线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:631
时间地点 nGGYKI  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 he&*N*of:  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 l"!.aIY"e  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 RH^8"%\  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 0*W=u-|s6  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
m6QlIdl  
特邀专家介绍 ,6,#Lc  
{PGNPxUbe  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 _QfA'32S  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 ~P|YAaFx  
课程概要 "YHqls}c  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 R1/ )Yy  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 Q$G!-y+"i  
课程大纲 *nU7v3D  
1. Essential Macleod软件介绍  V3K  
1.1 介绍软件 @v_ )(  
1.2 创建一个简单的设计 $@[6jy  
1.3 绘图和制表来表示性能 I :%(nKBK  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 c3]ZU^  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) SfQ ,uD6  
1.6 特定设计的公式技术 lM"@vNgK  
1.7 交互式绘图 ?%(8RQ  
2. 光学薄膜理论基础 \MQ|(  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 zCj]mH`es'  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 >Rs:Fw|jro  
3. 材料管理 z#GZvB/z)  
3.1 材料模型 =9FY;9  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 &(-+?*A`E  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 GUE 3|  
3.4 基板光学常数的提取 G%-[vk#]  
4. 光学薄膜设计优化方法 > y"V%  
4.1 参考波长与g j%Y`2Ra  
4.2 四分之一规则 B. 6gJ2c  
4.3 导纳与导纳图 $fV47;U'*  
4.4 斜入射光学导纳 * Ibl+  
4.5 光学薄膜设计的进展 `omZ'n)  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 DY'D]*'7$  
4.6.1 优化目标设置 )FGm5-K@  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) wlKfTJrn&  
4.6.3 膜层锁定和链接 ?SRG;G1  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 DzYi> E:*  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 }Zc.rk  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ]6Kx0mW  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 p]:5S_$  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 5;oWFl  
5.5 如何在Function中编写脚本 TB\#frG  
6. 光学薄膜系统案例 ;'NB6[x  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 :o?On/  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 u.x>::i&  
6.3 Stack应用范例说明 p)RASIB  
7. 薄膜性能分析 LJ`*&J   
7.1 电场分布 6MvjNbQ  
7.2 公差与灵敏度分析 ,IF3VE&r  
7.3 反演工程 8- 3]Bm!  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 xCz(qR  
8. 真空技术 }&Ngh4/  
8.1 常用真空泵介绍 <XiHQ B!  
8.2 真空密封和检漏 thIuK V{CO  
9. 薄膜制备技术 t J N;WK.6  
9.1 常见薄膜制备技术 4UT %z}[!  
10. 薄膜制备工艺 A}?n.MAX>  
10.1 薄膜制备工艺因素 [KMW *pA7  
10.2 薄膜均匀性修正技术 vx62u29m  
10.3 光学薄膜监控技术 H WOs   
11. 激光薄膜 W0J d2*]  
11.1 薄膜的损伤问题 @{3$H^  
11.2 激光薄膜的制备流程 b(+M/O>I  
11.3 激光薄膜的制备技术 S\b[Bq  
12. 光学薄膜特性测量 fmrd 7*MW  
12.1 薄膜光谱测量 YAQ]2<H  
12.2 薄膜光学常数测量 ZpvURp,I  
12.3 薄膜应力测量 cw|3W]  
12.4 薄膜损伤测量 / E}L%OvE  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 C?m2R(RF  
9z6-HZG'~<  
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0F> ils  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
e=&,jg?K  
内容简介 `dekaRo  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 }vzP\  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 I ,8   
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 4v9jGwnzt  
2%P{fJbwd  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
yIy'"BCxM  
目录 :@#9P,"  
Preface 1 9"hH2jc  
内容简介 2 Q46^i7=  
目录 i CAg~K[  
1  引言 1 Ey96XJV  
2  光学薄膜基础 2 j}O~6A>|  
2.1  一般规则 2 E#}OIZ\S  
2.2  正交入射规则 3 9'+Eu)l:  
2.3  斜入射规则 6 V&)Jvx}^  
2.4  精确计算 7 :0N} K}  
2.5  相干性 8 P t< JF  
2.6 参考文献 10 Cge@A'2  
3  Essential Macleod的快速预览 10 4A0 ,N8ja}  
4  Essential Macleod的特点 32 OBY^J1St  
4.1  容量和局限性 33 z7TMg^9 #  
4.2  程序在哪里? 33 mbT4K8<^  
4.3  数据文件 35 :Y wb  
4.4  设计规则 35 h|~I'M]*  
4.5  材料数据库和资料库 37 fk%W0 7x!  
