线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1193
时间地点 "|8oFf)l@B  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 (A~7>\r +  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 StI N+S@Z  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 MLWHO$C~T  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 dVb6u  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
IA`voO$  
特邀专家介绍 7_\sx7h{3  
Nj>6TD81u  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 0zr27ko  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 D^6*Cwb  
课程概要 w<9rTHG8,  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 EwPrh  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 6iU&9Z<%  
课程大纲 qi,) l*?f  
1. Essential Macleod软件介绍 .t@|2  
1.1 介绍软件 K}l3t2uk  
1.2 创建一个简单的设计 /whaY4__O\  
1.3 绘图和制表来表示性能 ~~/,2^   
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 ]M5~p^ RB  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) :TQp,CEa  
1.6 特定设计的公式技术 ;\RV C 7  
1.7 交互式绘图 TWRP|i!i  
2. 光学薄膜理论基础 H+[?{+"#@l  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 kOQ)QX  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 B(W~]i  
3. 材料管理 Av.tr&ZNb  
3.1 材料模型 lCU clD  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 3:WqUb\QK  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 f]NLR>$L}  
3.4 基板光学常数的提取 N )Z>]&5  
4. 光学薄膜设计优化方法 D]@(LbMG4  
4.1 参考波长与g v}$Q   
4.2 四分之一规则 $Z G&d  
4.3 导纳与导纳图 At.& $ t  
4.4 斜入射光学导纳 , /.@([C  
4.5 光学薄膜设计的进展 (K[{X0T  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 JqzoF}WH  
4.6.1 优化目标设置 `yfZ{<  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) xTAfV N  
4.6.3 膜层锁定和链接 2b$>1O&2  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 9+ 1{a.JO  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 _5p$#U`  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 WzzA:X  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 TUp\,T^2  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 |=}+%>y_  
5.5 如何在Function中编写脚本 ]K(a32VCH  
6. 光学薄膜系统案例  :xsZz$  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 lO-DXbgql$  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 N'2?Zb  
6.3 Stack应用范例说明 M}|(:o3Yo  
7. 薄膜性能分析 #z(:n5$F  
7.1 电场分布 1TZ[i  
7.2 公差与灵敏度分析 m^ xTV-#l@  
7.3 反演工程 gNZwD6GMe?  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 nd' D0<%  
8. 真空技术 NN4Z:6W5  
8.1 常用真空泵介绍 Oa/^A-'Q  
8.2 真空密封和检漏 XVs]Y'* x  
9. 薄膜制备技术 d'_q9uf'  
9.1 常见薄膜制备技术 Km5_P##  
10. 薄膜制备工艺 Exw d,2>  
10.1 薄膜制备工艺因素 /4r2B. 91O  
10.2 薄膜均匀性修正技术 #ZZe*B!s_  
10.3 光学薄膜监控技术 )la3GT*1mS  
11. 激光薄膜 \'y]mB~k  
11.1 薄膜的损伤问题 !RKuEg4hQ  
11.2 激光薄膜的制备流程 }U7IMONU  
11.3 激光薄膜的制备技术 N]W*ei  
12. 光学薄膜特性测量 F8w7N$/V",  
12.1 薄膜光谱测量 M ygCg(h  
12.2 薄膜光学常数测量 1| sem(t  
12.3 薄膜应力测量 )?72 +X  
12.4 薄膜损伤测量 ci;2XLAM  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 NO*, }aeG  
C@qWour  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
6m&GN4Ca  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
ika*w  
内容简介 aqSOC(jU  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 1EV bGe%b  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 L\4rvZa  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 sPK]:i C  
DGJ:#U E  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
J^"_H:1[  
目录 |)7K(R)(=  
Preface 1 EP38Ho=[  
内容简介 2 R,T0!f  
目录 i XGZZKvp  
1  引言 1 s4Ja y!A  
2  光学薄膜基础 2 R6<'J?k  
2.1  一般规则 2 F>.y>h  
2.2  正交入射规则 3 ?h`,@~6u  
2.3  斜入射规则 6 'wPX.h?  
