@`: p&3r  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155  Qo$j'|lD  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 Mv?$zV"`#  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 D`NPU  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 +{h.nqdAE  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 MP_LdJM1E  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 +S6(Fvp  
8.17  1/4波长堆栈 162 -~] q?k?  
8.18  陷波滤波器 163 cKED RX3  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 *YO^+]nmY  
8.20  褶皱 165 a${<~M hm  
8.21  消偏振分光器1 169 slTE.  
8.22  消偏振分光器2 171 e%_J O7  
8.23  消偏振立体分光器 172 YG_|L[/#  
8.24  消偏振截止滤光片 173 Ek6z[G` O  
8.25  立体偏振分束器1 174 hZ`<ID  
8.26  立方偏振分束器2 177 4H4ui&|7u6  
8.27  相位延迟器 178 ;_p$5GVR|  
8.28  红外截止器 179 Rl{e<>O\^  
8.29  21层长波带通滤波器 180 iz%wozf  
8.30  49层长波带通滤波器 181 <q.Q,_cW  
8.31  55层短波带通滤波器 182 / DG  t  
8.32  47 红外截止器 183 q>rDxmP<  
8.33  宽带通滤波器 184 L6x;<gj  
8.34  诱导透射滤波器 186 SxI-pH'  
8.35  诱导透射滤波器2 188 Zk] /m  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 l=PZlH y1G  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 /Os6i&;  
8.35  增益平坦滤波器 193 'W*:9wah  
8.38  啁啾反射镜 1 196 10d.&vNw  
8.39  啁啾反射镜2 198 dt||nF  
8.40  啁啾反射镜3 199 4G2iT+X-  
8.41  带保护层的铝膜层 200 %E2b{Y;  
8.42  增加铝反射率膜 201 ("KtJ  
8.43  参考文献 202 $uUR@l  
9  多层膜 204 2h:{6Gq8  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 Tx>V$+al  
9.2  内部透过率 204 IOT-R!.5V  
9.3 内部透射率数据 205 oJ?,X^~_  
9.4  实例 206 U8zCV*ag  
9.5  实例2 210 `0, G' F  
9.6  圆锥和带宽计算 212 es^@C9qt  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 cq0-D d9^&  
10  光学薄膜的颜色 216 |=js!R|  
10.1  导言 216 4<V}A j8l  
10.2  色彩 216 |Kb m74Z%  
10.3  主波长和纯度 220 ykYef  
10.4  色相和纯度 221 fE"-W{M  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Z 4QL&?U  
10.6 色差 226 1ixBwnp?  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 *#9?9SYSk  
10.8  颜色渲染指数 234 jwpahy;\WL  
10.9  色差计算 235 Du #>y!  
10.10  参考文献 236 .*edaDi  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 " GY3sam  
11.1  短脉冲 238 hdeI/4 B  
11.2  群速度 239 [}HS[($  
11.3  群速度色散 241 B$M4f7  
11.4  啁啾(chirped) 245 ~)pso7^:  
11.5  光学薄膜—相变 245 Ya4yW9*  
11.6  群延迟和延迟色散 246 3rBID  
11.7  色度色散 246 V :/v r  
11.8  色散补偿 249 [y~kF?a  
11.9  空间光线偏移 256 S!rVq,| d  
11.10  参考文献 258 p:V1VHT,  
12  公差与误差 260 (&SPMhs_|(  
12.1  蒙特卡罗模型 260 ~b @"ir+g4  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 w3;{z ,,T  
12.2.1  误差工具 267 _Q'f^Kj  
12.2.2  灵敏度工具 271 gO{$p q}  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 *zQhTYY  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 OLo?=1&;;  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 _6!iv  
12.3  参考文献 276 z\"9T?zoo  
13  Runsheet 与Simulator 277 rJh$>V+ '  
13.1  原理介绍 277 6"?#E[ #[  
13.2  截止滤光片设计 277 g/(BV7V  
14  光学常数提取 289 5=\^DeM@ H  
14.1  介绍 289 Vqcw2  
14.2  电介质薄膜 289 &kcmkRRG  
14.3  n 和k 的提取工具 295 :}2Tof2  
14.4  基底的参数提取 302 lL'Bop@  
14.5  金属的参数提取 306 >;lrH&  
14.6  不正确的模型 306 h^v#?3.@  
14.7  参考文献 311 Yxy!&hPLv:  
15  反演工程 313 HQwrb HS  
15.1  随机性和系统性 313 -oTdi0P  
15.2  常见的系统性问题 314 3xN_z?Rg  
15.3  单层膜 314 3-oKY*jO  
15.4  多层膜 314 4V;-*:  
15.5  含义 319 '14 86q@[$  
15.6  反演工程实例 319 <,Pl31g^  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 hYh~%^0dt  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 f:t j   
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 cY Qm8TR<  
16.1  光学性质的热致偏移 329 v_WF.sb~  
16.2  应力工具 335 EEMRy  
16.3  均匀性误差 339 ' 9%iHx-<  
16.3.1  圆锥工具 339 XD" 4t4~>  
16.3.2  波前问题 341 9R">l5u  
16.4  参考文献 343 =v0w\( ?N  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 D^a(|L3;  
17.1  引言 345 ~T/tk?:8Vi  
17.2  操作数 345 r&ys?@+G  
18  如何在Function中编写脚本 351 /EJy?TON*  
18.1  简介 351 < 2fy(9y  
18.2  什么是脚本? 351 kGL3*x  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 r i)`e  
18.4  基础 352 pFV~1W:  
18.4.1  Classes(类别) 352 2R ^6L@fw  
18.4.2  对象 352 -knP5"TB  
18.4.3  信息(Messages) 352 8Q"1I7U  
18.4.4  属性 352 UkXa mGoy3  
