线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:785
时间地点 z6`0Uv~  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 B{/og*xd*1  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 MFq?mZ,  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 9 dNB _  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 *}]#E$  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
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特邀专家介绍 qm=U<'b^  
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易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 #Vum  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 ,7wYa&  
课程概要  dfFw6R  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 {~9zuNi  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 8&EJ. CQ  
课程大纲 qt L]x -O  
1. Essential Macleod软件介绍 HO<|EH~lu  
1.1 介绍软件 HGYTh"R  
1.2 创建一个简单的设计 s~OcL  5  
1.3 绘图和制表来表示性能 ,=+t2Bn  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 j sPavY  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 6Amt75RY  
1.6 特定设计的公式技术 \ ITd\)F%N  
1.7 交互式绘图 5Y+YN1  
2. 光学薄膜理论基础 1 iox0  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 !; >s.]  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 1 *' /B  
3. 材料管理 $IQPB_:  
3.1 材料模型 [RXLR#  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 >N#Nz 0|(  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 nT?+^Ruc  
3.4 基板光学常数的提取 rXW.F'=K6  
4. 光学薄膜设计优化方法 :a{dWgN  
4.1 参考波长与g E3 % ~!ZC  
4.2 四分之一规则 tMw65Xei6b  
4.3 导纳与导纳图 93*d:W8Vr  
4.4 斜入射光学导纳 g-K;J4 K%  
4.5 光学薄膜设计的进展 },d^y:m  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 j4;^5 Dy^  
4.6.1 优化目标设置 ?7fqWlB  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) ;U3:1hn  
4.6.3 膜层锁定和链接 C<_\{de|9  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 FO/cEu  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 2|j=^  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ^'=[+  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ^N^G?{EV/#  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 +.~K=.O)  
5.5 如何在Function中编写脚本 LM eI[Ji  
6. 光学薄膜系统案例 RNc:qV<H  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ;t*SG*Vi  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 A8tJ&O rwY  
6.3 Stack应用范例说明 Z7bJ<TpZ  
7. 薄膜性能分析 LF7 }gQs ^  
7.1 电场分布 2Vti|@JYp  
7.2 公差与灵敏度分析 3: GwX4yW  
7.3 反演工程 no8\Oees  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 ^ ##j {h7  
8. 真空技术 =Xvm#/  
8.1 常用真空泵介绍 E0I/]0  
8.2 真空密封和检漏 OH06{I>;  
9. 薄膜制备技术 vu)EB!%[  
9.1 常见薄膜制备技术 F'|K>!H  
10. 薄膜制备工艺 ho$}#o  
10.1 薄膜制备工艺因素 9 C)VW  
10.2 薄膜均匀性修正技术 J&j5@  
10.3 光学薄膜监控技术 IoL P*D  
11. 激光薄膜 5Xr})%L  
11.1 薄膜的损伤问题 VLV]e_D6s  
11.2 激光薄膜的制备流程 B9|s`o)!  
11.3 激光薄膜的制备技术 693"Pg8b  
12. 光学薄膜特性测量 :4AIYk=q  
12.1 薄膜光谱测量 )Wle CS_  
12.2 薄膜光学常数测量 O#k; O*s'  
12.3 薄膜应力测量 '4M{Xn}@  
12.4 薄膜损伤测量 /ckk qk"  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 Ye]K 74M.  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 G%k&|  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 gHc1_G]  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 5/Qu5/  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 K6-)l isf  
tf6-DmMH  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
`Njvk  
目录 sSfP.R  
Preface 1 7vXP|8j  
内容简介 2 J-/w{T8:  
目录 i C$0u-Nx8  
1  引言 1 H ~3.F  
2  光学薄膜基础 2 cWo>DuW&  
2.1  一般规则 2 qqo#H O  
2.2  正交入射规则 3 {96MfhkeBv  
2.3  斜入射规则 6 mKu,7nMvF  
2.4  精确计算 7 t]0DT_iE  
2.5  相干性 8 ~ Rk.x +  
2.6 参考文献 10 %0 {_b68x  
3  Essential Macleod的快速预览 10 Z$INmo6  
4  Essential Macleod的特点 32 w0;4O)H$O  
4.1  容量和局限性 33 Io*H}$Gf  
4.2  程序在哪里? 33 J:"@S%gy%  
4.3  数据文件 35 S`YT"|~  
4.4  设计规则 35 lr4wz(q<9  
4.5  材料数据库和资料库 37 Odwf7>  