2.4  精确计算 7 s $(%]~P  
2.5  相干性 8 F.TIdkvp  
2.6 参考文献 10 3Y P! B=  
3  Essential Macleod的快速预览 10 qBk[Afjgz  
4  Essential Macleod的特点 32 ,i*rHMe  
4.1  容量和局限性 33 tM5(&cQ!d  
4.2  程序在哪里? 33 XB'rh F8rl  
4.3  数据文件 35 Cx;it/8+  
4.4  设计规则 35 M Q =x:p{  
4.5  材料数据库和资料库 37 "*zDb|v  
4.5.1材料损失 38 +/&rO,Ql  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 p7+{xXf  
4.5.2 材料库 41 2@(+l*.Q  
4.5.3导出材料数据 43 /,:cbpHsu  
4.6  常用单位 43 D0#U*tq;  
4.7  插值和外推法 46 6ud?US(  
4.8  材料数据的平滑 50 ywm"{ U? 8  
4.9 更多光学常数模型 54 JSg=9p$  
4.10  文档的一般编辑规则 55 ;FlDRDZ%  
4.11 撤销和重做 56 A]"6/Lr9P  
4.12  设计文档 57 ,8*A#cT B  
4.10.1  公式 58 @yGnrfr  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ,% yC4  
4.10.3  沉积密度 59 di_N}x*  
4.10.4 平行和楔形介质 60 x6>WvF Z  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 }*XF- U  
4.10.4  性能 61 ~/4j&IG  
4.10.5  保存设计和性能 64 BSS4}qyS  
4.10.6  默认设计 64 ]oix))'n  
4.11  图表 64 tln}jpCw  
4.11.1  合并曲线图 67 ^Ip\`2^u  
4.11.2  自适应绘制 68 ?o V.SG'  
4.11.3  动态绘图 68 ~RLjL"  
4.11.4  3D绘图 69 KUW )F  
4.12  导入和导出 73 f$ /C.E  
4.12.1  剪贴板 73 [ GknE#p  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 o ^w^dgJ  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 L^^f.w#m  
4.13  背景 77 Z+R-}<   
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 -X EK[  
4.15  生成Rugate 84 J{Ij  
4.16  参考文献 91 e>Q:j_?.e  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 b0f6?s  
5.1  Jobs 92 6jr}l  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 >Dv=lgPF  
5.3  输入材料 94 2aivc,m{r  
5.4  设计数据文件夹 95 !OV+2suu1  
5.5  默认设计 95 7OZ0;fK  
6  细化和合成 97 7TX$  
6.1  优化介绍 97 #\~m}O,  
6.2  细化 (Refinement) 98 ;|rFP  
6.3  合成 (Synthesis) 100 -b%' K}.C  
6.4  目标和评价函数 101 U&kdR+dB  
6.4.1  目标输入 102 *[nS*D\:  
6.4.2  目标 103 :@~3wD[y  
6.4.3  特殊的评价函数 104 @ 6jKjI  
6.5  层锁定和连接 104  mznE Cy  
6.6  细化技术 104 9MRe?  
6.6.1  单纯形 105 /\jRr7 Cd  
6.6.1.1 单纯形参数 106 \XY2s&"  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 g[2[ zIB=  
6.6.2.1 Optimac参数 108 Qe[ai?iJkt  
6.6.3  模拟退火算法 109 I~ SFY>s  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 Y0'~u+KS`5  
6.6.4  共轭梯度 111 b4^a zY  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 <Dnv=)Rq  
6.6.5  拟牛顿法 112 pv|D{39Hs  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ZCuh^  
6.6.6  针合成 113 iaJN~m\ M  
6.6.6.1 针合成参数 114 P`hg*"<V  
6.6.7 差分进化 114 !Je!;mEvI  
6.6.8非局部细化 115 kD+B8TrW  
6.6.8.1非局部细化参数 115 NLWj5K)1P  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 b#e|#!Je  
6.7.1  细化 116 Y%rC\Ij/i  
6.7.2  合成 117 >*w(YB]/$V  
6.8  参考文献 117 Rm.9`<Y  
7  导纳图及其他工具 118 4pu>f.  
