线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:1065
时间地点 v ~QHMg  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 X+UJzR90  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 }\J2?Et{  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 fU=B4V4@  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 /xtq_*I1S  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
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特邀专家介绍 hn#1%p6t  
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易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 F*"}aP$  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 okbQ<{9  
课程概要 7}M2bH} \K  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 /|* Y2ETOr  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 lXcx@#~  
课程大纲 wF((  
1. Essential Macleod软件介绍 % qV 6  
1.1 介绍软件 I f\fLhM  
1.2 创建一个简单的设计 0c}  }Q  
1.3 绘图和制表来表示性能 : q#Xq;Wp  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 `BlI@6th  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 9eH$XYy  
1.6 特定设计的公式技术 BD(Z5+EU1  
1.7 交互式绘图 n2iJ%_zp  
2. 光学薄膜理论基础 g$b<1:8  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 dqN5]Sb2B  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ~l)-wNqR4r  
3. 材料管理 &Z`#cMR{H  
3.1 材料模型 }GeSu|m(  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 ^]TVo\,N  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 8F'x=lIO  
3.4 基板光学常数的提取 I:mr}mv=i  
4. 光学薄膜设计优化方法 Hy^N!rBxfO  
4.1 参考波长与g 17`1SGZ  
4.2 四分之一规则 ZIQ [bE7  
4.3 导纳与导纳图 #{?qNl8F*J  
4.4 斜入射光学导纳 'FDef#P<  
4.5 光学薄膜设计的进展 ]*AR,0N&  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ? #fu.YE\  
4.6.1 优化目标设置 zG(\+4GE!  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 1fpQLaT  
4.6.3 膜层锁定和链接 V,cBk  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 Evedc*z~P  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 =>_\fNy  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 lhqg$lb  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 C#Na&m  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 \SB c;  
5.5 如何在Function中编写脚本 INJEsz  
6. 光学薄膜系统案例 HhvdqvIEG  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 U H*r5o3  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 c-(UhN3WG  
6.3 Stack应用范例说明 !6*"(  
7. 薄膜性能分析 t+!$[K0/  
7.1 电场分布 n CdR EXw  
7.2 公差与灵敏度分析 ?!` /m|"  
7.3 反演工程 ~XO Ts  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 R}!:'^  
8. 真空技术 TA4!$7b$  
8.1 常用真空泵介绍 m)'=G%y  
8.2 真空密封和检漏 Jcrw#l8|C  
9. 薄膜制备技术 G;l_|8<t#\  
9.1 常见薄膜制备技术 ^SF&=NpV  
10. 薄膜制备工艺 % ~H=sjg  
10.1 薄膜制备工艺因素 l4uMG]m  
10.2 薄膜均匀性修正技术 8ap%?  
10.3 光学薄膜监控技术 |R/%D%_g  
11. 激光薄膜 "i[@P)  
11.1 薄膜的损伤问题 nH[yJGZYSA  
11.2 激光薄膜的制备流程 q1d}{DU  
11.3 激光薄膜的制备技术 ;z$(nhJ  
12. 光学薄膜特性测量 ! t?iXZ  
12.1 薄膜光谱测量 Z/Dx,zIR  
12.2 薄膜光学常数测量 Yfzl%wc  
12.3 薄膜应力测量 ,)Znb=  
12.4 薄膜损伤测量 7`DBS^O]dG  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 jK& h~)  
o<pf#tifv  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
1SCR.@ k<  
内容简介 gc-@"wI?  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 {Tq_7,8  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 -z)n?(pftm  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 $QN"w L||  
.$+#1-  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
"&G/T ?4  
目录 /<|%yE&KhJ  
Preface 1 *zb Nd:i9  
内容简介 2 Whm,F^  
目录 i .6+Z^,3  
1  引言 1 5m&9"T.w  
2  光学薄膜基础 2 O;:mCt _H  
2.1  一般规则 2 4.[^\N  
2.2  正交入射规则 3 l5!|I:/*;  
2.3  斜入射规则 6 Nfrw0b  
2.4  精确计算 7 $P^q!H4D  
2.5  相干性 8 v3~?;f,l  
2.6 参考文献 10 l rlgz[  
3  Essential Macleod的快速预览 10 yerg=,$_i  
4  Essential Macleod的特点 32 5\:^ y'g[  
4.1  容量和局限性 33 v&DI`xn~  
4.2  程序在哪里? 33 'YmIKIw  
4.3  数据文件 35 p6>Svcc  
4.4  设计规则 35 `T@i.'X  
4.5  材料数据库和资料库 37 /Kql>$I  
4.5.1材料损失 38 m Bu  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 tkeoNuAM  
4.5.2 材料库 41 %[Wh [zZy  
4.5.3导出材料数据 43 CkOz  
4.6  常用单位 43 M?Y;a5{  
4.7  插值和外推法 46 '3 /4?wi  
4.8  材料数据的平滑 50 @\0ez<.p}  
4.9 更多光学常数模型 54 x<tb  
4.10  文档的一般编辑规则 55 ype$ c  
4.11 撤销和重做 56 U)fc*s  
