线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:957
时间地点 ! 87ebo  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 ?gkK*\x2  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 OS!47Z /q  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 >):b AfI  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 WgjaMmht  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
mdk:2ndP  
特邀专家介绍 Y 8P  
V +hV&|=  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 9uq| VU5  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 | zAey\  
课程概要 )TWf/L cp  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 =?}'\ >G "  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 \/5 8#  
课程大纲 0 cQf_o  
1. Essential Macleod软件介绍 )&w\9}B:  
1.1 介绍软件 A[b'MNsv  
1.2 创建一个简单的设计 A(C3kISM  
1.3 绘图和制表来表示性能 vEb~QX0~  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 :ortyCB:H  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) !~RD>N&n  
1.6 特定设计的公式技术 /r)d4=1E  
1.7 交互式绘图 I[R?j?$}>  
2. 光学薄膜理论基础 # ><.zZ  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 5Ph"*Rz%  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 4b (iGLrt0  
3. 材料管理 & z?y  
3.1 材料模型 j\ )Qn 2r  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 ^{bP#f   
3.3 金属薄膜光学常数的提取 <uAqb Wu  
3.4 基板光学常数的提取 jHFdDw|N`  
4. 光学薄膜设计优化方法 1mB6rp  
4.1 参考波长与g "\B Li C  
4.2 四分之一规则 * "E]^wCn  
4.3 导纳与导纳图 . E.OBn  
4.4 斜入射光学导纳 h rZ\ O?j  
4.5 光学薄膜设计的进展 s*VZLKO  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 yyXJ_B  
4.6.1 优化目标设置 6h5*b8LxA  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) tvg7mU]l  
4.6.3 膜层锁定和链接 '; qT  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ZGS=;jM  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 EswM#D 9(4  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 M F& +4$q  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Wy|=F~N  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 2\7]EW  
5.5 如何在Function中编写脚本 Z,!Rj7wZ  
6. 光学薄膜系统案例 |#S!qnXB  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 QN0Ik 2L  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 7%0PsF _  
6.3 Stack应用范例说明 Q.5a"(d@  
7. 薄膜性能分析 jx-W$@  
7.1 电场分布 _)p%  
7.2 公差与灵敏度分析 b]J_R"}  
7.3 反演工程 h5Z%|J>;0  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 )2R:P`U  
8. 真空技术 =n;ileGm+^  
8.1 常用真空泵介绍 ]o_ Ps|  
8.2 真空密封和检漏 WJ mj|$D  
9. 薄膜制备技术 j| 257D  
9.1 常见薄膜制备技术 :CV&WP  
10. 薄膜制备工艺 Zaq:l[%  
10.1 薄膜制备工艺因素 $ccI(J`zux  
10.2 薄膜均匀性修正技术 :FK(*BUh  
10.3 光学薄膜监控技术 T,;6q!s=  
11. 激光薄膜 M T{^=F ]  
11.1 薄膜的损伤问题 >SccoI  
11.2 激光薄膜的制备流程 Qs~;?BH&  
11.3 激光薄膜的制备技术 7^:s/xHO*  
12. 光学薄膜特性测量 Vls*fY:W  
12.1 薄膜光谱测量 ty(F;M(  
12.2 薄膜光学常数测量 $o-s?";  
12.3 薄膜应力测量 R(Z2DEt</  
12.4 薄膜损伤测量 mvYr"6f8  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 ]2v31'  
K+n6.BzW  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
tdEu4)6  
内容简介 d]+g3oy `  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 FCOSgEU  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 @1rF9< 4g  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 _< xU"8b"5  
=7Nm= 5@  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
%vMi kibI  
目录 R$v{ p[  
Preface 1 "bRck88V  
内容简介 2 +   
目录 i .(3B}}gB>  
1  引言 1 84|Hn|4t  
2  光学薄膜基础 2 ='YR;  
2.1  一般规则 2 x"*u98&3  
2.2  正交入射规则 3 E@t^IGD r  
2.3  斜入射规则 6 HHT K{X+  
2.4  精确计算 7 )(y&U  
2.5  相干性 8 `y m^0x8  
2.6 参考文献 10 MX  qH  
3  Essential Macleod的快速预览 10 *"4 OXyV  
4  Essential Macleod的特点 32 $Nnz |y  
4.1  容量和局限性 33 R$NH [Tz  
4.2  程序在哪里? 33 kE/>Ys@w  
4.3  数据文件 35 YS/{q~$t  
4.4  设计规则 35 (l9U7^S"{K  
4.5  材料数据库和资料库 37 ~^:/t<N  
4.5.1材料损失 38 .}2^YOmd  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ~M+|g4W%  
4.5.2 材料库 41 = R; 0Ed&b  
4.5.3导出材料数据 43 YP+0 uZ[g  
4.6  常用单位 43 hE+6z%A8  
4.7  插值和外推法 46 v?5Xx{ym  
4.8  材料数据的平滑 50 .#Z}}W#  
4.9 更多光学常数模型 54 E WOn"   
4.10  文档的一般编辑规则 55 )k=8.j4  
4.11 撤销和重做 56 7G!SlC X}W  
4.12  设计文档 57 Lab{?!E>U  
4.10.1  公式 58 iiKFV>;t/  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 mI"`.  
