线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:705
时间地点 CrX-?$  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 jtpNo~O  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 I}0 -  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 p 8Hv7*  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 Z$K%@q,10+  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
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特邀专家介绍 JJOs L!@  
9>, \QrrH  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 RXvcy<  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 UiN ^x  
课程概要 {73DnC~N  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 N5]68Fu'({  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 ,qh  
课程大纲 mYRR==iDL  
1. Essential Macleod软件介绍 B>L^XGq  
1.1 介绍软件 @].aFhH`)  
1.2 创建一个简单的设计 o |.me G  
1.3 绘图和制表来表示性能 jo:p*Q "F  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 w8Vzx8  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) S%|' /cFo  
1.6 特定设计的公式技术 GDe$p;#"9g  
1.7 交互式绘图 @d9*<>@:  
2. 光学薄膜理论基础 2uB26SEIl  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 -/*{^[  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 <"9Z7" >  
3. 材料管理 tXGcwoOB  
3.1 材料模型 |EU08b]P29  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 @WUCv7U  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 ]qQB+]WN  
3.4 基板光学常数的提取 #f@53Pxb  
4. 光学薄膜设计优化方法 9{&x-ugM  
4.1 参考波长与g ~$ Yuxo  
4.2 四分之一规则 "q8 'tN><  
4.3 导纳与导纳图 2)H|/  
4.4 斜入射光学导纳 ^U1 +D^AJ  
4.5 光学薄膜设计的进展 bJvRQrj*3  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 wIPDeC4  
4.6.1 优化目标设置 h<jIg$rA  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) I!%@|[ Ow  
4.6.3 膜层锁定和链接 8;bOw  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 hD=D5LYAZ  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 ON^u|*kO  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 g-`NsqzD  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 '/@VG_9L]  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 -#hl& ^u$  
5.5 如何在Function中编写脚本 o{eG6  
6. 光学薄膜系统案例 iE{SqX  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 EkPSG&6RZ  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 iWsIc\!+,  
6.3 Stack应用范例说明 WfI~l)  
7. 薄膜性能分析 ={d\zjI$  
7.1 电场分布 gNBI?xs`p  
7.2 公差与灵敏度分析 D=+sD"<|  
7.3 反演工程 8A qe'2IH=  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 e hGC N=  
8. 真空技术 D-/A>  
8.1 常用真空泵介绍 3x$#L!VuU  
8.2 真空密封和检漏 Z$gY}Bz  
9. 薄膜制备技术 [ ff.R  
9.1 常见薄膜制备技术 nfR5W~%*:  
10. 薄膜制备工艺 {M5IJt"{4b  
10.1 薄膜制备工艺因素 r>OE[C69  
10.2 薄膜均匀性修正技术 vOU -bF%u  
10.3 光学薄膜监控技术 ?J AzN  
11. 激光薄膜 nfU}ECun4  
11.1 薄膜的损伤问题 37DvI&  
11.2 激光薄膜的制备流程 'L7.a'  
11.3 激光薄膜的制备技术 MDZb|1.AT  
12. 光学薄膜特性测量 W*#/@/5  
12.1 薄膜光谱测量 rA7S1)Kq  
12.2 薄膜光学常数测量 NjLd-v"2  
12.3 薄膜应力测量 qx NV~aK  
12.4 薄膜损伤测量 6I<`N  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 G#>nOB  
~5zhK:7c  
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KA7nncg;,  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 hvwr!(|W  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Sr0mA M  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 [Pl$=[+  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 `K.yE0^i  
p_D)=Ef|&  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
od>.5{o  
目录 4ai3@f5  
Preface 1 "=)`*"rr  
内容简介 2 r0,}f\  
目录 i G}x^PJJt  
1  引言 1 "|H0 X#  
2  光学薄膜基础 2 c'C2V9t  
2.1  一般规则 2 }OZfsYPz}T  
2.2  正交入射规则 3 c s> W6  
2.3  斜入射规则 6 F~6[DqF\|  
2.4  精确计算 7 o<;"+@v  
2.5  相干性 8 (uE_mEIsv  
2.6 参考文献 10 $0 )K [K  
3  Essential Macleod的快速预览 10 0&)4^->c  
4  Essential Macleod的特点 32 "lm3o(Dk  
4.1  容量和局限性 33 (pl OV)  
4.2  程序在哪里? 33 8w4.|h5FP  
4.3  数据文件 35 P]G2gDO  
4.4  设计规则 35 BC3I{Y |  
4.5  材料数据库和资料库 37 .$rcTZ  
4.5.1材料损失 38 l?d*g&  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 6[i-Tl  
4.5.2 材料库 41 "Y6 f.rB  
4.5.3导出材料数据 43 [F e5a  
4.6  常用单位 43 GauIe0qV  
4.7  插值和外推法 46 6K6ihR!d  
4.8  材料数据的平滑 50 b^1!_1c  
4.9 更多光学常数模型 54 ?V+=uTCq  
4.10  文档的一般编辑规则 55 :7maN^  
4.11 撤销和重做 56 5E]I  
4.12  设计文档 57 M~v{\!S  
4.10.1  公式 58 <?!#QA  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 y~w$>7U.  
