线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:261
时间地点 \,[Qg#W$u  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 Y:G6Nd VFM  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 W!I"rdo;V  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 z]Z>+|  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 q NU\XO`H  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
s>~!r.GC  
特邀专家介绍 b.h~QyI/W  
jN 5Hku[?  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 kJ>l, AD/  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 5h+g^{BE  
课程概要 q>r9ooN  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 C>N)~Ut  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 WDY,?  
课程大纲 }{:H0)H*  
1. Essential Macleod软件介绍 m'r6.Hp3Ng  
1.1 介绍软件 u q:>g  
1.2 创建一个简单的设计 xx nW1`]  
1.3 绘图和制表来表示性能 =nA;,9%  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 Ws4aCH1  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)  #It{B  
1.6 特定设计的公式技术 WUGPi'x  
1.7 交互式绘图 3A4?9>g)KU  
2. 光学薄膜理论基础 <N=p_m 2T  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 f_9%kEXICt  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 nmc=RK^cM  
3. 材料管理 Cq u/(=  
3.1 材料模型 rgB`< [:b  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 5IBe;o  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 c3P  
3.4 基板光学常数的提取 9X@y*;w<t  
4. 光学薄膜设计优化方法 5ts8o&|   
4.1 参考波长与g {]] nQ  
4.2 四分之一规则 engql;  
4.3 导纳与导纳图 z++*,2F  
4.4 斜入射光学导纳 %@G<B  
4.5 光学薄膜设计的进展 %K;,qS'N_  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 %xyt4}-)m  
4.6.1 优化目标设置 g*b%  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) ToCB*GlL  
4.6.3 膜层锁定和链接 TPq5"mco  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 niFX8%<hP  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 R5r )01  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 k^p|H:  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 "\vEi &C  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 ' ,a'r.HJH  
5.5 如何在Function中编写脚本 D+LeZBJ  
6. 光学薄膜系统案例 (pH13qU5  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 MQD UJ^I$  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 `U#*O+S-^  
6.3 Stack应用范例说明 K:V_,[gO  
7. 薄膜性能分析 ]"q)X{G(+  
7.1 电场分布 uz&CUvos  
7.2 公差与灵敏度分析 \Z ] <L  
7.3 反演工程 @PZ&/F ^  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 z62e4U][  
8. 真空技术 +Ys<V  
8.1 常用真空泵介绍 ^%)'wDK  
8.2 真空密封和检漏 jLI(Z  
9. 薄膜制备技术 lHV bn7  
9.1 常见薄膜制备技术 pTST\0?  
10. 薄膜制备工艺 {Lk~O)E  
10.1 薄膜制备工艺因素 0 4x[@f`  
10.2 薄膜均匀性修正技术 *["9;_KD  
10.3 光学薄膜监控技术 .2C}8GGC'  
11. 激光薄膜 AJiEyAC!)5  
11.1 薄膜的损伤问题 `]FA} wC  
11.2 激光薄膜的制备流程 a"b9h{h@  
11.3 激光薄膜的制备技术 S3MMyS8  
12. 光学薄膜特性测量 M9_ y>N[0  
12.1 薄膜光谱测量 F8Rd#^9PD  
12.2 薄膜光学常数测量 ZQD_w#0j  
12.3 薄膜应力测量 5:hajXd  
12.4 薄膜损伤测量 G+=eu K2]  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 ]~U4;  
1wW8D>f]K  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介 Zuo7MR  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ?NGM<nK;7  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 (WVN*OR?  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 -=&r}/&  
up=4B  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
ZC_b`q<  
目录 =V5<>5"M?  
Preface 1 I')URk[  
内容简介 2 1U;je,)  
目录 i hvtg_w6K  
1  引言 1 7Wmk"gp  
2  光学薄膜基础 2 e-ljwCD  
2.1  一般规则 2 GLB7h 9>  
2.2  正交入射规则 3 Y 1rU  
2.3  斜入射规则 6 mv/'H^"[_  
2.4  精确计算 7 -w1U /o.  
2.5  相干性 8 pZ/x,b#.  