4.10.3  沉积密度 59 eQJLyeR+  
4.10.4 平行和楔形介质 60 1u 'x|Un  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 Pa%XLn'5  
4.10.4  性能 61 -N~*h  
4.10.5  保存设计和性能 64 }[$C=|>  
4.10.6  默认设计 64 ^pAqe8u_  
4.11  图表 64 j<4J_wE  
4.11.1  合并曲线图 67 3]M YH b  
4.11.2  自适应绘制 68 &KX|gB'  
4.11.3  动态绘图 68 { SJ=|L6  
4.11.4  3D绘图 69  qqLmjDv  
4.12  导入和导出 73 'l)@MX bGL  
4.12.1  剪贴板 73 {b8!YbG  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 '9]%#^[Q  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 _hK7hvM>  
4.13  背景 77 -9\O$I-3  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 *!Vic#D%  
4.15  生成Rugate 84 A: 0  
4.16  参考文献 91 6t<~. 2'  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 u7<B*d:  
5.1  Jobs 92 @| qnD  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 %t`a-m  
5.3  输入材料 94 qXCl6Yo8  
5.4  设计数据文件夹 95 /<Zy-+3  
5.5  默认设计 95 &X9#{:l=  
6  细化和合成 97 O"nY4  
6.1  优化介绍 97 J9mLW}I?NW  
6.2  细化 (Refinement) 98 l3)(aay!  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ko>SnE|w#  
6.4  目标和评价函数 101 3q{H=6  
6.4.1  目标输入 102 u'<Y#bsR#/  
6.4.2  目标 103 &W)k s  
6.4.3  特殊的评价函数 104 0[x?Q[~S_0  
6.5  层锁定和连接 104 TJ ;4QL  
6.6  细化技术 104 )|q,RAn  
6.6.1  单纯形 105 gjk=`lU  
6.6.1.1 单纯形参数 106 #}^ZxEU  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 /Vg R[  
6.6.2.1 Optimac参数 108 sbQmPV  
6.6.3  模拟退火算法 109 &:nWZ!D  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 Hvnak{5  
6.6.4  共轭梯度 111 _bMD|  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 1W "9u   
6.6.5  拟牛顿法 112 \b1I<4(  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 u%JM0180  
6.6.6  针合成 113 kZWc(LwA  
6.6.6.1 针合成参数 114 iEsI  
6.6.7 差分进化 114 k$7-F3  
6.6.8非局部细化 115 P>0j]?RB  
6.6.8.1非局部细化参数 115 o.Mb~8Yu  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 8L|rj4z<#  
6.7.1  细化 116 YEF%l'm( \  
6.7.2  合成 117 k9w<0h3  
6.8  参考文献 117 ~i=/@;wRp  
7  导纳图及其他工具 118 f]0kG  
7.1  简介 118 fc+P`r  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 Q4Hf!v]r  
7.2.1  四分之一波长规则 119 K/, B  
7.2.2  导纳图 120 fu?>O /Gn/  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 I`5F& 8J{  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 [64K?l0&  
7.5  斜入射导纳图 141 v}M, M&?  
7.6  对称周期 141 M+ ^]j  
7.7  参考文献 142  d9R0P2  
8  典型的镀膜实例 143 T=ox;r  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ;^=eiurv  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 {t;Q#Ou.  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 lF 8B+  
8.4  W-膜层 148 `i9WnPRt  
8.5  V-膜层 149 ^8 AV#a  
8.6  V-膜层高折射基底 150 <(>v|5K0]  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 st:[|`  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 W7O%.xP  
8.9  四层抗反射薄膜 153 KVSy^-."  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 aEy_H-6f  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 /?9e{,\s  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 1Yz1/gFj  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 X:j&+d2g0/  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 RIC'JLWQ  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 nx $?wxIm  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 LZX-am`%  
8.17  1/4波长堆栈 162 1;?b-FEq:  
8.18  陷波滤波器 163 MztT/31S  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 z,P:i$  
8.20  褶皱 165 &julw;E  
8.21  消偏振分光器1 169 <*3wnpj_  
8.22  消偏振分光器2 171 h7~&rWb  
8.23  消偏振立体分光器 172 7>9/bB+TL  
8.24  消偏振截止滤光片 173 IgptiZ7~!  