4.5.1材料损失 38 Nl/^ga  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 =T"R_3[NC  
4.5.2 材料库 41 'kBg3E$y  
4.5.3导出材料数据 43 ;IyA"C(i  
4.6  常用单位 43 y buKwZFC  
4.7  插值和外推法 46 4^uQB(}Z  
4.8  材料数据的平滑 50 V'b$P2 ?^  
4.9 更多光学常数模型 54 vYl2_\,Y?  
4.10  文档的一般编辑规则 55 3Ye{a<ckK  
4.11 撤销和重做 56 %M)LC>c  
4.12  设计文档 57 RZMR2fP%  
4.10.1  公式 58 @vyq?H$U;N  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Cp"a,%b6u  
4.10.3  沉积密度 59 suKr//_  
4.10.4 平行和楔形介质 60 %lsRj)n  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 /3Y\s&y  
4.10.4  性能 61 lV%oIf[OB  
4.10.5  保存设计和性能 64 :/A7Z<u,  
4.10.6  默认设计 64 W*2d!/;7>  
4.11  图表 64 z|Y  Ms?  
4.11.1  合并曲线图 67 ?iXN..6x  
4.11.2  自适应绘制 68 c'|](vOd]  
4.11.3  动态绘图 68 WwDd62g  
4.11.4  3D绘图 69 [D%(Y ~2  
4.12  导入和导出 73 E P3Vz8^  
4.12.1  剪贴板 73 HQkK8'\LP  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 j_3`J8WwF  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 px${ "K<  
4.13  背景 77 ) kMF~S|H  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 wK]p`:3  
4.15  生成Rugate 84 xeNj@\jdC5  
4.16  参考文献 91 *Jwx,wF}4  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 B6kc9XG  
5.1  Jobs 92 6 2:FlW>  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 ?3 S{>+'  
5.3  输入材料 94 5Z@0XI  
5.4  设计数据文件夹 95 y5{Vx{V"Q  
5.5  默认设计 95 AZ.$g?3w  
6  细化和合成 97 2A=q{7s  
6.1  优化介绍 97 3N[Rrxe2  
6.2  细化 (Refinement) 98 *fCmZ$U:{  
6.3  合成 (Synthesis) 100 Gf=3h4  
6.4  目标和评价函数 101 Fy 1- >~  
6.4.1  目标输入 102 +'|nsIx,  
6.4.2  目标 103 FG!2h&k  
6.4.3  特殊的评价函数 104 jd`h)4  
6.5  层锁定和连接 104 -e4TqzRr  
6.6  细化技术 104 oGRd ;hsF  
6.6.1  单纯形 105 j-cp  
6.6.1.1 单纯形参数 106 bWgRGJqt  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ~^TH5n  
6.6.2.1 Optimac参数 108 `r'$l<(4WV  
6.6.3  模拟退火算法 109 F|jl=i  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 N7u|< 0[  
6.6.4  共轭梯度 111 A?bqDy  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ?$K.*])e  
6.6.5  拟牛顿法 112 ds2%i  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 S]&:R)#@  
6.6.6  针合成 113 ?W>`skQ  
6.6.6.1 针合成参数 114 QWc,JCu  
6.6.7 差分进化 114 GT7&>}FJ)  
6.6.8非局部细化 115 _\8jnpT:  
6.6.8.1非局部细化参数 115 ff;~k?L  
6.7  我应该使用哪种技术? 116  + \]-"  
6.7.1  细化 116 '}^qz#w   
6.7.2  合成 117 ]Twyj  
6.8  参考文献 117 k Nvb>v  
7  导纳图及其他工具 118 h,?%,GI  
7.1  简介 118 TSD7R  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 Xs{PAS0  
7.2.1  四分之一波长规则 119 W#+f2 RR  
7.2.2  导纳图 120 fK6[ p&  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ?b:Pl{?  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 >F>VlRg  
7.5  斜入射导纳图 141 bg!(B<!X  
7.6  对称周期 141 i)$P1h  
7.7  参考文献 142 kY?tUpM!TB  
8  典型的镀膜实例 143 * RyU*au  
8.1  单层抗反射薄膜 145 $q*a}d[Q  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 'QQq0.  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 "IB36/9  
8.4  W-膜层 148 2F+"v?n=\  
8.5  V-膜层 149 >$tU @mq  
8.6  V-膜层高折射基底 150 wfv\xHG  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 U9\\8  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 @t a:9wZ  
8.9  四层抗反射薄膜 153 n5%\FFG0M  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 dl"=ZI '^  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ttdY]+Fj  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 Zs]n0iwM'@  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 _9]vlxgtG(  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 :tbgX;tCs5  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 R`Fgne$4  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 gs3c1Qa3b  
