线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:638
时间地点 0}D-KvjyP  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 z6 a,0&;-L  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 ~f .y:Sbb  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 nfa_8  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 1]Lhk?4t  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
y,V6h*x2  
特邀专家介绍 |zh +  
M6&~LI.We=  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 re/xs~  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 .Nk}Z9L]k  
课程概要 },v&rkwR  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 G"{4'LlA  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 @]E]W#xAn  
课程大纲 D/cg7  
1. Essential Macleod软件介绍 dK`(BA{`3  
1.1 介绍软件 i`R(7Z  
1.2 创建一个简单的设计 N6WPTUQ1mF  
1.3 绘图和制表来表示性能 z>7=k`x`:  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 ]I8]mUiUH  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) WqR7uiCi  
1.6 特定设计的公式技术 WX ,p`>n  
1.7 交互式绘图 27Cz1[oX  
2. 光学薄膜理论基础 H<$pHyxU  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 e~3]/BL  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 `|&\e_"DE  
3. 材料管理 Qg[heND  
3.1 材料模型 > CH  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 1E8$% 6VV  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 t?KUK>>w  
3.4 基板光学常数的提取 QjI#Cs}w  
4. 光学薄膜设计优化方法 u2 Y N[|V  
4.1 参考波长与g o T:j:n  
4.2 四分之一规则 Wux0RF&  
4.3 导纳与导纳图 `(P "u  
4.4 斜入射光学导纳 )ni"qv~J  
4.5 光学薄膜设计的进展 o1Ne+Jt  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 PL9<*.U"=  
4.6.1 优化目标设置 K4_~ruhr  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) E N)YoVk  
4.6.3 膜层锁定和链接 NWw<B3aL  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 Ih(:HFRMq6  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 : 2_ 0L  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 Ob7zu"zr  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 _cR6ik zW(  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 #,t2*tM  
5.5 如何在Function中编写脚本 K1/ U (A  
6. 光学薄膜系统案例 L7X7Zt8%  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 BO[+E' 2  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 $I\))*a  
6.3 Stack应用范例说明 fDL3:%D  
7. 薄膜性能分析 9*BoYFw92*  
7.1 电场分布 jMTRcj];(  
7.2 公差与灵敏度分析  o1 jk=  
7.3 反演工程 b*cW<vX}~  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 )gr}<}X)B  
8. 真空技术 KrJ5"1=  
8.1 常用真空泵介绍 |Uc <;> l  
8.2 真空密封和检漏 \)FeuLGL9  
9. 薄膜制备技术 >s;oOo+5  
9.1 常见薄膜制备技术 4 U3C~J  
10. 薄膜制备工艺 )ZQHa7V  
10.1 薄膜制备工艺因素 JtSuD>H`"  
10.2 薄膜均匀性修正技术 -K:yU4V  
10.3 光学薄膜监控技术 Qk?jGXB>^  
11. 激光薄膜 P;^y|0N m  
11.1 薄膜的损伤问题 -b@v0%Q2M*  
11.2 激光薄膜的制备流程 X'YfjbGo  
11.3 激光薄膜的制备技术 -FQC9~rR;g  
12. 光学薄膜特性测量 Q1aHIc  
12.1 薄膜光谱测量 1R5Yn(  
12.2 薄膜光学常数测量 XPar_8I  
12.3 薄膜应力测量 3X,]=f@_  
12.4 薄膜损伤测量 eL<m.06cfY  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 ]\[m=0K  
_`TepX R  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 0eQ~#~j&  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 xeJ9H~^  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 H|grbTv,  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 eV"dv*R  
=6.8bZT\  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
b{Z^)u2X  
目录 1_N~1Ik  
Preface 1 kA?X^nj@  
内容简介 2 W Atg  
目录 i }@3Ud ' Y  
1  引言 1 h`z2!F4  
2  光学薄膜基础 2 qFV;n6&V  
2.1  一般规则 2 ~%olCxfO  
2.2  正交入射规则 3 Ah6wU|_-g  
2.3  斜入射规则 6 O<}ep)mr  
2.4  精确计算 7 D+bB G  
2.5  相干性 8 <m?GJuQ'  
2.6 参考文献 10 L!CX &  
3  Essential Macleod的快速预览 10 L~@ma(TV{K  
4  Essential Macleod的特点 32 yd7lcb [  
4.1  容量和局限性 33 aK8bKlZe  
4.2  程序在哪里? 33 + AE&GU  
4.3  数据文件 35 fG:PdIJ7_  
4.4  设计规则 35 W,QnU d'N  
4.5  材料数据库和资料库 37 eXj\DjttG}  
4.5.1材料损失 38 u5xU)l3  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 o0zc}mm  
4.5.2 材料库 41 XkMs   
4.5.3导出材料数据 43 _myg._[  
4.6  常用单位 43 KzEuPJ?  