4.12  设计文档 57 <\r T%f}3^  
4.10.1  公式 58 <J< {l  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 :}'=`wa  
4.10.3  沉积密度 59 kCWV r  
4.10.4 平行和楔形介质 60 +%yfcyZ.  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 ^a0um/+M}  
4.10.4  性能 61 FH?U(-  
4.10.5  保存设计和性能 64 DE}K~}sbd  
4.10.6  默认设计 64 Xix L  R  
4.11  图表 64 Gw/Pk4R  
4.11.1  合并曲线图 67 36}?dRw#p  
4.11.2  自适应绘制 68 _hAcJ{Y  
4.11.3  动态绘图 68 e'6/` Evqz  
4.11.4  3D绘图 69 -`*a'p-=  
4.12  导入和导出 73 Q{sH3Y#l  
4.12.1  剪贴板 73 e24WW^S  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 eVjBGJ=2e  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 rK'L6o  
4.13  背景 77 {f/~1G[M  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 I667Gz$j5  
4.15  生成Rugate 84 > kG GR  
4.16  参考文献 91 JFcLv=U  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 S'Q@ScJ  
5.1  Jobs 92 oR)Jznmi}  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 .F98G/s  
5.3  输入材料 94 + [iQLM?zo  
5.4  设计数据文件夹 95 uw>Ba %5  
5.5  默认设计 95 SE@LYeC}dE  
6  细化和合成 97 %aG5F}S2~  
6.1  优化介绍 97 k^3>Y%^1  
6.2  细化 (Refinement) 98 *'Sd/%8{  
6.3  合成 (Synthesis) 100 YqhAZp<  
6.4  目标和评价函数 101 mitHT :%r2  
6.4.1  目标输入 102 9&-dTayIz  
6.4.2  目标 103 nsu@h  
6.4.3  特殊的评价函数 104 ^bGNq X  
6.5  层锁定和连接 104 1{)5<!9!l  
6.6  细化技术 104 L*Tj^q!t+  
6.6.1  单纯形 105 6KXtcXQ  
6.6.1.1 单纯形参数 106 5kc/Y/4o  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 "@e3EX7h  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ity & v 9  
6.6.3  模拟退火算法 109 6dq(T_eG  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 J{.{f  
6.6.4  共轭梯度 111 5V?& 8GTe  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 5Yg'BkEr  
6.6.5  拟牛顿法 112 ((YMVe  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 H4WP~(__  
6.6.6  针合成 113 >6ni")Q9  
6.6.6.1 针合成参数 114 +SP{hHa^  
6.6.7 差分进化 114 xT3BHnQ(  
6.6.8非局部细化 115 ? ^0:3$La  
6.6.8.1非局部细化参数 115 \\iQEy<i  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 FvaUsOy "  
6.7.1  细化 116 Lu?C-$a C  
6.7.2  合成 117 k KaE=H-x  
6.8  参考文献 117 {3|t;ZHk  
7  导纳图及其他工具 118 =:xW>@bh|  
7.1  简介 118 aB_F9;IR  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 _F6OM5F"N  
7.2.1  四分之一波长规则 119 S5gyr&dm  
7.2.2  导纳图 120 >~''&vdsk\  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 &Qf/>@ l}  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 "M<8UE\n  
7.5  斜入射导纳图 141 P{8iJ`rBG  
7.6  对称周期 141 0!4Ts3qn1  
7.7  参考文献 142 ;"a=gr  
8  典型的镀膜实例 143 3atBX5  
8.1  单层抗反射薄膜 145 *z5.vtfu!  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 U\g/2dM  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 R[zpD%CI  
8.4  W-膜层 148 |6.l7u ?d  
8.5  V-膜层 149 LoURC$lS  
8.6  V-膜层高折射基底 150 "|x^|n8i  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 J4k=A7^N  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 W,K;6TZhh  
8.9  四层抗反射薄膜 153 GB23\Yv  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 M92dZ1+6  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 {kA0z2Fe  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 iW)8j 8  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 P@,XEQRd`  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 0CZ :Bo[3  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 'F/~o1\.  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 _'#n6^Us<  
8.17  1/4波长堆栈 162 _('=b/  
8.18  陷波滤波器 163 T.])diuvj-  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 T(#J_Y  
8.20  褶皱 165 PIJr{6B/PA  
8.21  消偏振分光器1 169 %41m~Wh2  
8.22  消偏振分光器2 171 zG }@0  
8.23  消偏振立体分光器 172 e6`Jbu+J<f  
8.24  消偏振截止滤光片 173 <ykU6=  
8.25  立体偏振分束器1 174 1XrO~W\=  
8.26  立方偏振分束器2 177 Df}A^G >X  
8.27  相位延迟器 178 S-a]j;U  
8.28  红外截止器 179 5GI,o|[s6  
8.29  21层长波带通滤波器 180 pI1-cV,`  
8.30  49层长波带通滤波器 181 x!?u^  
8.31  55层短波带通滤波器 182 $POu\TO  
8.32  47 红外截止器 183 WltQ63u  
8.33  宽带通滤波器 184 .8 2P(}h  
8.34  诱导透射滤波器 186 >f|||H}Snw  
8.35  诱导透射滤波器2 188 7!$Q;A  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 >1.X*gi?-  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 Q{O+  
8.35  增益平坦滤波器 193 /74QMx?  