4.10.3  沉积密度 59 }6\p7n  
4.10.4 平行和楔形介质 60 o Vs&r?\Z  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 |1EM )zh6  
4.10.4  性能 61 cK""Xz&m  
4.10.5  保存设计和性能 64 6w' ^,V  
4.10.6  默认设计 64 u+N[Cgh  
4.11  图表 64 s;L7 _.hH@  
4.11.1  合并曲线图 67 SI\zW[IL  
4.11.2  自适应绘制 68 +'l@t bP  
4.11.3  动态绘图 68 R lv|DED$  
4.11.4  3D绘图 69 D`+'#%%x  
4.12  导入和导出 73 crUXpD  
4.12.1  剪贴板 73 Tg[+K+b  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 %NKf@If)  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 N:0mjHG  
4.13  背景 77 m]85F^R0  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 $WDa} ~j~^  
4.15  生成Rugate 84 z}Q54,9m  
4.16  参考文献 91 hTF]-& hZ  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 TMbj]Mso  
5.1  Jobs 92 FQ_4a}UOjX  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 /W%{b:  
5.3  输入材料 94 MD&Ebq5V  
5.4  设计数据文件夹 95 <~]s+"oVc  
5.5  默认设计 95 {epsiHK@tK  
6  细化和合成 97 t6j|q nfw  
6.1  优化介绍 97 *@dqAr%  
6.2  细化 (Refinement) 98 0-7xcF@s  
6.3  合成 (Synthesis) 100 X\_ku?]v  
6.4  目标和评价函数 101 Pr" 2d\  
6.4.1  目标输入 102 jGId)f!)  
6.4.2  目标 103 4e* rBTl  
6.4.3  特殊的评价函数 104 v~j21`  
6.5  层锁定和连接 104 ~%'M[3Rb  
6.6  细化技术 104 hW]:CIqk  
6.6.1  单纯形 105 M Su_*&j9T  
6.6.1.1 单纯形参数 106 YOqBIbp~&)  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 4Xlq Ym  
6.6.2.1 Optimac参数 108 (2 X`imJ  
6.6.3  模拟退火算法 109 XB2[{XH,  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 ?EdF&^[3rD  
6.6.4  共轭梯度 111 2\_}81 hM  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 kd2+k4@#  
6.6.5  拟牛顿法 112 >%t"VpvR  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 #49,7OBU  
6.6.6  针合成 113 f$R]m2  
6.6.6.1 针合成参数 114 M1^pf<!s  
6.6.7 差分进化 114 YajUdpJi  
6.6.8非局部细化 115 ? 3Td>x  
6.6.8.1非局部细化参数 115 d(<[$ 3.  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 sRqFsj}3e  
6.7.1  细化 116 JS} iNS'X  
6.7.2  合成 117 !CUrpr/*  
6.8  参考文献 117 G7 b>r  
7  导纳图及其他工具 118 S U04q+  
7.1  简介 118 B\`4TU}kE  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 /g@!#Dt  
7.2.1  四分之一波长规则 119 XI@;;>D1=U  
7.2.2  导纳图 120 Cjdw@v0;  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ~m'PAC"Q$  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 |4UW.dGHPo  
7.5  斜入射导纳图 141 MqRpG5 .  
7.6  对称周期 141 T|[zk.8=E  
7.7  参考文献 142 zyTeF~_  
8  典型的镀膜实例 143 yal T6  
8.1  单层抗反射薄膜 145 [BWA$5D)Ny  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 cyL"?vR*<  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 >La!O~d  
8.4  W-膜层 148 iLD}>=  
8.5  V-膜层 149 Dn1aaN6  
8.6  V-膜层高折射基底 150 J sde+G,N  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 8tJB/P w`S  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 %v5IR  
8.9  四层抗反射薄膜 153 7S|nn|\Kp  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 DAa??/,x7  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 yz.a Z  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 7,X5]U&A<x  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 'W(!N%u  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 8cI<~|4_  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 XnR9/t  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 _9*3Mr)2N  
8.17  1/4波长堆栈 162 g$+ $@~  
8.18  陷波滤波器 163 vr/*z euA  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 /{il;/Vj  
8.20  褶皱 165 ?> )(;Ir9  
8.21  消偏振分光器1 169 3 vr T`  
8.22  消偏振分光器2 171 6ZKSet8  
8.23  消偏振立体分光器 172 ^26vP7  
8.24  消偏振截止滤光片 173 e*K1";  
8.25  立体偏振分束器1 174 Ls51U7  
8.26  立方偏振分束器2 177 U~H]w ,^  
8.27  相位延迟器 178 oy{ {d  
8.28  红外截止器 179 *7cc4 wGQ  
8.29  21层长波带通滤波器 180 \+3amkBe  
8.30  49层长波带通滤波器 181 <l>o6K  
8.31  55层短波带通滤波器 182 Y~,ZBl,  
8.32  47 红外截止器 183 ?Pbh&!  