8.17  1/4波长堆栈 162 |{Ex)hkw  
8.18  陷波滤波器 163 oNIYO*[  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 8Ji`wnkXe  
8.20  褶皱 165 ^.R!sQ  
8.21  消偏振分光器1 169 ZY8w1:'  
8.22  消偏振分光器2 171 N,Z*d  
8.23  消偏振立体分光器 172 Z.&/,UU:4  
8.24  消偏振截止滤光片 173 W+GC3W   
8.25  立体偏振分束器1 174 o">~ObR  
8.26  立方偏振分束器2 177 7~FHn'xt  
8.27  相位延迟器 178 z"T+J?V/  
8.28  红外截止器 179 O PzudO  
8.29  21层长波带通滤波器 180 &TY74 w*  
8.30  49层长波带通滤波器 181 ! d<R =L  
8.31  55层短波带通滤波器 182 f=k#o2  
8.32  47 红外截止器 183 ZG 0^O"B0  
8.33  宽带通滤波器 184 bZ1*:k2  
8.34  诱导透射滤波器 186 `kJ)E;v;3  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ?_FL 'G  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 Pn^`_  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 `u}_O(A1pA  
8.35  增益平坦滤波器 193 ;py9,Wno  
8.38  啁啾反射镜 1 196 >O<a9wz  
8.39  啁啾反射镜2 198 I5q $QQK  
8.40  啁啾反射镜3 199 ?)J/uU2w  
8.41  带保护层的铝膜层 200 Zj!,3{jX^  
8.42  增加铝反射率膜 201 -yB}(69  
8.43  参考文献 202 A"ATtid  
9  多层膜 204 MOK}:^bSu  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 L /:^;j`c  
9.2  内部透过率 204 "D8WdV(  
9.3 内部透射率数据 205 \H bZ~I-  
9.4  实例 206 EYn?YiVFU  
9.5  实例2 210 L'r&'y[  
9.6  圆锥和带宽计算 212 g=[OH  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 F$DA/{.D  
10  光学薄膜的颜色 216 |YsR;=6wT  
10.1  导言 216 s2"`j-iQ  
10.2  色彩 216 iAZ8Y/  
10.3  主波长和纯度 220  t1 YB  
10.4  色相和纯度 221 )M.s<Y  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 gy%.+!4>v`  
10.6 色差 226 =TDKU  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 2zqaR[C  
10.8  颜色渲染指数 234 A[uE#T ^  
10.9  色差计算 235 )-_^vB  
10.10  参考文献 236 #<< el;n  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 { 7jim  
11.1  短脉冲 238 g%l ,a3"  
11.2  群速度 239 $*942. =Q  
11.3  群速度色散 241 wYf\!]}'  
11.4  啁啾(chirped) 245 S?d<P  
11.5  光学薄膜—相变 245 {o5|(^l  
11.6  群延迟和延迟色散 246 g}v](Q  
11.7  色度色散 246 Ny2 Z <TW  
11.8  色散补偿 249 F<k+>e  
11.9  空间光线偏移 256  Rpgg :  
11.10  参考文献 258 n!4\w>h  
12  公差与误差 260 GZ~Tl0U  
12.1  蒙特卡罗模型 260 A|8"}Hm  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 JY2<ECO  
12.2.1  误差工具 267 ySr,HXz  
12.2.2  灵敏度工具 271 gMI%!Y  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 #zTy7ZS,0  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ;:D-}t;  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 .qSDe+A  
12.3  参考文献 276 3A!a7]fW  
13  Runsheet 与Simulator 277 6 X~><r  
13.1  原理介绍 277 YK6LJv}  
13.2  截止滤光片设计 277 x|a&wC2,{  
14  光学常数提取 289 UsyNn39  
14.1  介绍 289 Jz` jN~  
14.2  电介质薄膜 289 ;&&<zWq3h  
14.3  n 和k 的提取工具 295 %`C*8fc&  
14.4  基底的参数提取 302 3_)I&RM  
14.5  金属的参数提取 306 QcL@3QC  
14.6  不正确的模型 306 \W .CHSD  
14.7  参考文献 311 d}4NL:=&  
15  反演工程 313 :s_> y_=g  
15.1  随机性和系统性 313 U`q keNd  
15.2  常见的系统性问题 314 qR'FbI  
15.3  单层膜 314 6^gp /{  
15.4  多层膜 314 M!J7Vj?Ps  
15.5  含义 319 !G-+O#W`  
15.6  反演工程实例 319 T&_&l;syA  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ^[7Mp  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 btuG%D{a^  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 'IX1WS&\"  
16.1  光学性质的热致偏移 329 @e)}#kN.  