4.5.1材料损失 38 xTu J~$(  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 eI"pRH*f  
4.5.2 材料库 41 p*5_+u  
4.5.3导出材料数据 43 pYzop4  
4.6  常用单位 43 CyLwCS{V\  
4.7  插值和外推法 46 "P?O1  
4.8  材料数据的平滑 50 T16gq-h'  
4.9 更多光学常数模型 54 h2x9LPLBxT  
4.10  文档的一般编辑规则 55 iJE:>qOTD5  
4.11 撤销和重做 56 1OExa<Zq  
4.12  设计文档 57 9,~7,Py}  
4.10.1  公式 58 mWYrUI  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 OS`jttU@  
4.10.3  沉积密度 59 Q*I8RAfd  
4.10.4 平行和楔形介质 60 9#7W+9  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 i$%Bo/Y   
4.10.4  性能 61 y+k^CT/u  
4.10.5  保存设计和性能 64 -a@e28Y  
4.10.6  默认设计 64 @@^iN~uf  
4.11  图表 64 fQC{Lc S  
4.11.1  合并曲线图 67 sQA_6]`  
4.11.2  自适应绘制 68 OnE%D|Tq=  
4.11.3  动态绘图 68 a(6h`GHo  
4.11.4  3D绘图 69 {e|.AD  
4.12  导入和导出 73 m W>Iib|  
4.12.1  剪贴板 73 :8eI_X  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 UH6 7<_mK  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 tqpO3  
4.13  背景 77 e`b#,=  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Z@dVK`nD  
4.15  生成Rugate 84 !@ ]IJ"\  
4.16  参考文献 91 b4dviYI  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 8Yk*$RR9  
5.1  Jobs 92 .B<Bqr@?8  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 UJh;Hp:  
5.3  输入材料 94 pD({"A.x9z  
5.4  设计数据文件夹 95 X-nC2[tu'W  
5.5  默认设计 95 W;=Ae~  
6  细化和合成 97 l+ >eb  
6.1  优化介绍 97 XfE9QA[  
6.2  细化 (Refinement) 98 1D#-,#?  
6.3  合成 (Synthesis) 100 JqMF9|{H  
6.4  目标和评价函数 101 .e0)@}Jv8>  
6.4.1  目标输入 102 TMMJ5\t2  
6.4.2  目标 103 _rB,N#{2R=  
6.4.3  特殊的评价函数 104 Dh8'og)7  
6.5  层锁定和连接 104 v]{UH {6  
6.6  细化技术 104 /a^ R$RHl'  
6.6.1  单纯形 105 HdxP:s.T  
6.6.1.1 单纯形参数 106 'o}[9ZBjn  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 [HY r|T  
6.6.2.1 Optimac参数 108 1Zn8CmE V  
6.6.3  模拟退火算法 109 \Aro Sy9  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 bD,X.  
6.6.4  共轭梯度 111 [s[ZOi!;I  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 R6(:l; W  
6.6.5  拟牛顿法 112 aA#79LS  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 -MS#YcsV  
6.6.6  针合成 113 G*+^b'7  
6.6.6.1 针合成参数 114 T%)E!:}v  
6.6.7 差分进化 114 lvWwr!w  
6.6.8非局部细化 115 exhU!p8  
6.6.8.1非局部细化参数 115 !\4B.  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 1X5g(B  
6.7.1  细化 116 VSY  p  
6.7.2  合成 117 h97#(_wV>  
6.8  参考文献 117 SdYf^@%}F  
7  导纳图及其他工具 118 IyHbl_ P ^  
7.1  简介 118 V_gKl;Kfe8  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 x ']'ODs  
7.2.1  四分之一波长规则 119 `5@F'tKQ  
7.2.2  导纳图 120 5_'lu  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 J;obh.}u"{  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 Z,#H\1v3lB  
7.5  斜入射导纳图 141 ;9k>; g3m  
7.6  对称周期 141 [o#% Eg;  
7.7  参考文献 142 ia'z9  
8  典型的镀膜实例 143 =|agW.l  
8.1  单层抗反射薄膜 145 >E+g.5 ,:W  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 JnsJ]_<  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 HGGq;Nbm  
8.4  W-膜层 148 .^{%hc*w4  
8.5  V-膜层 149 RA[j=RxK  
8.6  V-膜层高折射基底 150 S/5QK(XLC)  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 l@B9}Icq  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 NV4g5)D&L  
8.9  四层抗反射薄膜 153 nf /*n  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 G@H!D[wd  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 4=tR_s  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 iwJ_~   
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 d>hv-n D  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 geR+v+B,  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 qazA,|L!  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 /J#(8p  
8.17  1/4波长堆栈 162 2 DW @}[G  
8.18  陷波滤波器 163 TsTc3  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 o]oiJvOr  
8.20  褶皱 165 Kn~Rck| ]  
