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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) _@VKWU$$ c{39,oF 内容简介 lTFo#p_( Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 2vddx<& 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 jpOcug`f 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Z=<D` 3$BO=hI/- (a~V<v"
8%xiHPVg 目录 u'gsIuRJ Preface 1 *OHjw;xm+ 内容简介 2 f9hH{(A 目录 i |/Y!R>El 1 引言 1 iR8;^C.aT 2 光学薄膜基础 2 Q8h=2YL 2.1 一般规则 2 84s:cO 2.2 正交入射规则 3 ej&o,gX 2.3 斜入射规则 6 H>"P]Y)oX 2.4 精确计算 7 q!q=axfMD 2.5 相干性 8 AboRuHQ 2.6 参考文献 10 Fl"LK:) 3 Essential Macleod的快速预览 10 u/wWD@, 4 Essential Macleod的特点 32 2d<`dQY{l3 4.1 容量和局限性 33 $. sTb 4.2 程序在哪里? 33 FY]Et=p 4.3 数据文件 35 M?kXzb\O 4.4 设计规则 35 Rn{X+b. 4.5 材料数据库和资料库 37 W;U<,g
' 4.5.1材料损失 38 "IWL& cH3 4.5.1材料数据库和导入材料 39 d ;,C[& 4.5.2 材料库 41 5p/.(
|b, 4.5.3导出材料数据 43 s&DAO r!i 4.6 常用单位 43 jtqU`|FSQ 4.7 插值和外推法 46 SK_N|X]. 4.8 材料数据的平滑 50 8P&z@E{y 4.9 更多光学常数模型 54 gV'=uz v 4.10 文档的一般编辑规则 55 P%<MQg|k` 4.11 撤销和重做 56 q@Zeu\T,*# 4.12 设计文档 57 t~Ic{%bdA 4.10.1 公式 58 ^HHT>K-m 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 D@k#'KU 4.10.3 沉积密度 59 s##XC^;p[ 4.10.4 平行和楔形介质 60 ffaMF~+ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 3v)``
n@ 4.10.4 性能 61 ?Uhjyi 4.10.5 保存设计和性能 64 t /lU* 4.10.6 默认设计 64 yW i?2
4.11 图表 64 AQc9@3T~Bi 4.11.1 合并曲线图 67 jLEO-<)-) 4.11.2 自适应绘制 68 <,9rXjeRl 4.11.3 动态绘图 68 @j%7tfW 4.11.4 3D绘图 69 R5<:3tk=X 4.12 导入和导出 73 `>0(N.'T 4.12.1 剪贴板 73 !ed0 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 B5]nP .R 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 B<,AI7 4.13 背景 77 S^~
lQ|D 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 X\BdN Hr 4.15 生成Rugate 84 GEki34
n0 4.16 参考文献 91 BqOMg$<\[ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 2JHV*/Q 5.1 Jobs 92 #jw%0H;l] 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ^K^rl9 5.3 输入材料 94 Q*/jQC 5.4 设计数据文件夹 95 T lB+
tV> 5.5 默认设计 95 KoFWI_(b 6 细化和合成 97 "}<baz 6.1 优化介绍 97 s6I/%R3 6.2 细化 (Refinement) 98 e ,A9N%M 6.3 合成 (Synthesis) 100 q)tNH/ 6.4 目标和评价函数 101 <ol?9tm 6.4.1 目标输入 102 So#>x5dL 6.4.2 目标 103 SFRYX,0m 6.4.3 特殊的评价函数 104 \Pd>$Q 6.5 层锁定和连接 104 =AeOkie 6.6 细化技术 104 \%.&$z3wz 6.6.1 单纯形 105 RNX>I,2sh 6.6.1.1 单纯形参数 106 @u8kNXT;h 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 1xU)nXXb 6.6.2.1 Optimac参数 108 4o( Q+6m 6.6.3 模拟退火算法 109 x|3G}[= 6.6.3.1 模拟退火参数 109 $XrX(l5 6.6.4 共轭梯度 111 S2$r 6T 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 A)kdY!} 6.6.5 拟牛顿法 112 Kp/l2?J"
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 {z8wFL\ 6.6.6 针合成 113 fyv S1_ 6.6.6.1 针合成参数 114 SdJkno 6.6.7 差分进化 114 .+-7 'ux 6.6.8非局部细化 115 .H5^ N\V| 6.6.8.1非局部细化参数 115 }kk[lvhJ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 QQUZneIDp 6.7.1 细化 116 e{*z4q1 6.7.2 合成 117 m>'#664q1 6.8 参考文献 117 :Y&h'FGZm 7 导纳图及其他工具 118 (vbI4&r 7.1 简介 118 vNAQ/Q 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 4pFoSs?\ 7.2.1 四分之一波长规则 119 UFr5'T 7.2.2 导纳图 120 ?;p45y~n% 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Q% J! 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 }yM!o`90 7.5 斜入射导纳图 141 wmit>69S 7.6 对称周期 141 eo4v[V& 7.7 参考文献 142 q_0,KOGW 8 典型的镀膜实例 143 C0'_bTfB 8.1 单层抗反射薄膜 145 Oa7jLz'i 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 c nV2}U/\ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 dxF)) Z 8.4 W-膜层 148 2;YL+v2 8.5 V-膜层 149 <7J\8JR&= 8.6 V-膜层高折射基底 150 / U"3LX 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ?,*KA Gg% 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 6 kAXE\T 8.9 四层抗反射薄膜 153 ;d||u 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ?uqPye1fc 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 /@K1"/fqH 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 &fgfCZz' 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 :-1
i1d 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 +rOd0? 8.15十五层宽带抗反射膜 159 /1LQx>1d 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 uJL[m(G 8.17 1/4波长堆栈 162 etH]-S 8.18 陷波滤波器 163 "A& |