线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:865
时间地点 /J{P8=x}_:  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 ?_\Hv@t;  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 ?Dd2k%o  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 zCO5 `%14  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 w'M0Rd]  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
c)@M7UK[  
特邀专家介绍 jE2ziK  
{!^HG+  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 * I'O_D  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 ~ D3'-,n[  
课程概要 Wf: AMxDm  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 @!%<JZEz3  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 =5dv38  
课程大纲 * +A!12s@  
1. Essential Macleod软件介绍 'O\K Wj{  
1.1 介绍软件 Q:_pW<^  
1.2 创建一个简单的设计 2U~oWg2P  
1.3 绘图和制表来表示性能 1%EY!14G+  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 j?w7X?1(  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) vGm;en   
1.6 特定设计的公式技术 _?q\tyf3  
1.7 交互式绘图 F;q I^{m2  
2. 光学薄膜理论基础 1+#Vj#  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 4 Iy\   
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 e5`{*g$i).  
3. 材料管理 ynP^|Ou  
3.1 材料模型 ;HqK^[1\  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 *WX6C("M  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 i>)Whr'e8  
3.4 基板光学常数的提取 Q.\+ XR_|  
4. 光学薄膜设计优化方法 / d6mlQS  
4.1 参考波长与g kP8Ypw&  
4.2 四分之一规则 5^* d4[&+  
4.3 导纳与导纳图 Pq7YJ"Z?:  
4.4 斜入射光学导纳 mhlJzGr*q  
4.5 光学薄膜设计的进展 jgEiemh&  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 CUxSmN2[  
4.6.1 优化目标设置 7;|6g8=  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) Ypv"u0  
4.6.3 膜层锁定和链接 Ap}:^k5{  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 PFEi=}Y@((  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 MIt\[EB  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 $: Qi9N   
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 FpW{=4yk  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 p(0!TCBs  
5.5 如何在Function中编写脚本 9^ mrsj  
6. 光学薄膜系统案例 A|y&\~<A  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 >DbG$V<v'  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 _HGDqj L  
6.3 Stack应用范例说明 fWKv3S1dT  
7. 薄膜性能分析 bd)A6a\h  
7.1 电场分布 H,H'bd/  
7.2 公差与灵敏度分析 4|++0=#D$  
7.3 反演工程 $fn Fi|-  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 e j!C^  
8. 真空技术 <'GI<Hc  
8.1 常用真空泵介绍 7sLs+ |<"  
8.2 真空密封和检漏 vRT1tOQ$  
9. 薄膜制备技术 1L &_3}  
9.1 常见薄膜制备技术 U8< GD|  
10. 薄膜制备工艺 +(|T\%$DT  
10.1 薄膜制备工艺因素 M}%0=VCY7  
10.2 薄膜均匀性修正技术 }GGFJ"  
10.3 光学薄膜监控技术 AE7>jkHB  
11. 激光薄膜 oz[E>%  
11.1 薄膜的损伤问题 PJ #uYM  
11.2 激光薄膜的制备流程 KtV_DjH:  
11.3 激光薄膜的制备技术 uOW9FAW  
12. 光学薄膜特性测量 39m#  
12.1 薄膜光谱测量 .` ,YUr$.  
12.2 薄膜光学常数测量 'iL['4~.  
12.3 薄膜应力测量 >Y{.)QS  
12.4 薄膜损伤测量 urog.Q  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 tb@/E  
$f C=v  
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-4hX -  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
q"]-CGAa  
内容简介 ,VHvQU  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 OkFq>;{a  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 LClPAbr  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 |0-5-.  
q)!{oi{x(  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
^QFjBQ-Hai  
目录 NTVG'3o  
Preface 1 a(BC(^1!  
内容简介 2 k92189B9j/  
目录 i dks0  
1  引言 1 pK$^@~DE  
2  光学薄膜基础 2 yY,.GzIjCj  
2.1  一般规则 2 .g4bV5ma3  
2.2  正交入射规则 3 b5H[~8mf  
2.3  斜入射规则 6 B>~E6j7[Mp  
2.4  精确计算 7 A?6b)B/e?  