7.1  简介 118 vP<8 ,XG  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 ~o ;*{ Q  
7.2.1  四分之一波长规则 119 l&Fx< W  
7.2.2  导纳图 120 fwyz|>H_Y(  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ]kkH|b$[T  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 'UCF2 L  
7.5  斜入射导纳图 141 =dC5q{  
7.6  对称周期 141 +QrbW  
7.7  参考文献 142 {u7_<G7  
8  典型的镀膜实例 143 &_6B{Q  
8.1  单层抗反射薄膜 145 g|3FJA/  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 bO{wQ1)Z_  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 .!Q[kn0a  
8.4  W-膜层 148 rUF= uO(  
8.5  V-膜层 149 x:Tm4V{  
8.6  V-膜层高折射基底 150 0Z[8d0  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 7+p=4i^@Zs  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 d 'wWj  
8.9  四层抗反射薄膜 153 EEp,Z`  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 a_(vpD^  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 *C(XGX\?-  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 Q[F$6m%o  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 D(S^g+rd  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 4THGHS^  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 93N:?B9  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 n|iO)L\9aB  
8.17  1/4波长堆栈 162 r(qU~re'  
8.18  陷波滤波器 163 1@0ZP~LTB  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 a)8M'f_z  
8.20  褶皱 165 #PRkqg+|  
8.21  消偏振分光器1 169 ?\Jl] {i2  
8.22  消偏振分光器2 171 l<nL8/5{<  
8.23  消偏振立体分光器 172 '%9e8C|  
8.24  消偏振截止滤光片 173 *e05{C:kS  
8.25  立体偏振分束器1 174 ]^^mJt.Iv  
8.26  立方偏振分束器2 177 a2un[$Jq`  
8.27  相位延迟器 178 1vBXO bk  
8.28  红外截止器 179 y| %rW  
8.29  21层长波带通滤波器 180 Ol]+l]  
8.30  49层长波带通滤波器 181 {o[ *S%Z"  
8.31  55层短波带通滤波器 182 n P4DHb&5  
8.32  47 红外截止器 183 S2fBZ=V8  
8.33  宽带通滤波器 184 #}!Ge  
8.34  诱导透射滤波器 186 toCT5E_0=  
8.35  诱导透射滤波器2 188 Fn!kest  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 3v%V\kO=F  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 V"@]PI pr  
8.35  增益平坦滤波器 193 }A`4ae=  
8.38  啁啾反射镜 1 196 }A%Sx!7~  
8.39  啁啾反射镜2 198 #Hr>KQ5mJQ  
8.40  啁啾反射镜3 199 4`7:gfrO,  
8.41  带保护层的铝膜层 200 /uzU]3KF~  
8.42  增加铝反射率膜 201 Wf=D'6w  
8.43  参考文献 202 G u-#wv5@  
9  多层膜 204 /u 8m|S<  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 hIPU%  
9.2  内部透过率 204 W`^Zb[  
9.3 内部透射率数据 205 LMrb 1lg$  
9.4  实例 206 IPoNAi<b  
9.5  实例2 210 z\8Kz ]n~  
9.6  圆锥和带宽计算 212 -P<e-V%<  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 AVA hS}*t  
10  光学薄膜的颜色 216 tQ:)j^\  
10.1  导言 216 viT/$7`AI  
10.2  色彩 216 g3(fhfR'RN  
10.3  主波长和纯度 220 zR+EJFf  
10.4  色相和纯度 221 y#Ao6Od6  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 h+! Ld^'c  
10.6 色差 226 RAQi&?Ko  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 [g:ZIl4p\P  
10.8  颜色渲染指数 234 w"O^CR)  
10.9  色差计算 235 [ENm(e$sI  
10.10  参考文献 236 Ii /#cdgF  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 fKMbOqU_  
11.1  短脉冲 238 Lh6G"f(n  
11.2  群速度 239 &C+pen) Z  
11.3  群速度色散 241 LuB-9[^<  
11.4  啁啾(chirped) 245 uFIr.U$V  
11.5  光学薄膜—相变 245 7W6tz\Y  
11.6  群延迟和延迟色散 246 g jJ?*N[  
11.7  色度色散 246 k ckWBL  
11.8  色散补偿 249 eEkF Zx  
11.9  空间光线偏移 256 Yqy7__vm  
11.10  参考文献 258 3EN?{T<yf  
12  公差与误差 260 ~1Q$FgLk  
12.1  蒙特卡罗模型 260 lz1l1.f8  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 3eqnc),Z  
12.2.1  误差工具 267 vcnUb$%  
12.2.2  灵敏度工具 271 W|oLS  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 y1!c:&  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ika/ GG  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 o })k@-oL  
12.3  参考文献 276 *wcb5p  
13  Runsheet 与Simulator 277 cTpAU9|(  
13.1  原理介绍 277 8S[`(] )  
13.2  截止滤光片设计 277 mr]IxTv  
14  光学常数提取 289 rYbb&z!u  
14.1  介绍 289 SyFO f  
14.2  电介质薄膜 289 Bkvh]k;F8  
14.3  n 和k 的提取工具 295 q$Z.5EN  
14.4  基底的参数提取 302 u;m[,  
14.5  金属的参数提取 306 6C>"H  
14.6  不正确的模型 306 )2KQZMtgm]  
14.7  参考文献 311 /(Se:jH$>  
15  反演工程 313 pJ7M.C!  