8.38  啁啾反射镜 1 196 ;(b9#b.  
8.39  啁啾反射镜2 198 M-$%Rzl_  
8.40  啁啾反射镜3 199 #%pI(,o=  
8.41  带保护层的铝膜层 200 ]MqMQLG0t  
8.42  增加铝反射率膜 201 9Uh"iMB  
8.43  参考文献 202 +=>,Pto<  
9  多层膜 204 7z%L*z8V  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 5 )A1\  
9.2  内部透过率 204 ,L|%"K]yM  
9.3 内部透射率数据 205 Ja|5 @  
9.4  实例 206 y|jl[pyg)  
9.5  实例2 210 \q>bs|2  
9.6  圆锥和带宽计算 212 %h hfU6[  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ;d@#XIS&-(  
10  光学薄膜的颜色 216 =h-U  
10.1  导言 216 -{KQr1{5UM  
10.2  色彩 216 %Si6]3-^@  
10.3  主波长和纯度 220 1Rt33\1J0  
10.4  色相和纯度 221 ,[N%Q#  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 k6;?)~.  
10.6 色差 226 -m\u  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 raW>xOivR  
10.8  颜色渲染指数 234 J9..P&c\  
10.9  色差计算 235 ^8]NxV@l  
10.10  参考文献 236 5A,K6f@:g  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 el&0}`K  
11.1  短脉冲 238 %gInje  
11.2  群速度 239 hE &xE;  
11.3  群速度色散 241 Ve8=b0&Y#j  
11.4  啁啾(chirped) 245 aJSO4W)P  
11.5  光学薄膜—相变 245 bpOYHc6,*`  
11.6  群延迟和延迟色散 246  |{&{  
11.7  色度色散 246 d .[8c=$  
11.8  色散补偿 249 _H9 MwJ  
11.9  空间光线偏移 256 .fn \]rUv  
11.10  参考文献 258 ;p.v]0]is  
12  公差与误差 260 d}Xr}  
12.1  蒙特卡罗模型 260 Av$]|b  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 XP`Nf)3{Yd  
12.2.1  误差工具 267 I^* Nqqq  
12.2.2  灵敏度工具 271 _;W.q7 b]  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 t;){D:]k  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ]q\b,)4 e  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 @Rg/~\K  
12.3  参考文献 276 c|f<u{'  
13  Runsheet 与Simulator 277 0}<|7?  
13.1  原理介绍 277 O8f?; ]  
13.2  截止滤光片设计 277 dR K?~1  
14  光学常数提取 289 CVDV)#JA  
14.1  介绍 289 -TLlwxc^%  
14.2  电介质薄膜 289 Dxtp2wu%t  
14.3  n 和k 的提取工具 295 uY0lR:|  
14.4  基底的参数提取 302 ;^+\K-O]c  
14.5  金属的参数提取 306 !d'GE`w T  
14.6  不正确的模型 306 \h+AXs<j  
14.7  参考文献 311 )tG\vk=@  
15  反演工程 313 +|*IZ:w)  
15.1  随机性和系统性 313 8aZ=?_gvT  
15.2  常见的系统性问题 314 bUs0 M0y  
15.3  单层膜 314 G%BjhpL  
15.4  多层膜 314 ;$HftG>B  
15.5  含义 319 3Nl <p"=  
15.6  反演工程实例 319 QZ!Y2Bz(4  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 zh%#Y_[R  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 {GvJZ!,RCg  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 :{{F *FM;  
16.1  光学性质的热致偏移 329 \TIT:1  
16.2  应力工具 335 CJtcn_.F  
16.3  均匀性误差 339 5CuuG<0  
16.3.1  圆锥工具 339 y~(h>gi,x  
16.3.2  波前问题 341 uMUBh 80,L  
16.4  参考文献 343 lVd^ ^T*fh  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 rUTcpGH  
17.1  引言 345 mD/9J5:  
17.2  操作数 345 02Y]`CXj  
18  如何在Function中编写脚本 351 =pr` '  
18.1  简介 351 rW<KKGsRWQ  
18.2  什么是脚本? 351 w?3p';C  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 0mpX)S  
18.4  基础 352 (DJ"WG  
18.4.1  Classes(类别) 352 zofa-7'Bn  
18.4.2  对象 352 D{!6Y*d6&s  
18.4.3  信息(Messages) 352 >f^r^P  
18.4.4  属性 352 :v0U|\j8/V  
18.4.5  方法 353 ,Z aRy$?  