18.4.5  方法 353 11 k}Ly  
18.4.6  变量声明 353 +~* e B  
18.5  创建对象 354 F>5b[q6~4  
18.5.1  创建对象函数 355 Sn^M[}we  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 $Yp.BE<}  
18.5.3 丢弃对象 356 lIZ&' z  
18.5.4  总结 356 k2.k}?w!JO  
18.6  脚本中的表格 357 |WpJen*?Y  
18.6.1  方法1 357 X4!Jj *  
18.6.2  方法2 357 F\v~2/J5v  
18.7 2D Plots in Scripts 358 d'H gek{T  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ZD7qw*3+  
18.9  注释 360 ,b5vnW\  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 N7KG_o%  
18.11  一个更高级的脚本 362 ^.  
18.12  <esc>键 364 =q|//*t2  
18.13 包含文件 365 n ywC]T  
18.14  脚本被优化调用 366 ]rNxvFN*j  
18.15  脚本中的对话框 368 d{7)_Sbky  
18.15.1  介绍 368 UI'fzlB  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 th<>%e}5c  
18.15.3  输入框函数 370 UR S=1+  
18.15.4  自定义对话框 371 .,U4 ATO  
18.15.5  对话框编辑器 371 "!fwIEG  
18.15.6  控制对话框 377 8H T3C\$s  
18.15.7  更高级的对话框 380 A_e5Vb ,u.  
18.16 Types语句 384 aT+w6{%Z  
18.17 打开文件 385 D #7q3s  
18.18 Bags 387 bE@Eiac  
18.13  进一步研究 388 'NCx<0*  
19  vStack 389 ]=]MJ3_7  
19.1  vStack基本原理 389 Z6Z/Y()4Tl  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 B2KBJ4rI[1  
19.3  五棱镜 393 s?&S<k-=fr  
19.4 光束距离 396 P_H_\KsH*(  
19.5 误差 399 `B:hXeI  
19.6  二向分色棱镜 399 _meW9)B  
19.7  偏振泄漏 404 e.#,9  
19.8  波前误差—相位 405 ,7DyTeMpN  
19.9  其它计算参数 405 D~|q^Ms,%  
20  报表生成器 406 ?AQA>D#W  
20.1  入门 406 rY&#g%B6Fp  
20.2  指令(Instructions) 406 +(z[8BJl  
20.3  页面布局指令 406 "DH>4Q] d  
20.4  常见的参数图和三维图 407 *65~qAd  
20.5  表格中的常见参数 408 dWe%6s;   
20.6  迭代指令 408 &3x da1H  
20.7  报表模版 408 jxt]Z3a~0  
20.8  开始设计一个报表模版 409 VVpJ +  
21  一个新的project 413 @v!#_%J  
21.1  创建一个新Job 414 .2_xTt   
21.2  默认设计 415 MZh?MaBz06  
21.3  薄膜设计 416 y\[* mgl:  
21.4  误差的灵敏度计算 420 84i0h$ZZo  
21.5  显色指数计算 422 4L4u<  
21.6  电场分布 424 1CM 8P3  
后记 426 .cx9+;  
1jAuW~  
?'"BX  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 }<w9Jfr"X  
)]<^*b>  
《Essential Macleod中文手册》
:_nGh]%  
%K06owV(S)  
目  录 0]$-}AYM  
B(6*U~Kn%  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 g:U -kK!i  
第1章 介绍 ..........................................................1 SJ:Teab  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 Ex@}x#3  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 8DbP$Wwi  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 +qqCk  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 :S!!J*0  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 `0w!&  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 z(2G"}  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 l|vT[X/g  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 L'"c;FF02i  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 hhI*2|i"L  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 bki:u  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 E @Rb+8},"  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 %|f@WxNrU  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 i .eMrzJ|  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 E8<,j})*  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 /q7$"wP  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 xon^=Wo;  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 3/(eK%d4Xb  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 5$X 8|Ve  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 *A")A.R  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 zzh7 "M3Qn  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 nr( C*E  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 =)N6 R  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 9(_n8br1  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 ycvgF6Me<  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 [D?d~pB  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 V>UlL&V  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 jYBiC DD  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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