2.6 参考文献 10 \;&j;"c,W  
3  Essential Macleod的快速预览 10 E b-?wzh  
4  Essential Macleod的特点 32 c+f~>AaI  
4.1  容量和局限性 33 xlp^XT6#  
4.2  程序在哪里? 33 8Focs p2  
4.3  数据文件 35 yH;=Y1([  
4.4  设计规则 35 R56:}<Y,  
4.5  材料数据库和资料库 37 Ett%Y*D+J  
4.5.1材料损失 38 T6=c9f?7  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 p(8H[L4Y  
4.5.2 材料库 41 R 3TdQ6j  
4.5.3导出材料数据 43 @.yp IE\  
4.6  常用单位 43 DxdiXf[j  
4.7  插值和外推法 46 "o*(i7T=n  
4.8  材料数据的平滑 50 WNrgqyM  
4.9 更多光学常数模型 54 b6RuYwHWV0  
4.10  文档的一般编辑规则 55 #~^#%G  
4.11 撤销和重做 56 VU J*\Sg  
4.12  设计文档 57 a}|B[b  
4.10.1  公式 58 SQDllG84E  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Jt\?,~,  
4.10.3  沉积密度 59 Z*tB=  
4.10.4 平行和楔形介质 60 e%uPZ >'q  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 |a%&7-;   
4.10.4  性能 61 (TM1(<j  
4.10.5  保存设计和性能 64 ;+'x_'a  
4.10.6  默认设计 64 gtHWd;1&f  
4.11  图表 64 dT4?8:  
4.11.1  合并曲线图 67 OCnQSkj  
4.11.2  自适应绘制 68 kO{A]LnAH  
4.11.3  动态绘图 68 $ jWe!]ASU  
4.11.4  3D绘图 69 wb~#=6Y  
4.12  导入和导出 73 L9M0vkgri  
4.12.1  剪贴板 73 yDg`9q.ckm  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 w6zB uW  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 @;_xFL;{g  
4.13  背景 77 5MfbO3  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 qPDe;$J)  
4.15  生成Rugate 84 9_)*b  
4.16  参考文献 91 cK%Sty'8+  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 bW\OKI1  
5.1  Jobs 92 87l(a,#J  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 -f@~{rK.L  
5.3  输入材料 94 Jte:U*2  
5.4  设计数据文件夹 95 ZX[ @P?A+-  
5.5  默认设计 95 `qnSq(tNq  
6  细化和合成 97 FBJw (.Jr  
6.1  优化介绍 97 N9QHX  
6.2  细化 (Refinement) 98 o *)>aw  
6.3  合成 (Synthesis) 100 1 41@$mMzE  
6.4  目标和评价函数 101 P&@ 2DI3m  
6.4.1  目标输入 102 1vk& ;  
6.4.2  目标 103 %"B+;{y(5  
6.4.3  特殊的评价函数 104 21Mr2-#z  
6.5  层锁定和连接 104 qIIc>By(\"  
6.6  细化技术 104 mj:X'BVA  
6.6.1  单纯形 105 04g=bJ  
6.6.1.1 单纯形参数 106 r#hA kOw  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 1(t{)Z<  
6.6.2.1 Optimac参数 108 t1"-3afe  
6.6.3  模拟退火算法 109 x8 :  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 }TE4)vXs  
6.6.4  共轭梯度 111 *{[jO&& J  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 5q4sxY9T  
6.6.5  拟牛顿法 112 9jW/"  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 50h?#u6?  
6.6.6  针合成 113 z0|%h?N  
6.6.6.1 针合成参数 114 zr#n^?m  
6.6.7 差分进化 114 |rW,:&;  
6.6.8非局部细化 115 12r]"?@|s  
6.6.8.1非局部细化参数 115 $p? gai{o  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 21ng94mC  
6.7.1  细化 116 OwRH :l  
6.7.2  合成 117 Y,0D+sO4  
6.8  参考文献 117 Zw6UH;5  
7  导纳图及其他工具 118 t$+[(}@ +  
7.1  简介 118 /WqiGkHV*  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 qcpAjjK  
7.2.1  四分之一波长规则 119 wP:ab  
7.2.2  导纳图 120 >Z%qkU/  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 $7\Al$W\  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 NABVU0}   
7.5  斜入射导纳图 141 @px 4[  
7.6  对称周期 141 luLt~A3H$  
7.7  参考文献 142 2x3%*r$  
8  典型的镀膜实例 143 SA3!a.*c  
8.1  单层抗反射薄膜 145 3pQ^vbQ"  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 R/5@*mv{  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 :x*#RnRr.  
8.4  W-膜层 148 FQ6jM~  
8.5  V-膜层 149 ZDffR: An  
8.6  V-膜层高折射基底 150 lJ y\Ky(*  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 )Pj8{.t4  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 R8"qDj  
8.9  四层抗反射薄膜 153 b@9>1d$  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 [&_c.ti  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ftr?@^  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 7Qoy~=E  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 &v}c3wL]  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 [*i6?5}-  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 'UW]~  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 y*6-?@  
8.17  1/4波长堆栈 162 b Ag>;e(  
8.18  陷波滤波器 163 ^j-w^)@T  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Y\cQ "9  
8.20  褶皱 165 `-,yJ  
8.21  消偏振分光器1 169  v7Q=  
8.22  消偏振分光器2 171 LA\)B"{J  
8.23  消偏振立体分光器 172 bi =IIVlH  
8.24  消偏振截止滤光片 173 fG{ 9doUD  
8.25  立体偏振分束器1 174 vBRW5@  
8.26  立方偏振分束器2 177 TOUP.,f/!  
