招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 fz}?*vPW  
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以下是本次培训具体详情： GGnp Pp  
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✦ 第一天 [uR/M
 
光学和光线追迹的入门概念 AK2WN#u@Z  
ASAP 简介 #ia;- 3  
ASAP 新版本功能 1 Z[f {T)  
程序检查和3D 查看器 CMl~=[foW  
ASAP 数据输入 -MfQ&U  
单透镜辐射计示例 *Km7U-BG  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 &erm`Ho  
照明系统示例 9DE)S)e8  
基本脚本操作 g`?:=G:a*  
几何规范和通用几何设置 tu}>:mk  
光学特性 zxKCVRJ  
光源设置 Gi7RMql6Q  
光线追迹概念 ebM{OI  
系统分析与评价 n&!+wcJ;Yt  
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✦ 第二天 C2/}d? bki  
脚本和 ASAP 编辑器 A3+6#?:;  
几何可视化与验证 x-_vl 9P)  
显示模式 o""~jc~  
辐射强度分布 k4y}&?$B  
光源切趾 `|Fp^gM  
光线分裂和接收属性 '6S%9ahE  
ASAP 宏语言 {-WTV"L5*2  
ASAP 优化功能 C-SLjJw  
散射模型和重点采样 )2.)3w1_4  
光线路径 .  /m hu  
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✦ 第三天 }5bM1h#z  
杂散光术语 |~e?,[-2`r  
辐射度学基础 w~+aW(2  
杂散光成因 !B^K[2`)N  
杂散光影响、杂散光控制 |t6~%6^8  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 r@$ w*%  
ASAP 杂散光分析流程、步骤 (:sZ b?*  
练习 1- 找关键和被照表面 /[pqI0sf<A  
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✦ 第四天 NFyMY#\]  
散光特性、散射模型 !OE*z $\  
练习 2 - 散射模型拟合 Ai kf|)D[  
光学表面污染 }ugxN0  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 &/WAZs$2n  
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 (tCib
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✦ 第五天 |NMO__l@  
衍射杂散光、PST 分析 ISNcswN#  
练习 4 - PST 分析 oXgdLtsu  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 >K)2NLW\xA  
练习 5 - 鬼像分析 kb#^lO  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 r9@AT(  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 DxSsg  
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•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; 92[a;a  
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; VmvQvQ/9R  
•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 6/Y1 wu  
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✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 .i/m  
✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) npH?4S-8G  
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 %SA!p;  
1.提供服务性发票，项目“培训费”; Z4q~@|+%  
2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; |jG~,{  
3.食宿自理。
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✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 QL
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