8.21  消偏振分光器1 169 =D/zC'l  
8.22  消偏振分光器2 171 >lRZvf-i  
8.23  消偏振立体分光器 172 _f[Q\gK  
8.24  消偏振截止滤光片 173 R p&J!hlA  
8.25  立体偏振分束器1 174 +%W8Juu  
8.26  立方偏振分束器2 177 i 6G40!G=)  
8.27  相位延迟器 178 Tzex\]fw  
8.28  红外截止器 179 B`}um;T#~,  
8.29  21层长波带通滤波器 180 f,HUr% @  
8.30  49层长波带通滤波器 181 5Ml=<^  
8.31  55层短波带通滤波器 182 G|g^yaq>  
8.32  47 红外截止器 183 r9 @=d  
8.33  宽带通滤波器 184 W*C~Xba<  
8.34  诱导透射滤波器 186 "Q.*  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ^AP8T8v  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 {z FME41>g  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 "@UQSf,  
8.35  增益平坦滤波器 193 3%Y:+%VE  
8.38  啁啾反射镜 1 196 &$ h~Q  
8.39  啁啾反射镜2 198 B3#G  
8.40  啁啾反射镜3 199 k]@]a  
8.41  带保护层的铝膜层 200 Uq  .6h  
8.42  增加铝反射率膜 201 )Z/"P\qo  
8.43  参考文献 202 "bo0O7InOV  
9  多层膜 204 P"w\hF  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 Rg?6eN  
9.2  内部透过率 204 Z4] n<~o  
9.3 内部透射率数据 205 P3_.U8g$r  
9.4  实例 206 <sH}X$/  
9.5  实例2 210 %T/@/,7h  
9.6  圆锥和带宽计算 212 bx3Q$|M?  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 USBQEt  
10  光学薄膜的颜色 216 P=94  
10.1  导言 216 BR2Gb~#T  
10.2  色彩 216 jo`ZuN{  
10.3  主波长和纯度 220 p-[WpY3  
10.4  色相和纯度 221 75^6?#GS  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ":Dm/g  
10.6 色差 226 ,>  zEG  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 3 t,_{9  
10.8  颜色渲染指数 234 8-2 `S*  
10.9  色差计算 235 Y9+_MxC"  
10.10  参考文献 236 0xB2  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 wX,V:QE  
11.1  短脉冲 238 %=aKW[uq]  
11.2  群速度 239 ?5C'9 V  
11.3  群速度色散 241 TekUY m!G  
11.4  啁啾(chirped) 245 #4^d#Gj  
11.5  光学薄膜—相变 245 UnhVppnex  
11.6  群延迟和延迟色散 246 L:G#>  
11.7  色度色散 246 iod%YjZu  
11.8  色散补偿 249 7>E.0DP  
11.9  空间光线偏移 256 "z~ba>,-\  
11.10  参考文献 258  ?%,NOX  
12  公差与误差 260 *M.xVUPr  
12.1  蒙特卡罗模型 260 V0nQmsP1U  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 \|;\  
12.2.1  误差工具 267 +hxG!o?O  
12.2.2  灵敏度工具 271 Wq1>Bj$J8  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 EApKN@<"  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 gYKz,$  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 d ]P~  
12.3  参考文献 276 TQa}Ps  
13  Runsheet 与Simulator 277 PVCoXOqh  
13.1  原理介绍 277 ~66xO9s  
13.2  截止滤光片设计 277 f9De!"*&  
14  光学常数提取 289 R?{+&r.X  
14.1  介绍 289 $]v}X},,  
14.2  电介质薄膜 289 t^rw@$"}  
14.3  n 和k 的提取工具 295 ?"B] "%M&  
14.4  基底的参数提取 302  F!omkN  
14.5  金属的参数提取 306 !|cg=  
14.6  不正确的模型 306 ~ Z\:Nx  
14.7  参考文献 311 tq3Wga!5  
15  反演工程 313 *r7v Dc  
15.1  随机性和系统性 313 Yd^@Ei9  
15.2  常见的系统性问题 314 .|UQ)J?s  
15.3  单层膜 314 u^80NR  
15.4  多层膜 314 G-aR%]7$g  
15.5  含义 319 $<}c[Nm  
15.6  反演工程实例 319 {Mx(|)WkL  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 Gz[yD ~6a  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 F@w; .e!  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 xs$$fPAQ  
16.1  光学性质的热致偏移 329 3*b5V<}'|  
16.2  应力工具 335 bF'rK'',  
16.3  均匀性误差 339 %`Re {%1;  
16.3.1  圆锥工具 339 w0pMH p'Y  
16.3.2  波前问题 341 YG p+[|'  
16.4  参考文献 343 zw0w."V  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 %bW_,b  
17.1  引言 345 xP;r3u s  
17.2  操作数 345 C8N)!5(A  
18  如何在Function中编写脚本 351 !rvEo =^  
18.1  简介 351 )Fw/Cu  
18.2  什么是脚本? 351 +.G"ool  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 e[S`Dm"i)'  
18.4  基础 352 p?@ %/!S  
18.4.1  Classes(类别) 352 'rQ"Dc1D  
18.4.2  对象 352 .g*j]!_]  
18.4.3  信息(Messages) 352 @f!X%)\;x  
18.4.4  属性 352 KyvZ? R  
18.4.5  方法 353 ?$r`T]>`2  
18.4.6  变量声明 353 d0 cL9&~qW  
18.5  创建对象 354 NFK`,  
18.5.1  创建对象函数 355 $6hPTc<C  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 @ZKf3,J0  
18.5.3 丢弃对象 356 8)i""OD@I  
18.5.4  总结 356 f8 d 3ZK  
18.6  脚本中的表格 357 _T=g?0 q  
