线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1321
时间地点 06jqQ-_`h  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 +`?Y?L^ J  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 C9p"?vX  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 [O: !(G je  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 /}-CvSR  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
<uj 8lctmP  
特邀专家介绍 aF03a-qw<  
jxYc2  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 !w&kyW?e  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 R<B7K?SxV~  
课程概要  i2~  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 cwGbSW$t  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 OY?y^45y  
课程大纲 Df3rV'/~  
1. Essential Macleod软件介绍 R8.CC1Ix  
1.1 介绍软件 Y@PI {;!  
1.2 创建一个简单的设计 2NB L}x  
1.3 绘图和制表来表示性能 q^6+!&"  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 V!)O6?l  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) j0@[Br%7  
1.6 特定设计的公式技术 42]pYm(jk3  
1.7 交互式绘图 DY[$"8Kxcp  
2. 光学薄膜理论基础 =4h+ M$2  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 'M3">$N  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ~o n(3|$  
3. 材料管理 j <o3JV  
3.1 材料模型 #-h\.#s  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 kI%%i>Y}  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 k}~O}~-  
3.4 基板光学常数的提取 mFHH515  
4. 光学薄膜设计优化方法 jsNF#yE>  
4.1 参考波长与g PTj&3`v  
4.2 四分之一规则 [Y`,qB<B  
4.3 导纳与导纳图 7'OtruJ   
4.4 斜入射光学导纳 I$8" N]/C  
4.5 光学薄膜设计的进展 L\;6y*K  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 _'#x^D  
4.6.1 优化目标设置 a ^%"7Ri  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) hR.@b*q?R  
4.6.3 膜层锁定和链接 ^B+!N;  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 -,["c9'3  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 j;+?HbL  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 SXt{k<|  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Z{H5oUk  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 A'nq}t 3  
5.5 如何在Function中编写脚本 v!%5&: c3  
6. 光学薄膜系统案例 8XsguC  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ^Idle*+  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 Vx @|O%  
6.3 Stack应用范例说明 $y b4xU  
7. 薄膜性能分析 +*_5tWAc  
7.1 电场分布 ApjOj/  
7.2 公差与灵敏度分析 DS<  }@  
7.3 反演工程 ]^6c8sgnR  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 {aM<{_v  
8. 真空技术 T 6~_Q}6  
8.1 常用真空泵介绍 UQ4% Xp  
8.2 真空密封和检漏 6)BR+U  
9. 薄膜制备技术 M?;y\vS?.  
9.1 常见薄膜制备技术 8iekEG$H  
10. 薄膜制备工艺 5/O'R9A4  
10.1 薄膜制备工艺因素 D\e8,,H  
10.2 薄膜均匀性修正技术 q7&6r|w1I  
10.3 光学薄膜监控技术 bBY^+c<  
11. 激光薄膜 Ka,^OW}<%q  
11.1 薄膜的损伤问题 Ye.r%i &  
11.2 激光薄膜的制备流程 asC_$tsMe  
11.3 激光薄膜的制备技术 [b$4Shx  
12. 光学薄膜特性测量 %8~3M75$  
12.1 薄膜光谱测量 owPm/F  
12.2 薄膜光学常数测量 y_.!!@,  
12.3 薄膜应力测量 It75R}B   
12.4 薄膜损伤测量 KWWa&[ev)  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 YTw#J OO  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
Vi$-Bw$@  
内容简介 v 36%Pj`  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 )IJQeC  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ]Ta N{"  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 b?eu jxqg  
7h)iu9j  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
)>c>oMgl  
目录 TB;o~>9U  
Preface 1 ^OErq&`u  
内容简介 2 ~i.k$XGA  
目录 i $t/x;< .H  
1  引言 1 C R|lt  
2  光学薄膜基础 2 )+Oujt  
2.1  一般规则 2 nB] >!q  
2.2  正交入射规则 3 K'h1szW  
2.3  斜入射规则 6 #A8@CA^d  
2.4  精确计算 7 q5 L51KP2  
2.5  相干性 8 W}|'#nR  
2.6 参考文献 10 xB !6_VlB  
3  Essential Macleod的快速预览 10 C^ )*Dsp  
4  Essential Macleod的特点 32 ko^\ HSXl  
4.1  容量和局限性 33 R CkaJ3  
4.2  程序在哪里? 33 ~g7l8H67  
4.3  数据文件 35 %2V-~.Ro6  
4.4  设计规则 35 !'Q -yoHKD  
4.5  材料数据库和资料库 37 0dh=fcb  
4.5.1材料损失 38 FV,4pi  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 $fgf Y8  
4.5.2 材料库 41 !s@Rok  
4.5.3导出材料数据 43 dZ _zg<  
4.6  常用单位 43 1 n%?l[o  
4.7  插值和外推法 46 wR{'y)$  
4.8  材料数据的平滑 50 -)~SM&  
4.9 更多光学常数模型 54 X<R?uI?L  
4.10  文档的一般编辑规则 55 jg&E94}+  
4.11 撤销和重做 56 !a~`Bs$'jr  
4.12  设计文档 57 Nl' )l"  
4.10.1  公式 58 hkO sm6  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 :eZh'-c?  