16.2  应力工具 335 X%'z  
16.3  均匀性误差 339 ekhv.;N~  
16.3.1  圆锥工具 339 6Cj7 =|L7  
16.3.2  波前问题 341 X(ph$,[  
16.4  参考文献 343 XLn9NBT4K  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 .J75bX5  
17.1  引言 345 ~A=zjkm  
17.2  操作数 345 pJ] Ix *M  
18  如何在Function中编写脚本 351 rw'+2\  
18.1  简介 351 \EfX3ghPI  
18.2  什么是脚本? 351 KQPu9f9  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 /Sj~lHh  
18.4  基础 352 "Au4&Fu  
18.4.1  Classes(类别) 352 BTkx}KK  
18.4.2  对象 352 3^UdB9j;  
18.4.3  信息(Messages) 352 n)kbQ]  
18.4.4  属性 352 eB5>uKa  
18.4.5  方法 353 p/<DR |  
18.4.6  变量声明 353 n4k q=Z%  
18.5  创建对象 354 w ~*@TG  
18.5.1  创建对象函数 355 Ocdy;|&  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 M1kA-Xr  
18.5.3 丢弃对象 356 oN1D&*  
18.5.4  总结 356 +yP!7]  
18.6  脚本中的表格 357 BD C DQ  
18.6.1  方法1 357 f)*"X[)o  
18.6.2  方法2 357 t neTOj  
18.7 2D Plots in Scripts 358 U+!RIF[Je  
18.8 3D Plots in Scripts 359 "|8oFf)l@B  
18.9  注释 360 =npE?wK  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ?#K.D vGJ  
18.11  一个更高级的脚本 362 GY]P(NU  
18.12  <esc>键 364 (GmBv  
18.13 包含文件 365 ~qgh w@Q~  
18.14  脚本被优化调用 366 z By%=)`  
18.15  脚本中的对话框 368 0zr27ko  
18.15.1  介绍 368 D^6*Cwb  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 w<9rTHG8,  
18.15.3  输入框函数 370 O@Aazc5K  
18.15.4  自定义对话框 371 .C^P6S2oJ  
18.15.5  对话框编辑器 371 z(\a JW  
18.15.6  控制对话框 377 FHOw ]"#  
18.15.7  更高级的对话框 380 t$!zgUJ  
18.16 Types语句 384 ]pR?/3  
18.17 打开文件 385 )7 p" -  
18.18 Bags 387 Ce}`z L  
18.13  进一步研究 388 xOTvrX  
19  vStack 389 o'DtW#F  
19.1  vStack基本原理 389 u} mj)Nk  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 X"{%,]sb G  
19.3  五棱镜 393 H a!,9{T  
19.4 光束距离 396 (]#^q8)]\9  
19.5 误差 399 _w\9 \<%  
19.6  二向分色棱镜 399 9lYKG ^#D  
19.7  偏振泄漏 404 k)b{ UFRW  
19.8  波前误差—相位 405 kk=n&M  
19.9  其它计算参数 405 << 6 GE  
20  报表生成器 406 layxtECP(  
20.1  入门 406 xvTtA61Vp  
20.2  指令(Instructions) 406 mo| D  
20.3  页面布局指令 406 T~]~'+<Pi  
20.4  常见的参数图和三维图 407 9<Pg2#*N0  
20.5  表格中的常见参数 408 =!\Nh,\eQ  
20.6  迭代指令 408 {lds?AuK  
20.7  报表模版 408 #`SAc`:n  
20.8  开始设计一个报表模版 409 g6Vkns4  
21  一个新的project 413 \ja6g  
21.1  创建一个新Job 414 R{@saa5I(>  
21.2  默认设计 415 7:UeE~ uB:  
21.3  薄膜设计 416  y<Koc>8  
21.4  误差的灵敏度计算 420 #*.!J zOg  
21.5  显色指数计算 422 xG sOnY;  
21.6  电场分布 424 ^OV; P[  
后记 426 (ks>F=vk*  
1mmL`M1  
 kORWj<  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 @8W@I|  
6Ryc&z5  
《Essential Macleod中文手册》
lD0p=`.  
(@^9oN~}  
目  录 e1Db +QBV  
a OmG,+o  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 JT 7WZc)  
第1章 介绍 ..........................................................1 ? $B4'wc5  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 iWt%Boyi  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 pz^S3fy  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 K&[0`sH!  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 L0![SE>  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 q-z1ElrN7u  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 V>Jr4z  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 IUOf/mM5  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 2* g2UP  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 S|=)^$:  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 b~^'P   
第12章 优化和综合 ..................................................................120 .BP d06y  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 g (&cq  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 C@qWour  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 #4AU&UM+i  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 6/;YS[jX  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 6[t<g=  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 5RLO}Vn]  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 7@{%S~TN  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 v6)QLp  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ' #K@%P  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 "W5MZ  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 VESvCei  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 = o(}=T>:"  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 @* hv|zjs  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 Qy:yz  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 ~|KqG  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ~?NCmU=3  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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