2.5  相干性 8 0HG*KW  
2.6 参考文献 10 i-&kUG_X  
3  Essential Macleod的快速预览 10 ]vu' +F$  
4  Essential Macleod的特点 32 OjZ+gl}  
4.1  容量和局限性 33 ?rHc%H  
4.2  程序在哪里? 33 !})+WSs'"s  
4.3  数据文件 35 ]HCt%5  
4.4  设计规则 35 [ ra [~  
4.5  材料数据库和资料库 37 Grw_SVa^  
4.5.1材料损失 38 !5=3Y4bg1  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 fh,Y#.V`  
4.5.2 材料库 41 %7V?7BE  
4.5.3导出材料数据 43 9$d (`-&9p  
4.6  常用单位 43 cJH7zumM)  
4.7  插值和外推法 46 G-} zkax  
4.8  材料数据的平滑 50 2Jj`7VH>  
4.9 更多光学常数模型 54 -G*u2i_*  
4.10  文档的一般编辑规则 55 ][0HJG{{g  
4.11 撤销和重做 56 F]Y Pq  
4.12  设计文档 57 ,~G[\2~p  
4.10.1  公式 58 \>jK\j  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 rg\|-_.es'  
4.10.3  沉积密度 59 vmmu[v  
4.10.4 平行和楔形介质 60 JXvHsCd?  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 W6jB!W  
4.10.4  性能 61 [vIO  
4.10.5  保存设计和性能 64 -98bX]8  
4.10.6  默认设计 64 k"L_0HK  
4.11  图表 64 ~[,E i k  
4.11.1  合并曲线图 67 /+66y=`UJ  
4.11.2  自适应绘制 68 U;{VL!  
4.11.3  动态绘图 68  T>LtN  
4.11.4  3D绘图 69 Xv'64Nc!;  
4.12  导入和导出 73 qP]Gl--q{  
4.12.1  剪贴板 73 &, K;F'  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 !X#=Pt[,  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 +LX&1GX  
4.13  背景 77 LTJ|EXYA  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 V:IoeQ]-  
4.15  生成Rugate 84 j[=f;&1  
4.16  参考文献 91 ql_aDo j  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 3 #jPQ[+  
5.1  Jobs 92 [ 9$>N  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 `%rqQnVB  
5.3  输入材料 94 Ou,B3kuQ+  
5.4  设计数据文件夹 95 vO"AJ`_  
5.5  默认设计 95 Y.&z$+  
6  细化和合成 97 Ak4iG2  
6.1  优化介绍 97 qKWkgackP  
6.2  细化 (Refinement) 98 lYq R6^  
6.3  合成 (Synthesis) 100 7$b78wax  
6.4  目标和评价函数 101 #>!!#e!*  
6.4.1  目标输入 102 I-+D+DhRx  
6.4.2  目标 103 qt3 \*U7x  
6.4.3  特殊的评价函数 104 Bv/v4(G5g  
6.5  层锁定和连接 104 #<l ;YT8  
6.6  细化技术 104 dyu~T{  
6.6.1  单纯形 105 z+wBZn{0I  
6.6.1.1 单纯形参数 106 ^>]p4Q3 6  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 a*vi&$@`Z1  
6.6.2.1 Optimac参数 108 -<CBxyZa&  
6.6.3  模拟退火算法 109 !f"@pR6  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 t1Cyyb  
6.6.4  共轭梯度 111 *jDzh;H!w  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Ee4oTU5Mb  
6.6.5  拟牛顿法 112 _D z4 }:9  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 QvqX3FU  
6.6.6  针合成 113 [j:%O|h  
6.6.6.1 针合成参数 114 bC"#.e  
6.6.7 差分进化 114 t'7)aJMP  
6.6.8非局部细化 115 |%TH|?kB  
6.6.8.1非局部细化参数 115 CQ13fu +|6  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 3D%I=p(  
6.7.1  细化 116  +/AW6  
6.7.2  合成 117 1uS _]59=  
6.8  参考文献 117 "y5c)l(Rg  
7  导纳图及其他工具 118 &4p:2,|r9  
7.1  简介 118 j63w(Jv/  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 @XB/9!  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ^bS&[+9E  
7.2.2  导纳图 120 E[ e ''  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 -_A0<A.  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 z`{Ld9W  
7.5  斜入射导纳图 141 ~ dmyS?Or  
7.6  对称周期 141 Rz%+E0  
7.7  参考文献 142 L# (o(4g2  
8  典型的镀膜实例 143 #O`n Q  
8.1  单层抗反射薄膜 145 s{hJ"lv:  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 V"\t  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 VxaJ[s3PQ&  
8.4  W-膜层 148 Pm V:J9  
8.5  V-膜层 149 +=;F vb  
8.6  V-膜层高折射基底 150 oGXT,38*  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 C#vU'RNpl  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 WEWNFTI  
8.9  四层抗反射薄膜 153 !=eui$]  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 |<9 R%  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 keCM}V`?"  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 eV}Ow`~I5  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 2z&HT SI  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 7e>n{rl  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 o'r?^ *W  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 XG_ lyx%:E  
8.17  1/4波长堆栈 162 * UBU?  