15.1  随机性和系统性 313 7KOM,FWKe  
15.2  常见的系统性问题 314 e$M \HPc  
15.3  单层膜 314 S+G!o]&2  
15.4  多层膜 314 &)@|WLW  
15.5  含义 319 o;+$AU1f  
15.6  反演工程实例 319 &R:$h*Wt|  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 E(F<shT#  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 V )CS,w  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 :!a'N3o>  
16.1  光学性质的热致偏移 329 C~IsYdln  
16.2  应力工具 335 Zb<IZ)i#1  
16.3  均匀性误差 339 C=& 7V  
16.3.1  圆锥工具 339 E Z95)pk  
16.3.2  波前问题 341 j^ VAA\  
16.4  参考文献 343 :uE:mY%R  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 3[plwe  
17.1  引言 345 E?1"&D m  
17.2  操作数 345 IKx]?0sS  
18  如何在Function中编写脚本 351 aV?dy4o$  
18.1  简介 351 <<}t&qE%2%  
18.2  什么是脚本? 351 QZ!;` ?(  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 !iBe/yb  
18.4  基础 352 n4Od4&r  
18.4.1  Classes(类别) 352 Fdsaf[3[v  
18.4.2  对象 352 BFP (2j  
18.4.3  信息(Messages) 352 t .*z)N  
18.4.4  属性 352 Ff xf!zS  
18.4.5  方法 353 =~M%zdIXv  
18.4.6  变量声明 353 5}d"nx  
18.5  创建对象 354 }!=}g|z#|  
18.5.1  创建对象函数 355 rxZ%vzVQ>  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 $\BRX\6(-  
18.5.3 丢弃对象 356 ,f ..46G  
18.5.4  总结 356 k*)O]M<,  
18.6  脚本中的表格 357 tW4|\-E"s4  
18.6.1  方法1 357 "L yMw){  
18.6.2  方法2 357 }TjiYA.  
18.7 2D Plots in Scripts 358 7#K%Bo2pG  
18.8 3D Plots in Scripts 359 i;4|UeUl  
18.9  注释 360 4FK|y&p4r  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 *k)v#;B  
18.11  一个更高级的脚本 362 ? +{=>{1  
18.12  <esc>键 364 4 [2^#t[  
18.13 包含文件 365 !QK ~l  
18.14  脚本被优化调用 366 h/u>F$}c  
18.15  脚本中的对话框 368 P70\ |M0~y  
18.15.1  介绍 368 "RPX_  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 rv>K0= t0  
18.15.3  输入框函数 370 1<Fh aK  
18.15.4  自定义对话框 371 QJ{to%  
18.15.5  对话框编辑器 371 |3\$\qa  
18.15.6  控制对话框 377 _jkH}o '  
18.15.7  更高级的对话框 380 "Uy==~  
18.16 Types语句 384 ,VK! 3$;|  
18.17 打开文件 385 6- H81y 3  
18.18 Bags 387 P e_mX*0  
18.13  进一步研究 388 f( (p\ &y  
19  vStack 389 S}zh0`+d'Z  
19.1  vStack基本原理 389 (ATvH_Z  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 99Jk<x k  
19.3  五棱镜 393 XEd|<+P1  
19.4 光束距离 396 5r1{l%?  
19.5 误差 399 q^nSYp#  
19.6  二向分色棱镜 399 ~I^}'^Dbb  
19.7  偏振泄漏 404 mQ#E{{:H+  
19.8  波前误差—相位 405 Fa]fSqy@;  
19.9  其它计算参数 405 4h:R+o ^H^  
20  报表生成器 406 S,&tKDJn  
20.1  入门 406 = ~{n-rMF  
20.2  指令(Instructions) 406 }q0lbwYlb  
20.3  页面布局指令 406 4}nsW}jCc  
20.4  常见的参数图和三维图 407 B-63IN  
20.5  表格中的常见参数 408 ~_vzss3-C  
20.6  迭代指令 408 =Rnx!E  
20.7  报表模版 408 Q8:`;W  
20.8  开始设计一个报表模版 409 b?&=gm%oU  
21  一个新的project 413 U'IJwGRP  
21.1  创建一个新Job 414 ]KX _a1e  
21.2  默认设计 415 "]BefvE  
21.3  薄膜设计 416 ).+!/x  
21.4  误差的灵敏度计算 420 -OLXRc=  
21.5  显色指数计算 422 [kc%+j<g  
21.6  电场分布 424 n ,<`.^  
后记 426 Mp;yvatO  
J:M)gh~#  
.\*3t/R=X  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ![H!Y W'  
,l[h9J  
《Essential Macleod中文手册》
&&C]i~  
d\nBc6  
目  录 BV=L.*  
H*U\P2C!)  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 cE x$cZRMI  
第1章 介绍 ..........................................................1 *|c*/7]<  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 ?Z}n0E `  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 ~<0!sE&y  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 7h?yAgDv~  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 I+ipTeB^  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ,6[}qw) *  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 \-c8/=  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 B"O5P>  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 PPCZT3c=  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 13s0uyYU<m  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 #k%3Ag  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 MxiU-  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 Gmcx#?|Tx  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 =l`xXma  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 1\d$2N"  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 f[)_=T+  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 rQNT  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 #80*3vi~F  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 <@C Bc:j0  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 @Kri)U i  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 7pNTCZY|  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 +NRn>1]  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 0D1yG(ck  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 0y4z`rzTn  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 YBgHX [q  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 4+mawyM  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 fM]McZ9)D  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 FAu G`zu  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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