4.7  插值和外推法 46 <'PR;g^#  
4.8  材料数据的平滑 50 Tns?mQ  
4.9 更多光学常数模型 54 g*:ae;GP  
4.10  文档的一般编辑规则 55 "Y"t2l_n  
4.11 撤销和重做 56 *(?U  
4.12  设计文档 57 +=|hMQ;  
4.10.1  公式 58 vjexx_fq  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 w.4u=e >Z4  
4.10.3  沉积密度 59 FRl3\ZDqrb  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ^CowJ(y(  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 tIn7(C  
4.10.4  性能 61 #6Efev  
4.10.5  保存设计和性能 64 /'8*aUa  
4.10.6  默认设计 64 Uq<a22t@  
4.11  图表 64 37j\D1Y  
4.11.1  合并曲线图 67 an*]62l  
4.11.2  自适应绘制 68 k| _$R?  
4.11.3  动态绘图 68 *G%1_   
4.11.4  3D绘图 69 \_*?R,$3Y,  
4.12  导入和导出 73 1g~Dm}m  
4.12.1  剪贴板 73 (cOND/S  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 K;@RUy~  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 {AU` }*5  
4.13  背景 77 8ktjDs$=.:  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Nz(c"3T;  
4.15  生成Rugate 84 e3yorQ][  
4.16  参考文献 91 )bB"12Z|8  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 O:oU`vE  
5.1  Jobs 92 Ze$^UR  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 u4b3bH9U  
5.3  输入材料 94 b xk'a,!S  
5.4  设计数据文件夹 95 ]y1$F Ir+  
5.5  默认设计 95 ?~VWW<lR  
6  细化和合成 97 B-y0;0  
6.1  优化介绍 97 ;,F-6RNj  
6.2  细化 (Refinement) 98 aJuj7y-  
6.3  合成 (Synthesis) 100 N>&{Wl'y\  
6.4  目标和评价函数 101 VYl_U?D  
6.4.1  目标输入 102 ,\sR;=svK  
6.4.2  目标 103 Bo](n*i  
6.4.3  特殊的评价函数 104 *6 z'+'  
6.5  层锁定和连接 104 ,_"7|z wb  
6.6  细化技术 104 WL IDw@fv  
6.6.1  单纯形 105 EuKrYY]g  
6.6.1.1 单纯形参数 106 7AGZu?1]M  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 %KJ"rvi4K  
6.6.2.1 Optimac参数 108 M-&^   
6.6.3  模拟退火算法 109 S7?f5ux   
6.6.3.1 模拟退火参数 109 "v\ bMuS  
6.6.4  共轭梯度 111 K^z5x#Yj  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Hm+6QgCs  
6.6.5  拟牛顿法 112 < '>d0:>N  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 3X-{2R/ 3  
6.6.6  针合成 113 dU sJv  
6.6.6.1 针合成参数 114 u):%5F/  
6.6.7 差分进化 114 )*^OPVt  
6.6.8非局部细化 115 ^G'yaaLXR  
6.6.8.1非局部细化参数 115 |?;"B:0  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 SHXa{-  
6.7.1  细化 116 7(A G]  
6.7.2  合成 117 =FtM;(\  
6.8  参考文献 117 ??$i*  
7  导纳图及其他工具 118 nK?k<  
7.1  简介 118 V',m $   
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 4 BE:&A  
7.2.1  四分之一波长规则 119 {Gk}3u/  
7.2.2  导纳图 120 8^P2GG'+-  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ;*>QG6Fh  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 _-|yCo  
7.5  斜入射导纳图 141 xVHQ[I%  
7.6  对称周期 141 ?vht~5'  
7.7  参考文献 142 +hgaBJy  
8  典型的镀膜实例 143 Pq{YZMr  
8.1  单层抗反射薄膜 145 9AVK_   
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 DiGUxnP  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ^V XXq  