8.27  相位延迟器 178 )cF1?2  
8.28  红外截止器 179 Wu:@+~J.h  
8.29  21层长波带通滤波器 180 m`3Mev  
8.30  49层长波带通滤波器 181 .WeP]dX%:f  
8.31  55层短波带通滤波器 182 Zcq 4?-&  
8.32  47 红外截止器 183 v8PH(d2{@  
8.33  宽带通滤波器 184 c+_F}2)  
8.34  诱导透射滤波器 186 Z3jtq-y  
8.35  诱导透射滤波器2 188 uoX] #<1J  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ~-dL #;  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 BkO)hze  
8.35  增益平坦滤波器 193 Q|3SYJf  
8.38  啁啾反射镜 1 196 ~C;1}P%9x  
8.39  啁啾反射镜2 198 c <T'_93  
8.40  啁啾反射镜3 199 cag9f?w@V  
8.41  带保护层的铝膜层 200 O7KR~d  
8.42  增加铝反射率膜 201 gJn_Z7MgJ  
8.43  参考文献 202 _mi(:s(  
9  多层膜 204 $hCPmiI  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 ab5uZ0@  
9.2  内部透过率 204 4t Z. T9d  
9.3 内部透射率数据 205 ku`bwS  
9.4  实例 206 HJV8P2f8`  
9.5  实例2 210 #c2InwZV  
9.6  圆锥和带宽计算 212 GiF})e}  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 tOu:j [  
10  光学薄膜的颜色 216 |ULwUi-r  
10.1  导言 216 1!;}#m7v  
10.2  色彩 216 .W9/*cZV0  
10.3  主波长和纯度 220 l}Fa-9_'  
10.4  色相和纯度 221 #9Fe,  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 %s#`i$|z*n  
10.6 色差 226 C}~/(;1V=  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 REmD*gf  
10.8  颜色渲染指数 234 2k^dxk~$V;  
10.9  色差计算 235 4-YXXi}  
10.10  参考文献 236 VB?mr13}G  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 o`@B*, @  
11.1  短脉冲 238 ^edg@fp  
11.2  群速度 239 CCX!>k]  
11.3  群速度色散 241 hVfiF  
11.4  啁啾(chirped) 245 YBX7WZCR  
11.5  光学薄膜—相变 245 jJ' LM>e  
11.6  群延迟和延迟色散 246 /)ubyl]^p  
11.7  色度色散 246 Z_^v#FJ'l  
11.8  色散补偿 249 Nr#Y]9nA  
11.9  空间光线偏移 256 )~](qLSl  
11.10  参考文献 258 qwb`8o  
12  公差与误差 260 OoFQ@zE7%  
12.1  蒙特卡罗模型 260 (5"BKu1t  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 <N{pMz  
12.2.1  误差工具 267 Wv   
12.2.2  灵敏度工具 271 AlQ!Q)y<@  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 C+WHg-l  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 Efb S*f5  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 }/Wd9x  
12.3  参考文献 276 p,?8s%  
13  Runsheet 与Simulator 277 >e4  
13.1  原理介绍 277 n ^T_pqV?X  
13.2  截止滤光片设计 277 KAg<s}gQJ  
14  光学常数提取 289 `;^%t  
14.1  介绍 289 mX8A XWIa  
14.2  电介质薄膜 289 |\/0S  
14.3  n 和k 的提取工具 295 V.IgEE]  
14.4  基底的参数提取 302 ))n7.pB9/  
14.5  金属的参数提取 306 D&WXa|EOK  
14.6  不正确的模型 306 cVZCBcKC?  