8.25  立体偏振分束器1 174 JLT':e~PX  
8.26  立方偏振分束器2 177 $kZ,uvKN  
8.27  相位延迟器 178 -+'{C =  
8.28  红外截止器 179 f]J?-ks  
8.29  21层长波带通滤波器 180 UDt.w82  
8.30  49层长波带通滤波器 181 xPq3Sfg`A  
8.31  55层短波带通滤波器 182 9cQKXh:R.  
8.32  47 红外截止器 183 IE|x+RBD  
8.33  宽带通滤波器 184 7V 2%  
8.34  诱导透射滤波器 186 $qP9EZ]JC  
8.35  诱导透射滤波器2 188 x|F6^d   
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 CImB,AXS  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 XFG]%y=/6  
8.35  增益平坦滤波器 193 gG*O&gQY  
8.38  啁啾反射镜 1 196 b1\z&IdC  
8.39  啁啾反射镜2 198 O)\xElu  
8.40  啁啾反射镜3 199 yXg783B|v  
8.41  带保护层的铝膜层 200 nUs)  
8.42  增加铝反射率膜 201 E@0w t^  
8.43  参考文献 202 +ulX(u(,  
9  多层膜 204 /(W{`  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 RLw=y{%p  
9.2  内部透过率 204 `w[0q?}"`  
9.3 内部透射率数据 205 9P{5bG0o8  
9.4  实例 206 wrK$ZO]  
9.5  实例2 210 d,8V-Dk+p  
9.6  圆锥和带宽计算 212 )n5]+VTZ5  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 'gI58#v  
10  光学薄膜的颜色 216 [|ky~sRr  
10.1  导言 216 >|.jG_s  
10.2  色彩 216 C/<fR:`c  
10.3  主波长和纯度 220 [9'5+RXw3  
10.4  色相和纯度 221 1YAy\F~`.  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Y 0$m~}j  
10.6 色差 226 %nFZA)B[  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ##}a0\x|  
10.8  颜色渲染指数 234 Af5In9WB5  
10.9  色差计算 235 $daI++v`  
10.10  参考文献 236 !xj>~7  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 sFC1PdSk4T  
11.1  短脉冲 238 0}Kl47}aD  
11.2  群速度 239 MCz +l0  
11.3  群速度色散 241 va~:oA  
11.4  啁啾(chirped) 245 \@MGO aR]  
11.5  光学薄膜—相变 245 5c'rnMW4+p  
11.6  群延迟和延迟色散 246 Wj8\~B=('  
11.7  色度色散 246 3|P P+<o  
11.8  色散补偿 249 f>#\'+l'  
11.9  空间光线偏移 256 djZOx;/  
11.10  参考文献 258 b.8HGt<%  
12  公差与误差 260 z<: 9,wtbP  
12.1  蒙特卡罗模型 260 P:ys--$"  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ds5<4SLj  
12.2.1  误差工具 267 l*B;/ >nR  
12.2.2  灵敏度工具 271 {D1=TTr^  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 }eEF/o  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 %QwMB`x  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 b[e+(X  
12.3  参考文献 276 sBwkHsDD  
13  Runsheet 与Simulator 277 ZZ[5Z =te?  
13.1  原理介绍 277 r}"T y  
13.2  截止滤光片设计 277 5IVASqYp  
14  光学常数提取 289 J\m7U  
14.1  介绍 289 ,i>5\Yl%  
14.2  电介质薄膜 289 Q1buuF#CU&  
14.3  n 和k 的提取工具 295 CDU^X$Q  
14.4  基底的参数提取 302 yK{;72  
14.5  金属的参数提取 306 0ZkA .p  
14.6  不正确的模型 306 A3C<9wXx  
14.7  参考文献 311 dRWp/3 }  
15  反演工程 313 lq.AQ  
15.1  随机性和系统性 313 SV6Np?U  
15.2  常见的系统性问题 314 34s:|w6y  
15.3  单层膜 314 A' dt WD  
15.4  多层膜 314 5OpK~f5  
15.5  含义 319 { F. Ihw  
15.6  反演工程实例 319 <:RU,  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 FjkE^o>  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 +]5JXt^  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 XImb"7|  
16.1  光学性质的热致偏移 329 lYQcQ*-  
16.2  应力工具 335 ={#r/x  
16.3  均匀性误差 339 n+Fl|4  
16.3.1  圆锥工具 339 -_b}b)2iYN  
16.3.2  波前问题 341 `S$BBF;  
16.4  参考文献 343 !. q*bY  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 IF5+&O  
17.1  引言 345 %z.u % %  
17.2  操作数 345 D$#=;H ,  
18  如何在Function中编写脚本 351 >qcir~ &  
18.1  简介 351 47ir QK*  
18.2  什么是脚本? 351 ]C5JP~ #z  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 T3'dfe U  
18.4  基础 352 zzq/%jki  
18.4.1  Classes(类别) 352 7v%~^l7:x  
18.4.2  对象 352 uysGOyi<u  
18.4.3  信息(Messages) 352 a)y8MGx?  