8.33  宽带通滤波器 184 &-.NkW@  
8.34  诱导透射滤波器 186 [ H|ifi  
8.35  诱导透射滤波器2 188 jxeZ,w o  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 3;v%78[&P  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 @ (4$<><  
8.35  增益平坦滤波器 193 'Sk-L 5  
8.38  啁啾反射镜 1 196 @?bO@  
8.39  啁啾反射镜2 198 `YL)[t? V  
8.40  啁啾反射镜3 199 #u]'3en  
8.41  带保护层的铝膜层 200 zw ,( kv  
8.42  增加铝反射率膜 201 d x52[W  
8.43  参考文献 202 5|:t$  
9  多层膜 204 Z @f4=  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 2d:IYCl4q  
9.2  内部透过率 204 $Jc>B#1  
9.3 内部透射率数据 205 h_*!cuH  
9.4  实例 206 hsCts@R  
9.5  实例2 210 _98 %?0  
9.6  圆锥和带宽计算 212 Le,e,#hiY  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 5-[bdI  
10  光学薄膜的颜色 216 .0=VQU  
10.1  导言 216 ^t0Yh%V7  
10.2  色彩 216 ~3'}^V\  
10.3  主波长和纯度 220 'jnR<>N  
10.4  色相和纯度 221 $*-UY  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 &GKtD)  
10.6 色差 226 A*x3O%zH  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 Ng,< 4;  
10.8  颜色渲染指数 234 CQ;.}=j ,  
10.9  色差计算 235 J!+)v  
10.10  参考文献 236 5oOF|IYi  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 T>P[0`*)  
11.1  短脉冲 238 Rlyx& C8  
11.2  群速度 239 0cF +4,5  
11.3  群速度色散 241 K3*8-Be  
11.4  啁啾(chirped) 245 r P1FM1"M  
11.5  光学薄膜—相变 245 !TwH;#U w  
11.6  群延迟和延迟色散 246 J>w3>8!>7  
11.7  色度色散 246 0D==0n  
11.8  色散补偿 249 XSBh+)0Ww  
11.9  空间光线偏移 256 Yt3 +o<  
11.10  参考文献 258 |i~Ab!*8n  
12  公差与误差 260 LFwRTY,G  
12.1  蒙特卡罗模型 260 &\p=s.y?j  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 IVY{N/ 3|  
12.2.1  误差工具 267 S W; %2  
12.2.2  灵敏度工具 271 ca6kqh"  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 4).i4]%LH  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 VC T~"T2R  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 G_cWp D/  
12.3  参考文献 276 f=,(0ygt/  
13  Runsheet 与Simulator 277 z Go*N,'  
13.1  原理介绍 277 RX\l4H5;  
13.2  截止滤光片设计 277 u6#FG9W7  
14  光学常数提取 289 xtq='s8e  
14.1  介绍 289 2N /4.  