8.4  W-膜层 148 @ 2%.>0s.  
8.5  V-膜层 149 AXNszS%4  
8.6  V-膜层高折射基底 150 PoBu kOv  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 k"DQbUy0L  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 7b7%(  
8.9  四层抗反射薄膜 153 U'sVs2sk6  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 \0*yxSg,^  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 )'K!)?&d  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 iP#A-du  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 \K_!d]I {  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 D:6x*+jah)  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 JX2 |  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ;8%@Lan  
8.17  1/4波长堆栈 162 %b>y  
8.18  陷波滤波器 163 $:-= >  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ; K)?:  
8.20  褶皱 165  4s1kZ`e  
8.21  消偏振分光器1 169 YVZSKU  
8.22  消偏振分光器2 171 P60]ps!M  
8.23  消偏振立体分光器 172 8&2gM  
8.24  消偏振截止滤光片 173 {Gb)Et]<  
8.25  立体偏振分束器1 174 !cFE^VM_;  
8.26  立方偏振分束器2 177 x w?9W4<  
8.27  相位延迟器 178 . f.j >  
8.28  红外截止器 179 AP?{N:+  
8.29  21层长波带通滤波器 180 w=P <4 bdT  
8.30  49层长波带通滤波器 181 -%/,j)VKD  
8.31  55层短波带通滤波器 182 VtPoc(o4]  
8.32  47 红外截止器 183 #:ED 0</  
8.33  宽带通滤波器 184 cVP49r}}v  
8.34  诱导透射滤波器 186 0|DG\&?  
8.35  诱导透射滤波器2 188 6q  xUT  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 EbwZZSds1  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 v-r[~  
8.35  增益平坦滤波器 193 9V4V}[%  
8.38  啁啾反射镜 1 196 'bY|$\I  
8.39  啁啾反射镜2 198 eed\0  
8.40  啁啾反射镜3 199 )H37a  
8.41  带保护层的铝膜层 200 R=Ly49  
8.42  增加铝反射率膜 201 @=zBF'<.9  
8.43  参考文献 202 Kj<<&_B.H  
9  多层膜 204 [%)B%h`XGf  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 `bt)'ERO%#  
9.2  内部透过率 204 B|q3;P  
9.3 内部透射率数据 205 -I$txa/"|  
9.4  实例 206 W*/s4 N  
9.5  实例2 210 >G3 J3P(  
9.6  圆锥和带宽计算 212 @9kk f{?  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 M:Y!k<p  
10  光学薄膜的颜色 216 Uf]Pd)D  
10.1  导言 216 ~E6+2t*  
10.2  色彩 216 WbDC  
10.3  主波长和纯度 220 Q]?J%P.  
10.4  色相和纯度 221 OrH1fhh   
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 kq.R(z+  
10.6 色差 226 HS&uQc a  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 A@Yi{&D_Q]  
10.8  颜色渲染指数 234 7rDRu]  
10.9  色差计算 235 5tCq}]q#P  
10.10  参考文献 236 C2,cyhr  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 Mp @(/  
11.1  短脉冲 238 vM3|Ti>a'  
11.2  群速度 239 Ynh4oWUp  
11.3  群速度色散 241 wM&x8 <  
11.4  啁啾(chirped) 245 Sdu@!<?B  
11.5  光学薄膜—相变 245 Ew,wNR`  
11.6  群延迟和延迟色散 246 >dC(~j{  
11.7  色度色散 246 xY}j8~k  
11.8  色散补偿 249 #pn AK  
11.9  空间光线偏移 256 b+j_EA_b  
11.10  参考文献 258 o  >4>7  
12  公差与误差 260 )I UWM  
12.1  蒙特卡罗模型 260 au}0PnA;  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 Hr,lA(  
12.2.1  误差工具 267 E#V-F-@2  
12.2.2  灵敏度工具 271 ^l2d?v8  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 Qs[EA_  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 68br  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 =/'*(\C2  
12.3  参考文献 276 ^d $e^cU  
13  Runsheet 与Simulator 277 7Hlh (k  
13.1  原理介绍 277 K[;,/:Y  
13.2  截止滤光片设计 277 VKfHN_m*  
14  光学常数提取 289 Hf]}OvT>Z  
14.1  介绍 289 /Ta0}Y(y  
14.2  电介质薄膜 289 Ecl7=-y  
14.3  n 和k 的提取工具 295 5OqsnL_V  
14.4  基底的参数提取 302 3bL2fsn5  
14.5  金属的参数提取 306 PaI63 !  
14.6  不正确的模型 306 8uD%]k=#!  
14.7  参考文献 311 oW1olmpp=  
15  反演工程 313 eS%6 h U b  
15.1  随机性和系统性 313 (>lqp%G~  
15.2  常见的系统性问题 314 ZTz(NS EK  
15.3  单层膜 314 ^p%+rB.j[  
15.4  多层膜 314 ,^[37/S  
15.5  含义 319 /%'7sx[p  
15.6  反演工程实例 319 w3|.4hS  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 q'-l; V|  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 N<r0I-  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 {j4:. fD  
16.1  光学性质的热致偏移 329 T ]nR XW$  
16.2  应力工具 335 ,r,;2,;6nd  
16.3  均匀性误差 339 =y/ Lbe}:  
16.3.1  圆锥工具 339 mNB ]e5 ;N  
16.3.2  波前问题 341 zw:b7B]  
16.4  参考文献 343 4~MUc!  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 ) G&3V  
17.1  引言 345 >d[vHyA~!D  
17.2  操作数 345 m64\@ [  
18  如何在Function中编写脚本 351 WSccR  
18.1  简介 351 n&{N't  
18.2  什么是脚本? 351 R2f,a*>  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 ptL}F~  