4.10.3  沉积密度 59 BI j=!!  
4.10.4 平行和楔形介质 60 yAN=2fZm  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 [p=*u,-  
4.10.4  性能 61 1EyL#;k  
4.10.5  保存设计和性能 64 D/=5tOy  
4.10.6  默认设计 64 &gI~LP  
4.11  图表 64 M4WiT<|]R  
4.11.1  合并曲线图 67 A_;8IlW  
4.11.2  自适应绘制 68 [ 4;Ii  
4.11.3  动态绘图 68 )(7&X45,k  
4.11.4  3D绘图 69 \a+(=s(;  
4.12  导入和导出 73 TO-$B8*nq  
4.12.1  剪贴板 73 9 fMau  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 XO <y +  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 1jX3ey~  
4.13  背景 77 5Q=P4w!'  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 & /4k7X}y  
4.15  生成Rugate 84 ,TRTRb;  
4.16  参考文献 91 5E0eyW  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 z]3 `*/B  
5.1  Jobs 92 Er k?}E  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 #oJ5k8Wy  
5.3  输入材料 94 Od?qz1  
5.4  设计数据文件夹 95 oDcKtB+2  
5.5  默认设计 95 pZyQY+O  
6  细化和合成 97 _sy'.Fo  
6.1  优化介绍 97 ?GTU=gp Q  
6.2  细化 (Refinement) 98 qT/Do?Y  
6.3  合成 (Synthesis) 100 _ %%Z6x(  
6.4  目标和评价函数 101 $v8l0JA *  
6.4.1  目标输入 102 5 |/9}^T  
6.4.2  目标 103 8UkKU_Uso  
6.4.3  特殊的评价函数 104 StI1){Wf  
6.5  层锁定和连接 104 C%~a`e|/Y  
6.6  细化技术 104 >E,U>@+  
6.6.1  单纯形 105 kcDyuM`  
6.6.1.1 单纯形参数 106 Ys8SDlMo  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107  9dzdrT  
6.6.2.1 Optimac参数 108  d^(1TNS  
6.6.3  模拟退火算法 109 Eq:2k)BE  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 +wW@'X  
6.6.4  共轭梯度 111 TPE:e)GO  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 na^sBq?\  
6.6.5  拟牛顿法 112 {J5JYdK  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 {7Mj P+\  
6.6.6  针合成 113 *1@:'rJ  
6.6.6.1 针合成参数 114 j6(?D*x  
6.6.7 差分进化 114 ~ 7)A"t  
6.6.8非局部细化 115 HMY@F_qY`u  
6.6.8.1非局部细化参数 115 E VQ0l@K  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 L_em')  
6.7.1  细化 116 1b9hE9a{j  
6.7.2  合成 117 9%sM*[A  
6.8  参考文献 117 [i]r-|_K  
7  导纳图及其他工具 118 U.T|   
7.1  简介 118 H.G!A6bd  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 #%@MGrsK  
7.2.1  四分之一波长规则 119 -6 sW6;Q  
7.2.2  导纳图 120 AOrHU M[I  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 0J~Qq]g  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 :c8n[+5  
7.5  斜入射导纳图 141 fa.0I~  
7.6  对称周期 141 6b~28  
7.7  参考文献 142 }1-I[q6  
8  典型的镀膜实例 143 3 ?&h^UX  
8.1  单层抗反射薄膜 145 F~U!1)  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 F^!mI7Z|(2  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 #=}$OFg  