18.4.6  变量声明 353 s:?SF.  
18.5  创建对象 354 H-WJp<_  
18.5.1  创建对象函数 355 Mo y <@+  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 B`YTl~4  
18.5.3 丢弃对象 356 ^/)^7\@  
18.5.4  总结 356 ~Io7]  
18.6  脚本中的表格 357 2$9odD<r  
18.6.1  方法1 357 ]"r&]qx7  
18.6.2  方法2 357 ^"2i   
18.7 2D Plots in Scripts 358 tI]Q%S,  
18.8 3D Plots in Scripts 359 Jlri*q"hE  
18.9  注释 360 *RDn0d[  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 6 uv#de  
18.11  一个更高级的脚本 362 ng[Ar`  
18.12  <esc>键 364 u$h 4lIl  
18.13 包含文件 365 .RE:;<|w  
18.14  脚本被优化调用 366 XywE1}3  
18.15  脚本中的对话框 368 67VL@ ]  
18.15.1  介绍 368 V n7*JS  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 z[LNf.)}  
18.15.3  输入框函数 370 >/g#lS 5  
18.15.4  自定义对话框 371 Jk&3%^P{m  
18.15.5  对话框编辑器 371 UXeN8  
18.15.6  控制对话框 377 ^tqzq0  
18.15.7  更高级的对话框 380 Vl5`U'^qx  
18.16 Types语句 384 bG7O  
18.17 打开文件 385 cT<1V!L4  
18.18 Bags 387 nx@=>E+a  
18.13  进一步研究 388 l2`s! ,<>O  
19  vStack 389 G(Lzf(  
19.1  vStack基本原理 389 gRrL[z  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 l-fi%Z7C  
19.3  五棱镜 393 $g@=Z"  
19.4 光束距离 396 _7<FOOM%8y  
19.5 误差 399 "&%I)e^  
19.6  二向分色棱镜 399 ^.1)};i  
19.7  偏振泄漏 404 uya.sF0]9B  
19.8  波前误差—相位 405 00'%EYO  
19.9  其它计算参数 405 ?@BTGUK"C  
20  报表生成器 406 KmMzH`t}`  
20.1  入门 406 BD68$y  
20.2  指令(Instructions) 406 U [*FCD!~  
20.3  页面布局指令 406 ]"J~:{, d  
20.4  常见的参数图和三维图 407 kEJj=wx  
20.5  表格中的常见参数 408 lAi6sPG)0  
20.6  迭代指令 408 "*($cQ$v  
20.7  报表模版 408 YT8vP~  
20.8  开始设计一个报表模版 409 s2teym,uG  
21  一个新的project 413 Hv!U| L  
21.1  创建一个新Job 414 Mc=$/ o  
21.2  默认设计 415 LyZ.l*h%=m  
21.3  薄膜设计 416 j`oy`78O  
21.4  误差的灵敏度计算 420 io _1Y]N  
21.5  显色指数计算 422 !i{aMxUP  
21.6  电场分布 424 mIurA?&7!  
后记 426 ~s% Md  
0vFD3}~>  
,X#2\r<|  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 M}d_I+  
4\y/'`xm)6  
《Essential Macleod中文手册》
BZ:H`M`n  
->sm+H-*  
目  录 XDsx3Ws  
Lilr0|U+  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 LISM ngQ.  
第1章 介绍 ..........................................................1 nKS7Q1+  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 b8~Bazk  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 ,ek_R)&[o  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 |L-]fjBbF  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 `)` n(B  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 M%Ji0v38  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 @$lG@I,[  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 }#.L7SIJ<J  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 bW$J~ynM  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 uZM{BgXXD  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 ZZ k=E4aae  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 rQk<90Ar  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 s1=X>'q  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 IzsphBI  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 8WtsKOno  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 PRr2F-!P  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 QOjqQfmM;  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 hakKs.U|[  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 9)}[7Mg:C  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 HIQ _%L4]  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 Qc gRAo+u  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 F5?m6`g?  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 E^QlJ8  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Rec6c&5_  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 [baiH|5>  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 |?rNy=P,  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 >_e]C}QUr  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 @{YS}&Q/  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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