8.18  陷波滤波器 163 |)yO] pB:  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 IQY\L@"  
8.20  褶皱 165 1;g>?18@  
8.21  消偏振分光器1 169 '}]w=2Lf  
8.22  消偏振分光器2 171 O,XVA  
8.23  消偏振立体分光器 172 YzsHec  
8.24  消偏振截止滤光片 173 0zdH6 &  
8.25  立体偏振分束器1 174 k q_B5L?  
8.26  立方偏振分束器2 177 53@*GXzE  
8.27  相位延迟器 178 rS8/_'  
8.28  红外截止器 179 F0]NtKaH  
8.29  21层长波带通滤波器 180 exZa:9 sp  
8.30  49层长波带通滤波器 181 E*j)gj9  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ZVk_qA%  
8.32  47 红外截止器 183 ;1K.SDj  
8.33  宽带通滤波器 184 U $e-e/  
8.34  诱导透射滤波器 186 2["bS++?  
8.35  诱导透射滤波器2 188 `A3"*,|z  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 -h8A<  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 XwE(&ZCf'b  
8.35  增益平坦滤波器 193 A0 x*feK?  
8.38  啁啾反射镜 1 196 0x[v)k9"0  
8.39  啁啾反射镜2 198 ST] h NM  
8.40  啁啾反射镜3 199 D3|y|Dr  
8.41  带保护层的铝膜层 200 /vBOf;L  
8.42  增加铝反射率膜 201 34&n { xv  
8.43  参考文献 202 L+(5`Y  
9  多层膜 204 ~UEft  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 LoqS45-)  
9.2  内部透过率 204 #1&w fI$  
9.3 内部透射率数据 205 Rs8^ 27  
9.4  实例 206 z3[ J>  
9.5  实例2 210 ENr\+{{%  
9.6  圆锥和带宽计算 212 K!0vvP2H  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 q0SYV  
10  光学薄膜的颜色 216 jV#{8 8  
10.1  导言 216 <`+U B<K  
10.2  色彩 216 R>BnUIu  
10.3  主波长和纯度 220 >01&3-r  
10.4  色相和纯度 221 CcG{+-= H)  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Uf 1i "VY  
10.6 色差 226 iQ~;to;Y  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ~bf-uHx  
10.8  颜色渲染指数 234 S[n ;u-U  
10.9  色差计算 235 3#!}W#xv  
10.10  参考文献 236 |B./5 ,nSS  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 )!s f@F?  
11.1  短脉冲 238 "6[fqW65  
11.2  群速度 239 Oc}4`?oy<O  
11.3  群速度色散 241 ,73J#  
11.4  啁啾(chirped) 245 ^M0e0  
11.5  光学薄膜—相变 245 o cotO  
11.6  群延迟和延迟色散 246 G\@ uj>Z  
11.7  色度色散 246 G0Eqo$W)S  
11.8  色散补偿 249 %scSp&X  
11.9  空间光线偏移 256 {U= Mfo?AH  
11.10  参考文献 258 \_bk+}WJ]s  
12  公差与误差 260 fzT|{vG8  
12.1  蒙特卡罗模型 260 wrSw>sE"  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ,qz$6oxh\  
12.2.1  误差工具 267 3WHj|ENW  
12.2.2  灵敏度工具 271 |_x U{Pu  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 p2cwW/^V  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 lyc ]E 9  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 1MkQ$v7m  
12.3  参考文献 276 outAZy=R;  
13  Runsheet 与Simulator 277 b= amd*  
13.1  原理介绍 277 ecfw[4B`  
13.2  截止滤光片设计 277 C2OBgM+  
14  光学常数提取 289 ]q~ _  
14.1  介绍 289 5?9K%x'b  
14.2  电介质薄膜 289 dT?/9JIv  
14.3  n 和k 的提取工具 295 b*i_'k}*<g  
14.4  基底的参数提取 302 )z zZYs&|  
14.5  金属的参数提取 306 >NwS0j$j@  
14.6  不正确的模型 306 !6{; z/Hy  
14.7  参考文献 311 >1q W*  
15  反演工程 313 Tk\?$n  
15.1  随机性和系统性 313 E}LYO:  
15.2  常见的系统性问题 314 9ozN$:  
15.3  单层膜 314 E]Dcb*t  
15.4  多层膜 314 9f1,E98w_  
15.5  含义 319 uJhB>/Og  
15.6  反演工程实例 319 Y_'3pX,  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 %P@V7n  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 `>'%!E9G  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 4}-{sS}MP  
16.1  光学性质的热致偏移 329 3msb"|DG  
16.2  应力工具 335 *f<+yF{=A  
16.3  均匀性误差 339 Z'=:Bo{  
16.3.1  圆锥工具 339 c"F3[mrff  
16.3.2  波前问题 341 &q8oalh  
16.4  参考文献 343 s9^r[l@W0U  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 xb8S)zO]Q  
17.1  引言 345 5jMI33D  
17.2  操作数 345 XM?>#^nC?u  
18  如何在Function中编写脚本 351 EGJ d:>k  
18.1  简介 351 T'C^,,if  
18.2  什么是脚本? 351 tE=;V) %we  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 e"g=A=S  
18.4  基础 352 PqUjBP\  
18.4.1  Classes(类别) 352 ArK%?*`5  
18.4.2  对象 352 =emcs%  
18.4.3  信息(Messages) 352 #POVu|Y;h  
18.4.4  属性 352 L?h'^*F H}  
18.4.5  方法 353 ~F; ~  
18.4.6  变量声明 353 *m$lAWB5D  
18.5  创建对象 354 )(CZK&<  
18.5.1  创建对象函数 355 t_ju[xL5B  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 2&b?NqEeZ  
18.5.3 丢弃对象 356 ' v)@K0P  
18.5.4  总结 356 , yd]R4M  
18.6  脚本中的表格 357 }Zuk}Og9+  
18.6.1  方法1 357 r~2>_LK  
18.6.2  方法2 357 ,ICn]Pdz@  
18.7 2D Plots in Scripts 358 |!Ryl}Oi  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ~(v7:?  