18.6.1  方法1 357 r~w.J+W  
18.6.2  方法2 357 '%)R}wgV  
18.7 2D Plots in Scripts 358 VJh8`PVX  
18.8 3D Plots in Scripts 359 4zug9kFK  
18.9  注释 360 9>""xt  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 <Au2e  
18.11  一个更高级的脚本 362 c\bL_  
18.12  <esc>键 364 )G? qX.D  
18.13 包含文件 365 wb-yAQ8  
18.14  脚本被优化调用 366 vW63j't_  
18.15  脚本中的对话框 368 IgT`on3Y  
18.15.1  介绍 368 B5e9'X^ [  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 D28`?B9 (  
18.15.3  输入框函数 370 +/:tap|V  
18.15.4  自定义对话框 371 Dn- gP  
18.15.5  对话框编辑器 371 D7Q+w  
18.15.6  控制对话框 377 gr=h!'m  
18.15.7  更高级的对话框 380 p7h#.m~Qu  
18.16 Types语句 384 1+o]+Jz|  
18.17 打开文件 385 x3@-E  
18.18 Bags 387 f)I5=Ijy(  
18.13  进一步研究 388 _KT!OYH  
19  vStack 389 jYsAL=oh,*  
19.1  vStack基本原理 389 N^^0j,  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 #cbgp;,M{I  
19.3  五棱镜 393 |(7}0]BP0  
19.4 光束距离 396 OWd'z1Yl  
19.5 误差 399 8;PkuJR_]  
19.6  二向分色棱镜 399 ,Q`qnn&  
19.7  偏振泄漏 404 Bq0 \T 0,  
19.8  波前误差—相位 405 U ZZJtQt  
19.9  其它计算参数 405 X/!_>@`7?  
20  报表生成器 406 O&`.R|v  
20.1  入门 406 NnZW@ln"|  
20.2  指令(Instructions) 406 "fFSZ@,r  
20.3  页面布局指令 406 ?KT{H( rU  
20.4  常见的参数图和三维图 407 Bqx5N"  
20.5  表格中的常见参数 408 \P\Z<z7jy  
20.6  迭代指令 408 i`,FXF)  
20.7  报表模版 408 ?Ua,ba*  
20.8  开始设计一个报表模版 409 Vej$|nF  
21  一个新的project 413 Zg;$vIhn  
21.1  创建一个新Job 414 UHBXq;?&q  
21.2  默认设计 415 pO]gf$  
21.3  薄膜设计 416 ">A<%5F2  
21.4  误差的灵敏度计算 420 *Cy54Z#  
21.5  显色指数计算 422 &&ioGy}1  
21.6  电场分布 424 N2r zHK  
后记 426 .UyE|t4  
V0ze7tSG[f  
jX53 owZ  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 7y=>Wa?T[  
p [O6  
《Essential Macleod中文手册》
=8^+M1I  
!(s n9z#  
目  录 =Q#I@SVp2$  
5>532X(0  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 -@To<<`n  
第1章 介绍 ..........................................................1 OATdmHW  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 ?u|??z%  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 z^Q'GBoBA  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 XxqGsGx4  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 [m~J6WB  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 7Q 3!= b  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 &$"#hGg  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 "gJ?LojB<  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 b F=MQ  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Hq@+m!  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 3^xUN|.F*V  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 \j8vf0c5b  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 _k84#E0  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 U>5^:%3  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 c{#2;k Q,  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 H R>Y?B{  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 CK* * RZ  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 R|; BO:S1  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 oqrx7 +0{  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 >KKWhJ  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ]8$8QQc<<5  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 5Rqdo\vE  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289  C=D*  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 'Waa zk[@O  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 I16FVdUun4  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 gF6> /  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 IUMv{2C  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 W"{Ggk `  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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