&u2H^ j 内容简介
oy-y QYX Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
-v! ; 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
_#K?yP? 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
M}e}3w }qT{" *SC 讯技科技股份有限公司
[Ob09#B%:5 2015年9月3日
H<") )EJI 目录
Z4oD6k5oc Preface 1
-}u1ZEND 内容简介 2
rf+Z0C0WYi 目录 i
Ae\:{[c_D 1 引言 1
-AN5LE9- 2 光学薄膜基础 2
H<3:1*E 2.1 一般规则 2
U@9v(TfV 2.2 正交入射规则 3
21O@yNpS$ 2.3 斜入射规则 6
)#8}xAjV 2.4 精确计算 7
S!rVq,| d 2.5 相干性 8
p:V1VHT, 2.6 参考文献 10
=~ k}XB 3 Essential Macleod的快速预览 10
;nrkC\SYh: 4 Essential Macleod的特点 32
Ma4eu8
4.1 容量和局限性 33
/dO*t4$ @? 4.2 程序在哪里? 33
xR8y"CpE 4.3 数据文件 35
PeIKx$$Kl{ 4.4 设计规则 35
l9e=dV:pH 4.5 材料数据库和
资料库 37
eA*We 4.5.1材料损失 38
+|Izjx]ZV 4.5.1材料数据库和导入材料 39
Tm$8\c4V:* 4.5.2 材料库 41
n-g#nEc: 4.5.3导出材料数据 43
+p[O|[z 4.6 常用单位 43
W[R`],x` 4.7 插值和外推法 46
wrc1N?[bn 4.8 材料数据的平滑 50
Fi/`3A@68 4.9 更多光学常数模型 54
&@FufpPw/ 4.10 文档的一般编辑规则 55
P%ThW9^vnj 4.11 撤销和重做 56
Y9I|s{~ 4.12 设计文档 57
KrR`A(=WL 4.10.1 公式 58
@Ko#nDEq 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
=KAN|5yn 4.10.3 沉积密度 59
fw
VI%0C@ 4.10.4 平行和楔形介质 60
-Kw7!
=_ g 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
3-oKY*jO 4.10.4 性能 61
V>`9ey!U 4.10.5 保存设计和性能 64
kZhd^H. 4.10.6 默认设计 64
Khl0 ~ 4.11 图表 64
1;PI%++ 4.11.1 合并曲线图 67
Q eN7~ J 4.11.2 自适应绘制 68
Rn`DUYg 4.11.3 动态绘图 68
}u1h6rd ` 4.11.4 3D绘图 69
byTHSRt 4.12 导入和导出 73
YI;MS:Qj 4.12.1 剪贴板 73
nN^lY=3 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
=f23lA 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
*CbV/j"P? 4.13 背景 77
;.<HpDfG_ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
w+Gav4 4.15 生成Rugate 84
0fLd7*1> 4.16 参考文献 91
,B /b>i 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
[:}"MdU' 5.1 Jobs 92
+=d= 5.2 创建一个新Job(工作) 93
.|Yn[?( 5.3 输入材料 94
y2mSPLw 5.4 设计数据文件夹 95
2G<XA 5.5 默认设计 95
H:
;XU 6 细化和合成 97
m=Gb<)Y 6.1 优化介绍 97
d^v.tYM$N 6.2 细化 (Refinement) 98
fdHFSnQ g 6.3 合成 (Synthesis) 100
2 <@g * 6.4 目标和评价函数 101
2kk; z0f 6.4.1 目标输入 102
;@:-T/= 6.4.2 目标 103
o\PHs4Ws'7 6.4.3 特殊的评价函数 104
K`j:F>b 6.5 层锁定和连接 104
4#.Q|vyl]" 6.6 细化技术 104
MttFB;Tp 6.6.1 单纯形 105
5iI(A'R[7 6.6.1.1 单纯形
参数 106
xn@oNKD0 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
/{/mwS"W 6.6.2.1 Optimac参数 108
T\ukJ25! 6.6.3 模拟退火算法 109
Pp_? z0M 6.6.3.1
模拟退火参数 109
.>~er?- 6.6.4 共轭梯度 111
Crl:v8 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
Ct zWdo. 6.6.5 拟牛顿法 112
hs:iyr]@9 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
$ER9u2 6.6.6 针合成 113
eAqpP>9n 6.6.6.1 针合成参数 114
}W(t>> 6.6.7 差分进化 114
O(9*VoD 6.6.8非局部细化 115
@?;)x&<8?3 6.6.8.1非局部细化参数 115
lDF7~N9J_ 6.7 我应该使用哪种技术? 116
1_]%, 6.7.1 细化 116
sY?wQ: 6.7.2 合成 117
Z}Q/u^Z 6.8 参考文献 117
Y^U^yh_!^ 7 导纳图及其他工具 118
U[OUIXUi 7.1 简介 118
(<@`MPI\@ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
`s3:Vsv4 7.2.1 四分之一
波长规则 119
YfMs~}h, 7.2.2 导纳图 120
*65~qAd 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
ep Dp* 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
`*`ZgTV 7.5 斜入射导纳图 141
M'oZK 7.6 对称周期 141
{x[C\vZsi] 7.7 参考文献 142
m(EVC}Y 8 典型的镀膜实例 143
SQ]M"&\{y 8.1 单层抗反射薄膜 145
fF=tT C 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
R6:m@ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
lz1cLl
m 8.4 W-膜层 148
NR-<2
e3 8.5 V-膜层 149
O*B9Bah 8.6 V-膜层高折射基底 150
2R^Eea 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
g[~J107%A 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
:f7vGO"t 8.9 四层抗反射薄膜 153
Ke]'RfO\ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
{yEL$8MC 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
IG2z3(j 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
>IA1 \?( 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
L|1~'Fz#w 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
<]|!quY<* 8.15十五层宽带抗反射膜 159
a40>_;}:x 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
,_D@ggL- 8.17 1/4波长堆栈 162
/F''4%S?E 8.18 陷波滤波器 163
ER@RWV2 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
Y%@;\ 8.20 褶皱 165
yJlRW!@&: 8.21 消偏振分光器1 169
)KkV<