8.4  W-膜层 148 ~:_0CKa!  
8.5  V-膜层 149 Q+i\8RJ  
8.6  V-膜层高折射基底 150 =8=!Yc(>  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 l2hG$idC  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 B pLEPuu30  
8.9  四层抗反射薄膜 153 kcB+_  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 TOLl@p]lU  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 #pdUJ2)yM  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 Ml>( tec  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 7m5Co>NkuK  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 {F|48P;J  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 _x1EZ&dh  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 bXM/2Z?6  
8.17  1/4波长堆栈 162 =neL}Fav56  
8.18  陷波滤波器 163 8cHE[I  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 u1K\@jlw  
8.20  褶皱 165 AY_Q""v  
8.21  消偏振分光器1 169 P,bd'  
8.22  消偏振分光器2 171 )y7_qxwbV  
8.23  消偏振立体分光器 172 D&hqV)d4R  
8.24  消偏振截止滤光片 173 L(&}Wv  
8.25  立体偏振分束器1 174 6Gn4asoA  
8.26  立方偏振分束器2 177 /-0' Qa+*  
8.27  相位延迟器 178 UBO^EVJ  
8.28  红外截止器 179 Ul Mi.;/^  
8.29  21层长波带通滤波器 180 3}&ZOO   
8.30  49层长波带通滤波器 181 &~5=K  
8.31  55层短波带通滤波器 182 >CgO<\  
8.32  47 红外截止器 183 >{Rb 3Z]  
8.33  宽带通滤波器 184 +yt6(7V*  
8.34  诱导透射滤波器 186 yZ}d+7T}  
8.35  诱导透射滤波器2 188 <M[U#Q~?~e  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 Uz8hANN0_  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 Tvf~P w  
8.35  增益平坦滤波器 193 ;)!"Ty|  
8.38  啁啾反射镜 1 196 C>|@& o1  
8.39  啁啾反射镜2 198 w\|Ei(  
8.40  啁啾反射镜3 199 F@YV]u>N  
8.41  带保护层的铝膜层 200 f1+qXMs  
8.42  增加铝反射率膜 201 Qs+k)e,  
8.43  参考文献 202 Fm j=  
9  多层膜 204 r>qA $zD^  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 6 o[/F3`  
9.2  内部透过率 204 <6N_at3  
9.3 内部透射率数据 205 !}&" W,,0  
9.4  实例 206 V"d=.Hb>  
9.5  实例2 210 E*v]:kok  
9.6  圆锥和带宽计算 212 WBppKj_M  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 H)JS0 G0  
10  光学薄膜的颜色 216 $T dC/#7  
10.1  导言 216 5A_4\YpDR  
10.2  色彩 216 9F_6}.O  
10.3  主波长和纯度 220 Z^tGu7x  
10.4  色相和纯度 221 ? J|4l[x  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 1 ycc5=.  
10.6 色差 226 (M% ;~y\  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 c>Z*/>~  
10.8  颜色渲染指数 234 @oH[SWx  
10.9  色差计算 235 kN'Thq/ZE  
10.10  参考文献 236 z<a2cQ?XQ  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 Ob&W_D^=N  
11.1  短脉冲 238 >,g5Hkmqr  
11.2  群速度 239 A_r<QYq0|  
11.3  群速度色散 241 -ID!pTvW  
11.4  啁啾(chirped) 245 F ! )-|n}  
11.5  光学薄膜—相变 245 P%GkcV  
11.6  群延迟和延迟色散 246 \5[-Ml  
11.7  色度色散 246 <NQyP{p  
11.8  色散补偿 249 }V^e7d  
11.9  空间光线偏移 256 cgNt_8qC  
11.10  参考文献 258 X!0kK8v  
12  公差与误差 260 R# 6H'TVE  
12.1  蒙特卡罗模型 260 _.f@Y`4d  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 41;)-(1  
12.2.1  误差工具 267 |[w^eg  
12.2.2  灵敏度工具 271 0^\/ERK  
12.2.2.1 独立灵敏度 271  1KJZWZy  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 dF2@q@\.+  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 Y. TYc;  
12.3  参考文献 276 G)+Ff5e0L[  
13  Runsheet 与Simulator 277 dIK{MA  
13.1  原理介绍 277 H'Iq~Ft1  
13.2  截止滤光片设计 277 $HRed|*.C  
14  光学常数提取 289 |9]PtgQv7  
14.1  介绍 289 MuSaK %  
14.2  电介质薄膜 289 <P pYl  
14.3  n 和k 的提取工具 295 OWV/kz5'H  
14.4  基底的参数提取 302 Qk7J[4  
14.5  金属的参数提取 306 PdM*5g4  
14.6  不正确的模型 306 o4'v> b  
14.7  参考文献 311 s-5wbi.C  
15  反演工程 313 T:#S86m  
15.1  随机性和系统性 313 /Su)|[/'  
15.2  常见的系统性问题 314 Sf5]=F-w  
15.3  单层膜 314 Kfd_uXL>  
15.4  多层膜 314 _sm;HH7'*  
15.5  含义 319 yam}x*O\xn  
15.6  反演工程实例 319 $F1_^A[  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 fv5C!> t  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 y1Z1=U*!  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 5\?3$<1 I  
16.1  光学性质的热致偏移 329 ^+a  
16.2  应力工具 335 Gx;xj0-"  
16.3  均匀性误差 339 Okoo(dfM  
16.3.1  圆锥工具 339 o#dcD?^  
16.3.2  波前问题 341 Q%M_   
16.4  参考文献 343 YME[%c2x  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 =?+w)(*0c  
17.1  引言 345 n\* JaY  
17.2  操作数 345 () <`t}FQ  
18  如何在Function中编写脚本 351 :B+Rg cqi  
18.1  简介 351 Rd vn)K  
18.2  什么是脚本? 351 $"1pws?d  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 x~Pvh+O  