18.9  注释 360 fGtYvl O-5  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 gPT<%F  
18.11  一个更高级的脚本 362 _EEOBaZ  
18.12  <esc>键 364 3fBV SFVS  
18.13 包含文件 365 PAYS~MnV@3  
18.14  脚本被优化调用 366 b aO ^Z  
18.15  脚本中的对话框 368 "O (N=|b  
18.15.1  介绍 368 ?Sj >b   
18.15.2  消息框-MsgBox 368 _ZMAlC*$G  
18.15.3  输入框函数 370 s^\ *jZ6  
18.15.4  自定义对话框 371 HP,sNiw  
18.15.5  对话框编辑器 371 C srxi'Pe  
18.15.6  控制对话框 377 @yImR+^.7  
18.15.7  更高级的对话框 380 I,8f{T!O@"  
18.16 Types语句 384 n5qg6(Tl]  
18.17 打开文件 385 y]U]b G{  
18.18 Bags 387 %$Sm ei  
18.13  进一步研究 388 =Ts5\1sc>  
19  vStack 389 3u,CI!  
19.1  vStack基本原理 389 *r90IS}A$2  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 V9:Jz Q=?`  
19.3  五棱镜 393 -xVp}RLT  
19.4 光束距离 396 K HO@"+  
19.5 误差 399 =tS#t+2S  
19.6  二向分色棱镜 399 T%Nm  
19.7  偏振泄漏 404 VZ3{$0 +  
19.8  波前误差—相位 405 chC= $(5t  
19.9  其它计算参数 405 x$L(!ZDh  
20  报表生成器 406 wJAJ /  
20.1  入门 406 7B@ 1[  
20.2  指令(Instructions) 406 nDU=B.?E{O  
20.3  页面布局指令 406 U0J_ 3W  
20.4  常见的参数图和三维图 407 %iq8dAW%  
20.5  表格中的常见参数 408 ZZ*+Tl\ s  
20.6  迭代指令 408 b0| ;v-v  
20.7  报表模版 408 CM`B0[B  
20.8  开始设计一个报表模版 409 Y n7z#bu  
21  一个新的project 413 -_?U/k(Hi  
21.1  创建一个新Job 414 I6e[K(7NY  
21.2  默认设计 415 y>! 8mDvZ  
21.3  薄膜设计 416 'c/S$_r  
21.4  误差的灵敏度计算 420 A)%!9i)  
21.5  显色指数计算 422 8\VP)<<  
21.6  电场分布 424 , G2( l  
后记 426 ;O~k{5.iS  
DD fw& y  
oAprM Z 7Y  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 \=&F\EV  
,_M  
《Essential Macleod中文手册》
i9+qU  
csjCXT=Ve  
目  录  NIh?2w"\  
5HC5   
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 RRUv_sff  
第1章 介绍 ..........................................................1 &WKAg:^k)  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 1:;S6{oQ  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 z]/!4+  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 +mRc8G  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 $W;f9k@C!  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 92(P~Sdv  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 f\vMdY  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ( yK@(euG  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 ) #l&BV5  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 tjg?zlj  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 M(U<H;Csk  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 @j<Q2z^  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 QAzwNXE+  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 VOSq%hB  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 gvFs$X*^:  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ]4onY >  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 -2B3 xIZJ  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 %Y-5L;MI  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 0.kC|  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 Vji:,k=3\  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 aQ*?L l  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 |,Kk#`lW<f  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 5p]V/<r  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 P%aNbMg  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 {BY(zsl  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307  r m  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 VDFs.;:s  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 <Rfx`mn  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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