招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 &0bq3JGW  
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以下是本次培训具体详情： ??.aLeF&  
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✦ 第一天 EyU6^  
光学和光线追迹的入门概念 M"p%CbcI]  
ASAP 简介 .nVY" C&  
ASAP 新版本功能 t$t'{*t( T  
程序检查和3D 查看器 "bRjY?D  
ASAP 数据输入 GKF!GbGR@  
单透镜辐射计示例 F[jqJzCz  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 0iR?r+|  
照明系统示例 3 i>NKS  
基本脚本操作 ,38M6yD  
几何规范和通用几何设置 ?
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光学特性 7\yh(+kN  
光源设置 - uO(qUa#  
光线追迹概念 _s0
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系统分析与评价 9-_Lc<  
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✦ 第二天 r 20!  
脚本和 ASAP 编辑器 +0*\q  
几何可视化与验证 =a=:+q g  
显示模式 _!,2"dS  
辐射强度分布 9SA%'  
光源切趾 7CF>cpw  
光线分裂和接收属性 ?-3G5yy  
ASAP 宏语言 pnx^a}|px  
ASAP 优化功能 `#!>}/m  
散射模型和重点采样 ZRw^< +  
光线路径 bk=;=K  
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✦ 第三天 $39TP@?:Z)  
杂散光术语 CXz9bhn<4  
辐射度学基础 KI*bWe  
杂散光成因 T1Z*>(M  
杂散光影响、杂散光控制 {0fQ
E@5@  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 wi.E$RckD  
ASAP 杂散光分析流程、步骤 ' i5}`\  
练习 1- 找关键和被照表面 AEWrrE
 
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✦ 第四天 e8:O2!HW  
散光特性、散射模型 `S?_=JIX  
练习 2 - 散射模型拟合 JS\]|~Gd  
光学表面污染 ~Hg*vCd ?  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 :wRfk*Ly  
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 )`Qr=DIsW  
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✦ 第五天 >
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衍射杂散光、PST 分析 _^RN$4.R>  
练习 4 - PST 分析 Uh1UZ r  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 x@O)QaBN!  
练习 5 - 鬼像分析 !~7lY]_U  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 #7:ah  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 z$g__q-  
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•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; Dh#5-Kf%  
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; ei1
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•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 ?=_w5D.3J  
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✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 /&
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✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) cR55,DR,#W  
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 ~K|ha26W  
1.提供服务性发票，项目“培训费”; d%q&[<'jf  
2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; f`-vnh^+  
3.食宿自理。 tOk=m'aUK  
✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 b rDyjh  
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