18.4  基础 352 p~FQcW'a~  
18.4.1  Classes(类别) 352 A8mlw#`E8b  
18.4.2  对象 352 RCCv>o  
18.4.3  信息(Messages) 352 c G*(C  
18.4.4  属性 352 4D GY6PS  
18.4.5  方法 353 fo;6huz  
18.4.6  变量声明 353 t,1in4sN  
18.5  创建对象 354 zw< 4G[u  
18.5.1  创建对象函数 355 OuNj:  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 jF4csO=E  
18.5.3 丢弃对象 356 |""=)-5N  
18.5.4  总结 356 >kZ6f4  
18.6  脚本中的表格 357  ?;+^  
18.6.1  方法1 357 Q;Q%SI`yT  
18.6.2  方法2 357 "'~|}x1Uv  
18.7 2D Plots in Scripts 358 Ia'x]#~  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ^pN 5NwC5  
18.9  注释 360 k=ts&9\  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 }E,jR=@  
18.11  一个更高级的脚本 362 =hPG_4#  
18.12  <esc>键 364 /Ht/F)&P  
18.13 包含文件 365 @+$cZ3,  
18.14  脚本被优化调用 366 B%2L1T=  
18.15  脚本中的对话框 368 -E}>h[;qZ  
18.15.1  介绍 368 d&5c_6oW  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 TbMdQbj}  
18.15.3  输入框函数 370 .<HC[ls  
18.15.4  自定义对话框 371 T0YDfo  
18.15.5  对话框编辑器 371 TZ:34\u   
18.15.6  控制对话框 377 A3z/Bz4]:#  
18.15.7  更高级的对话框 380 nW~$ (Qnd  
18.16 Types语句 384 gA{'Q\  
18.17 打开文件 385 Yg[ v/[]  
18.18 Bags 387 0~qf-x  
18.13  进一步研究 388 %V31B\]Nz7  
19  vStack 389 %v_IX2'  
19.1  vStack基本原理 389 {s,^b|I2#U  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 eN2dy-0  
19.3  五棱镜 393 (*MNox?w  
19.4 光束距离 396 8W;xi:CC  
19.5 误差 399 ^Wif!u/HM  
19.6  二向分色棱镜 399 xC[~Fyhp  
19.7  偏振泄漏 404 3mk=ZWwv  
19.8  波前误差—相位 405 | xp$OL"a  
19.9  其它计算参数 405 Q,D0kS P  
20  报表生成器 406 ';&0~[R[  
20.1  入门 406 Wgav>7!9  
20.2  指令(Instructions) 406 RzpC1nd  
20.3  页面布局指令 406 Mm "Wk  
20.4  常见的参数图和三维图 407 zIP[R):3&U  
20.5  表格中的常见参数 408 %)8d{1at  
20.6  迭代指令 408 09G9nu;&{  
20.7  报表模版 408 z<n"{%  
20.8  开始设计一个报表模版 409 ^eT@!N  
21  一个新的project 413 "!xvpsy  
21.1  创建一个新Job 414 4pLQ"&>}80  
21.2  默认设计 415 8n;kK?  
21.3  薄膜设计 416 zwMQXI'k83  
21.4  误差的灵敏度计算 420 %I_&Ehu  
21.5  显色指数计算 422 `<S/?I8  
21.6  电场分布 424 9!5b2!JL  
后记 426 -E6Jf$  
N )'8o}E  
?hxK/%)  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 6 M*b6  
h0T< :X   
《Essential Macleod中文手册》
hK:#+hg,  
+xn&K"]:3  
目  录 A(q~{  
FTbT9   
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 g4zT(,ZY  
第1章 介绍 ..........................................................1 2^cAK t6bC  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 +]A+!8%Z  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 uG2Xkj  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 `kqT{fs  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 o~Bk0V=  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ]&&I|K_  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 8dr0 DF$c  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 X QI.0L"  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 ,@}W@GGP)  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 'Y hA  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 UN,<6D3\b  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 +F1]M2p]  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 0\V\qAk  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 eA~J4k_  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 }UyzM y,  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 p#ZMABlE,P  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 TvQWdX=  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Z|]l"W*w  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 [P.@1mV  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 C*"Rd   
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 (jp1; #P!  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 " 7l jc  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 &Tf=~6  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 L@C >-F|p  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 N5:D8oWWXR  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 K~7'@\2 ?  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 1gF*Mf_7  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 9`ri J4zl  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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