招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 jO9ip  
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以下是本次培训具体详情： R cY>k  
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✦ 第一天 ;vhyhP.oM  
光学和光线追迹的入门概念 D0Z\Vvy  
ASAP 简介 8pM>Co!  
ASAP 新版本功能 O<9~Kgd8h  
程序检查和3D 查看器 <0|9Tn2O  
ASAP 数据输入 iK;dU2h  
单透镜辐射计示例 ?:^mBb)T  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 -@^Zq}  
照明系统示例 78n=nHS  
基本脚本操作 \u`)kJ5o1  
几何规范和通用几何设置 Ot&:mT!2  
光学特性 ^Yr0@pE  
光源设置 LiDvaF:@L!  
光线追迹概念 fkfZ>D^1  
系统分析与评价 P7r'ffA  
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✦ 第二天 J2GcBzRH  
脚本和 ASAP 编辑器 <Y 4:'L6  
几何可视化与验证 g*\/N,"z  
显示模式 h*0S$p<[1  
辐射强度分布 Y izE5[*  
光源切趾 sK$wN4k  
光线分裂和接收属性 XXmE+aI  
ASAP 宏语言 1`f_P$&Z_J  
ASAP 优化功能 si1*Wt<3Bc  
散射模型和重点采样 L^kp8
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光线路径 `T ^G^7&  
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✦ 第三天 fbrp#G71y  
杂散光术语 ?{o/I
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辐射度学基础 >QQ(m\a$  
杂散光成因 m:tiY [c>W  
杂散光影响、杂散光控制 l2v_?j-)x  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 Q+|{Bs)6i1  
ASAP 杂散光分析流程、步骤 Q>}2cDl  
练习 1- 找关键和被照表面 ;S
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✦ 第四天 ~KjJ\b)R  
散光特性、散射模型 3K/Df#  
练习 2 - 散射模型拟合 :2V^K&2L  
光学表面污染 I"L;L?\S  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 B,$l4m4  
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 Rz%e>)  
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✦ 第五天 P=AS>N^yaL  
衍射杂散光、PST 分析 XY7Qa!>7j  
练习 4 - PST 分析 @`u?bnx]e  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 uE_c4Hp  
练习 5 - 鬼像分析 wWW~_zP0  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 9G?ldp8  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 `cP <}^]  
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•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; r >{G`de4  
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; =?@Q-(bp  
•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 1V&PtI3!!  
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✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 Gu(lI ~  
✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) ;~ 4k7Uz  
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 ^~ =9  
1.提供服务性发票，项目“培训费”; O0~vf[i];  
2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; l4'~}nn(Y  
3.食宿自理。 9 wa,k  
✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 Q ~|R Z7G  
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