14.7  参考文献 311 7eh|5e$@  
15  反演工程 313 %Km_Sy[7']  
15.1  随机性和系统性 313 /D[GXX  
15.2  常见的系统性问题 314 !Xwp;P=  
15.3  单层膜 314 E(T6s^8  
15.4  多层膜 314 ?80@+y]  
15.5  含义 319 Q#@gOn=W\  
15.6  反演工程实例 319 qj71 rj  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 I(8,D[G.m  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 HrA6wn\O  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 ou44vKzS  
16.1  光学性质的热致偏移 329 ?lxI& h  
16.2  应力工具 335 s0Ii;7fA{  
16.3  均匀性误差 339 blZiz2F  
16.3.1  圆锥工具 339 PL8{|Q  
16.3.2  波前问题 341 ^uW!=%D  
16.4  参考文献 343 S^ ?OKqS  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 LnJ/t(KV  
17.1  引言 345 y+RT[*bX5o  
17.2  操作数 345 y(:hN)  
18  如何在Function中编写脚本 351 >GiM?*cC  
18.1  简介 351 JF*JF Ob  
18.2  什么是脚本? 351 `h M:U  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 XN"V{;OP1  
18.4  基础 352 SVp]}!jI  
18.4.1  Classes(类别) 352 *seKph+'c  
18.4.2  对象 352 E{r_CR+8  
18.4.3  信息(Messages) 352 V/+r"le  
18.4.4  属性 352 &Ko}Pv  
18.4.5  方法 353 &86km FA  
18.4.6  变量声明 353 J`O4]XRY  
18.5  创建对象 354 8\8uXOS  
18.5.1  创建对象函数 355 5(MWgC1  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 GI$t8{M  
18.5.3 丢弃对象 356 >b-rAO\{}  
18.5.4  总结 356 0$,Ag;"^?  
18.6  脚本中的表格 357 $B4}('&4FQ  
18.6.1  方法1 357  zUqiz  
18.6.2  方法2 357 !23W=N}82  
18.7 2D Plots in Scripts 358 TE*$NxQ 2  
18.8 3D Plots in Scripts 359 Ta!.oC[  
18.9  注释 360 p;j$i6YJ  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 j:|60hDz^  
18.11  一个更高级的脚本 362 "yc/8{U  
18.12  <esc>键 364 NV;5T3  
18.13 包含文件 365 xP'IyABx  
18.14  脚本被优化调用 366 <_ */  
18.15  脚本中的对话框 368 $X9Ban]  
18.15.1  介绍 368 1l\O9D +$  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 ok'0Byo  
18.15.3  输入框函数 370 1q~U3'l:$  
18.15.4  自定义对话框 371 ue/6DwUv  
18.15.5  对话框编辑器 371 S#+G?I3w  
18.15.6  控制对话框 377 Sct-,K%i  
18.15.7  更高级的对话框 380 $t 1]w]}d  
18.16 Types语句 384 6kT l(+  
18.17 打开文件 385 f\~e&`PV  
18.18 Bags 387 V{Idj\~Jh  
18.13  进一步研究 388 Q|gun}  
19  vStack 389 %8$JL=c  
19.1  vStack基本原理 389 R^](X*  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 2k"a%#H8  
19.3  五棱镜 393 WGG|d)'@  
19.4 光束距离 396 z}C#+VhQ`  
19.5 误差 399 >o 3X)  
19.6  二向分色棱镜 399 tb/u@}")  
19.7  偏振泄漏 404 h%+8}uywZ  
19.8  波前误差—相位 405 =JO|m5z8>  
19.9  其它计算参数 405 ~c?yHpZx%  
20  报表生成器 406 1a4QWGpq  
20.1  入门 406 r=L9x/r  
20.2  指令(Instructions) 406 ":7cZ1VN2  
20.3  页面布局指令 406 v_c'npC  
20.4  常见的参数图和三维图 407 2y_rsu\  
20.5  表格中的常见参数 408 W %R h2l  
20.6  迭代指令 408 1V+1i)+  
20.7  报表模版 408 bHS2;K~  
20.8  开始设计一个报表模版 409 @dCu]0oNI  
21  一个新的project 413 \U !<-  
21.1  创建一个新Job 414 q3NS?t!  
21.2  默认设计 415 J@Zm8r<  
21.3  薄膜设计 416 -&,NM  
21.4  误差的灵敏度计算 420 aE#ZTc=  
21.5  显色指数计算 422 1uV_C[:  
21.6  电场分布 424 `Q(ac| 0  
后记 426 ;xB"D0~,1  
XZ|"7as  
hD >:WJ  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 Vg \-^$  
 b 1[U 9  
《Essential Macleod中文手册》
\|62E):i1  
F|P2\SPL  
目  录 34;c00  
"E''ZBLO~  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 P< WD_W  
第1章 介绍 ..........................................................1 HENCQ_Wra  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 C4 Wdt  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 GV[%P  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 M0]l!x#7  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 29qQ3M?  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 FJU)AjS~  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 =dA T^e##  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 o~4n8  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 akCl05YW  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 *|E@ 81s#  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 0a'@J~v!  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 :X4\4B*~  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 }SN'*w@E  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 'h= >ej*  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 8V|-BP5^  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ZcWl{e4  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 "5y^s!/  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 OT *W]f  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 R3@iN &  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 teB {GR  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ^_=0.:QaW  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 s lI)"+6  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 ,@!d%rL:4]  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 wcL0#[)  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 \!^o<$s.G  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 F 5JgR-P  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 { a_L /"7  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ncA2en?  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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