18.4  基础 352 BnY|t2r  
18.4.1  Classes(类别) 352 znpZ0O\!  
18.4.2  对象 352 FOyfk$  
18.4.3  信息(Messages) 352 yAkN2  
18.4.4  属性 352 Ybiz]1d  
18.4.5  方法 353 GB Un" _J  
18.4.6  变量声明 353 Bm>(m{sX>  
18.5  创建对象 354 9e*poG  
18.5.1  创建对象函数 355 PEhLzZX+  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 j-\u_#kx%  
18.5.3 丢弃对象 356 pl/$@K?L  
18.5.4  总结 356 Z'M@DY/fdK  
18.6  脚本中的表格 357 a m%{M7":7  
18.6.1  方法1 357 *#9kFz-  
18.6.2  方法2 357 I4ct``Di  
18.7 2D Plots in Scripts 358 mw.aavB  
18.8 3D Plots in Scripts 359 }eK*)  
18.9  注释 360 v xZUtyJfe  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 @TG~fJSA12  
18.11  一个更高级的脚本 362 `G{t<7[[;  
18.12  <esc>键 364 AMfu|%ZL  
18.13 包含文件 365 'v)+S;oB  
18.14  脚本被优化调用 366 v)pWx0l=  
18.15  脚本中的对话框 368 EU~'n-  
18.15.1  介绍 368 WL]'lSHa  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 h"m7r4f  
18.15.3  输入框函数 370 :Dm@3S$4<  
18.15.4  自定义对话框 371 \wd`6  
18.15.5  对话框编辑器 371 OPh@H.)^  
18.15.6  控制对话框 377 sTYl' Ieg  
18.15.7  更高级的对话框 380 0M.[) @  
18.16 Types语句 384 t":>O0>cz  
18.17 打开文件 385 uf3 gVS_h=  
18.18 Bags 387 +g30frg+Gl  
18.13  进一步研究 388 Pk2 "\y@q/  
19  vStack 389  .l'QCW9  
19.1  vStack基本原理 389 J(L$pIM  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 w-/Tb~#E  
19.3  五棱镜 393 J#nEGl|a  
19.4 光束距离 396 Jc6 D^=  
19.5 误差 399 |9JYg7<  
19.6  二向分色棱镜 399 Xb;`WE gC  
19.7  偏振泄漏 404 L2tmo-]nw  
19.8  波前误差—相位 405 IC42O_^  
19.9  其它计算参数 405 !qq@F%tv  
20  报表生成器 406 SS-   
20.1  入门 406 81g0oVv  
20.2  指令(Instructions) 406 /iy/2x28>  
20.3  页面布局指令 406 Fv B2y8&W  
20.4  常见的参数图和三维图 407 4QDzG~N4)|  
20.5  表格中的常见参数 408 M?97F!\U  
20.6  迭代指令 408 :oQaN[3>_  
20.7  报表模版 408 bZJiubBRI  
20.8  开始设计一个报表模版 409 5$w1[}UUd  
21  一个新的project 413 JJa?"82FXZ  
21.1  创建一个新Job 414 $S/ 8T  
21.2  默认设计 415 BC+qeocg  
21.3  薄膜设计 416 IS~oyFS  
21.4  误差的灵敏度计算 420 U)6JJv  
21.5  显色指数计算 422 X?a67qL  
21.6  电场分布 424 =#Jb9=zdR  
后记 426 Yzz8:n  
lnUy ? 0(  
Z m>69gl  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 M,P_xkLp  
H(|v  
《Essential Macleod中文手册》
#/6X44 *u  
&aU+6'+QXB  
目  录 c=CXj3  
_ 9dV 3I  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 \/%mabLK  
第1章 介绍 ..........................................................1 IuL ]V TY  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 *G38N]|u6  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 O5w\oDhMb  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 E&AR=yqk  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 "`wq:$R  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 "k/x+%!Spc  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 *@Z'{V\  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 dEn hNPeRl  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 Hqk2W*UTl  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ?T"crX  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 >'eqOZM  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 Lj#6K@u@Z  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 c1f6RCu$b  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 uB?YJf .T@  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 3h>Ji1vV  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 6 9Cxh  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 uBXI*51{  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 f.{0P-Np  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 [S%  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 A{k@V!A%  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 =G`m7!Q)  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 {rDZKy^f  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 6)8']f  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 g|oPRC$I'  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 Q] HRg4r  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 ) )Nc|`  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 &nss[w$%C  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 A@4Cfb@  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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