18.4.4  属性 352 F =d L#@^  
18.4.5  方法 353 Y,>])R[4  
18.4.6  变量声明 353 RX7,z.9@'O  
18.5  创建对象 354 $Iqt c)DA  
18.5.1  创建对象函数 355 /+02 BP  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 k"GW3E;  
18.5.3 丢弃对象 356 XXxX;xz$  
18.5.4  总结 356 "xnek8F  
18.6  脚本中的表格 357 urXM}^  
18.6.1  方法1 357 o6B!ikz 8  
18.6.2  方法2 357 G ^r^" j  
18.7 2D Plots in Scripts 358 T'f E4}rY  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ,+zLFQC0@  
18.9  注释 360 -kQ{~"> w  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 0~an\4nh  
18.11  一个更高级的脚本 362 ~~'XY(\L@  
18.12  <esc>键 364 *$(9,y\  
18.13 包含文件 365 S\g8(\u  
18.14  脚本被优化调用 366 >Pbd#*  
18.15  脚本中的对话框 368 b$.N8W%  
18.15.1  介绍 368 [dOPOA/d  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 "QGP]F  
18.15.3  输入框函数 370 :R<,J=+$u  
18.15.4  自定义对话框 371 nCXIWLw  
18.15.5  对话框编辑器 371 `|v0@-'$  
18.15.6  控制对话框 377 }b6ja y  
18.15.7  更高级的对话框 380 !7^fji  
18.16 Types语句 384 =We}&80 x  
18.17 打开文件 385 eT:%i"C  
18.18 Bags 387 (w"zI!  
18.13  进一步研究 388 D@O '8  
19  vStack 389 ~mmI] pC  
19.1  vStack基本原理 389 WpSdukXY{  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 36&7J{MU  
19.3  五棱镜 393 7m@pdq5Ub  
19.4 光束距离 396 %# J8cB  
19.5 误差 399 .:_dS=ut  
19.6  二向分色棱镜 399 v2rXuo  
19.7  偏振泄漏 404 BC!l)2  
19.8  波前误差—相位 405 DRf~l9f  
19.9  其它计算参数 405 0&-!v?6 )  
20  报表生成器 406 <[l2]"Q  
20.1  入门 406 h/eKVRGs"  
20.2  指令(Instructions) 406 9OXrz}8C  
20.3  页面布局指令 406 1sn!!  
20.4  常见的参数图和三维图 407 HT kce,dQ  
20.5  表格中的常见参数 408 zS|%+er~zO  
20.6  迭代指令 408 *R1x^t+)  
20.7  报表模版 408 r")=Z1y  
20.8  开始设计一个报表模版 409 ^_)CQ%W?  
21  一个新的project 413 P#rwYPww\  
21.1  创建一个新Job 414 URJ"  
21.2  默认设计 415 ruF+X)  
21.3  薄膜设计 416 B]Yj"LM)  
21.4  误差的灵敏度计算 420 *w> /vu  
21.5  显色指数计算 422 E(]yjZ/  
21.6  电场分布 424 ?ix0n,m  
后记 426 >2>xr"  
*~2jP;$  
.-c3f1i  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 p~Dm3^Y  
B:+}^=  
《Essential Macleod中文手册》
>D<nfG<s Z  
Odw SNG  
目  录 /i DS#l\0  
>i@gR  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 `d3S0N6@  
第1章 介绍 ..........................................................1 v`x~O+  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 ][wS}~):  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 gjyg`%  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 pN4!*7M  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 ] p+t>'s  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 k_O"bsI)  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 ,FS iE\  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ;$[o7Qm5r  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 a,&Kvh  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ><`.(Z5c  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 K<Ct  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 a; /4 ht  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 bp$8hUNYz-  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 X]  Tb4  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 &\C vrxa  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 t$Irr*  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 j cx/ZR  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 YF&SH)Y7  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 #J^p,6  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 \UtUP#Y{t  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 +u25>pX  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 y~ ^>my7G  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 ] ^  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ,u~\$ Az6  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 y<3v/ ,Y  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 )S8q.h  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 uz'beE  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 1`2lTkg  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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