14.2  电介质薄膜 289 n`TXm g  
14.3  n 和k 的提取工具 295 )1PjI9M  
14.4  基底的参数提取 302 ,GVD.whUl  
14.5  金属的参数提取 306 Xg^9k00C  
14.6  不正确的模型 306 #]vs*Sz  
14.7  参考文献 311 5JvrQGvL  
15  反演工程 313 &i{>Li  
15.1  随机性和系统性 313 |,)=-21&;  
15.2  常见的系统性问题 314 =" Sb>_  
15.3  单层膜 314 |G(9mnZ1  
15.4  多层膜 314 >0c4C< _  
15.5  含义 319 vw5f|Q92  
15.6  反演工程实例 319 NW%u#MZ[h  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 Kh' 7N!  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 I}hY @  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 3@*orm>em  
16.1  光学性质的热致偏移 329 40i]I@:JK  
16.2  应力工具 335 *= ;M',nx  
16.3  均匀性误差 339 mh7JPbX|  
16.3.1  圆锥工具 339 Z8xKg  
16.3.2  波前问题 341 :GBM`f@  
16.4  参考文献 343 8~@?cy1j!  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 !kG2$/lR  
17.1  引言 345 a 9H^e<g  
17.2  操作数 345 l2|[  
18  如何在Function中编写脚本 351 WJ[ybzVj  
18.1  简介 351 -RK R. ,  
18.2  什么是脚本? 351 N)0V6q"  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 .W*"C  
18.4  基础 352 y(92Th$  
18.4.1  Classes(类别) 352 8x/]H(J  
18.4.2  对象 352 nP5T*-~  
18.4.3  信息(Messages) 352 I/vQP+w O  
18.4.4  属性 352 c7R<5f  
18.4.5  方法 353 ^Ee"w7XjD  
18.4.6  变量声明 353 e]Q bC "  
18.5  创建对象 354 -+)06BqF}  
18.5.1  创建对象函数 355 m6 V L  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 vlSSw+r9  
18.5.3 丢弃对象 356 58>C,+  
18.5.4  总结 356 8?z7!k]  
18.6  脚本中的表格 357 HCIS4}lQ  
18.6.1  方法1 357 X:kqX[\>  
18.6.2  方法2 357 +5xVgIk#  
18.7 2D Plots in Scripts 358 *%p`Jk-U  
18.8 3D Plots in Scripts 359 1Ax{Y#<  
18.9  注释 360 q7kE+z   
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 D.:6X'hp  
18.11  一个更高级的脚本 362 ^Yg}>?0  
18.12  <esc>键 364 q:a-tdv2  
18.13 包含文件 365 *{fL t  
18.14  脚本被优化调用 366 -qNun3  
18.15  脚本中的对话框 368 ,B8u?{O  
18.15.1  介绍 368 Gw@]w;ed  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 tmVGJ+gz  
18.15.3  输入框函数 370 _i@4R<  
18.15.4  自定义对话框 371 gF53[\w^v  
18.15.5  对话框编辑器 371 :rzq[J^  
18.15.6  控制对话框 377 WT_4YM\bz  
18.15.7  更高级的对话框 380 UVz}"TRq.  
18.16 Types语句 384 XFmTr@\M  
18.17 打开文件 385 S( Vssi|y  
18.18 Bags 387 d,+a}eTP'  
18.13  进一步研究 388 gT0N\oU"  
19  vStack 389 /_{B_2i/>  
19.1  vStack基本原理 389 #Et%s8{  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 LAjreC<W  
19.3  五棱镜 393 )8@|+'q  
19.4 光束距离 396 8lZB3p]X  
19.5 误差 399 -)E nr6  
19.6  二向分色棱镜 399 }P*x /z~  
19.7  偏振泄漏 404 \\iX9-aI<  
19.8  波前误差—相位 405 ==]BrhZK  
19.9  其它计算参数 405 IDn$w^"  
20  报表生成器 406 F`8B PWUY  
20.1  入门 406 -F~"W@9r  
20.2  指令(Instructions) 406 Mo4k6@ht_  
20.3  页面布局指令 406 AU3>v  
20.4  常见的参数图和三维图 407 D\0q lCAs  
20.5  表格中的常见参数 408 ZgI?#e  
20.6  迭代指令 408 ?&_u$Nn  
20.7  报表模版 408 R^k)^!/$f  
20.8  开始设计一个报表模版 409 Ra)AQ n  
21  一个新的project 413 9?38/2kX4  
21.1  创建一个新Job 414 &qMt07  
21.2  默认设计 415 d]r?mnN W  
21.3  薄膜设计 416 pz0Q@n/X  
21.4  误差的灵敏度计算 420 P+<4w  
21.5  显色指数计算 422 @|6#]&v`  
21.6  电场分布 424 q .s'z}  
后记 426 M"!{Dx~  
w:HRzU>  
r$WBEt,B  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ?,  m_q+  
vlVHoF;&  
《Essential Macleod中文手册》
h\lyt(.s  
. /@C  
目  录 ,*m{Q  
mV++7DY  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 a?1lj,"~R  
第1章 介绍 ..........................................................1 opfg %*  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 PTP0 _|K  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 3{H&{@Q  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 S(#v<C,hd  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 sa w  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 j^6,V\;l  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 JJ4w]Dd4  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 awU&{<,=g  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 )'i n}M  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ]QSQr *  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 #7Jvk_r9Y  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 .g>0FP  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 ,Fzuo:{uy  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 r8,'LZIz  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 7Sl"q=>  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 }DFZ9,gQ  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 AYsiaSTRqW  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 <[A;i  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 $J9/AFzO"  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 ;MH_pE/m  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ]FEsN6  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 fRK=y+gl@  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 KMP[Ledr  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 4Ul*`/d  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 nj=nSD  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 *0/%R{+S  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 [PH56f  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 gQ$0 |0O  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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